【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种晶片烘干装置。
技术介绍
在晶片的制造过程中，表面会有油污、化学药剂、蜡、金属的残留，清洗站用于将这些残留物清洗掉，清洗后的晶片需要进行烘干。现有的烘干装置为普通烤箱，对晶片的单一位置烘干，使晶片受热不均，导致晶片的一面烘干不到位，而另一面容易烤坏。
技术实现思路
本技术提供了一种晶片烘干装置，它结构设计合理，使用方便，能够使晶片表面均匀受热，晶片的两面均能烘干到位且不会被烤坏，解决了现有技术中存在的问题。本技术为解决上述技术问题所采用的技术方案是:它包括工作台、一个主动齿轮和若干个从动齿轮，所述主动齿轮和从动齿轮均可转动的安装在工作台上，主动齿轮与从动齿轮啮合，若干个从动齿轮均布在主动齿轮周围；所述主动齿轮通过驱动电机驱动，主动齿轮上安装有红外线烤灯；所述从动齿轮上安装有晶片托架，所述晶片托架上设有晶片容置凹槽。所述从动齿轮有六个。所述红外线烤灯为圆柱形。所述工作台的底部设有支腿。所述支腿上设有带驻刹的万向轮。所述工作台的一侧设有推拉支架。本技术采用上述方案，在烘烤过程中能够使晶片表面均匀受热，晶片的两面均能烘干到位且不会被烤坏。【附图说明】图1为本技术的结构示意图。图2为图1的俯视图。图中:1、工作台，2、主动齿轮，3、从动齿轮，4、驱动电机，5、红外线烤灯，6、晶片托架，7、支腿，8、万向轮，9、推拉支架，10、晶片。【具体实施方式】为能清楚说明本方案的技术特点，下面通过【具体实施方式】，并结合其附图，对本技术进行详细阐述。如图1?图2所示，本技术包括工作台1、一个主动齿轮2和六个从动齿轮3，主动齿轮2和从动齿轮3均可转动的安装在...
【技术保护点】
一种晶片烘干装置，其特征在于：包括工作台（1）、一个主动齿轮（2）和若干个从动齿轮（3），所述主动齿轮（2）和从动齿轮（3）均可转动的安装在工作台（1）上，主动齿轮（2）与从动齿轮（3）啮合，若干个从动齿轮（3）均布在主动齿轮（2）周围；所述主动齿轮（2）通过驱动电机（4）驱动，主动齿轮（2）上安装有红外线烤灯（5）；所述从动齿轮（3）上安装有晶片托架（6），所述晶片托架（6）上设有晶片容置凹槽。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘树奇，吕尧池，
申请(专利权)人：山东百利通亚陶科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37
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