【技术实现步骤摘要】
一种在FPGA中实现直写式光刻机数据倾斜的方法
本专利技术涉及一种直写式光刻机数据倾斜的方法,具体是一种在FPGA中实现直写式光刻机数据倾斜的方法,属于直写式光刻机数据处理领域。
技术介绍
在半导体及PCB的生产领域,不同于传统半自动曝光设备的直写式光刻机作为一个关键设备,又被称为影像直接转移设备,是利用图形发生器取代传统光刻机的掩模板,可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆或PCB板上,节省了制板时间和制作掩模板的费用,并且自身也可用做掩模板的制作。倾斜式曝光是指使图形发生器与待曝光平面沿其扫描方向(Y方向)旋转一定角度,再配合光学成像技术,使其达到减小网格精度的技术,以此来实现制作更小线宽的硬件电路,同时可显著提高设备的产能。目前,数字微镜芯片(简称DMD)作为大多数直写式光刻机常用的图形发生器,在倾斜式曝光过程中,实际数据的一行不再单单对应着DMD的一行微镜,而是根据倾斜控制字K,对应着DMD的K行镜片,即采用K行DMD微镜镜片实现真实数据的一行曝光;故在利用DMD进行曝光之前,需要对真实数据进行相应的倾斜处理。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题,本专利技 ...
【技术保护点】
一种在FPGA中实现直写式光刻机数据倾斜的方法,其特征在于,数据倾斜的步骤如下:(1)首先将每行数据按照每列及倾斜控制字K进行提取分组,即将数据每隔K列挑出一列放在一起组成一组,共K组;(2)将步骤(1)得到的各组数据分别送入并行的倾斜模块进行Y方向上的倾斜处理,每组数据中的每列数据依次向下移位一个像素,各组数据之间依次向下移位K个像素,因向下移位所空缺出来的数据位由寄存器的初始化值进行补充;处理后生成的数据送入DDR2进行缓存;(3)最后,将DDR2中存储的数据读出,并进行X方向上的倾斜,即根据倾斜控制字K将数据在X方向上每K行错位一列,因错位所空缺出来的数据位由寄存器的 ...
【技术特征摘要】
1.一种在FPGA中实现直写式光刻机数据倾斜的方法,其特征在于,数据倾斜的步骤如下:(1)首先将每行数据按照每列及倾斜控制字K进行提取分组,即将数据每隔K列挑出一列放在一起组成一组,共K组;(2)将步骤(1)得到的各组数据分别送入并行的倾斜模块进行Y方向上的倾斜处理,每组数据中的每列数据依次向下移位一个像素,各组数据之间依次向下移位K个像素,因向下移位所空缺出来的数据位由寄存器的初始化值进行补充;处理后生成...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹旸,李阳,
申请(专利权)人:江苏影速光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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