本技术公开了一种晶体刻蚀承载料条，包括从上至下依次分体设置的晶体固定板、掩膜板和底座，所述掩膜板可拆卸设置于所述底座上，所述晶体固定板可拆卸或者固定设置于所述底座上；所述晶体固定板、掩膜板和底座通过贯穿三者的连接件连接。本技术的晶体刻蚀...

本发明提供了一种晶振的优化工艺，包括：将点胶后的晶振初级品进行固化和钝化；所述固化和钝化在同一设备中进行，所述设备在真空条件下对所述晶振初级品加热并保持不同温度环境。本申请还提供了晶振的生产工艺。本申请提供的晶振的优化工艺中，所述固化和...

本申请公开了一种校正与测试装置，涉及校正与测试装置技术领域，包括底座、转盘和测试头，其中，转盘可转动地设于底座，转盘用于安装校正片和测试件，测试头可升降地设于底座，测试头用于连接转盘上的校正片以实现校正操作，或者连接转盘上的测试件以实现...

本申请公开了一种打磨装置，涉及打磨装置技术领域，打磨装置用于打磨离子枪，打磨装置包括打磨头、旋转驱动机构、支架和升降台。其中，打磨头用于对离子枪上的沉淀物和氧化物进行打磨，旋转驱动机构连接打磨头，旋转驱动机构用于驱动打磨头运转，以实现打...

本实用新型公开了一种离子枪温度监控系统及离子刻蚀机，涉及半导体刻蚀技术领域，离子枪温度监控系统包括：真空腔室；离子枪，位于真空腔室内；冷却流路，用于为离子枪降温，且冷却流路设置有流量计，流量计用于实时检测冷却流路内的流量；温度检测器，设...

本实用新型涉及一种晶片烘干装置。它包括工作台、一个主动齿轮和若干个从动齿轮，所述主动齿轮和从动齿轮均可转动的安装在工作台上，主动齿轮与从动齿轮啮合，若干个从动齿轮均布在主动齿轮周围；所述主动齿轮通过驱动电机驱动，主动齿轮上安装有红外线烤...

本实用新型涉及一种负压承载装置。它包括承载座、吸尘分类装置和抽真空装置；承载座包括底座，支架将凹腔分隔为若干个凹腔单体，在支架上固连有盖合凹腔的盖板，盖板上密布有若干个与凹腔相连通的吸孔，在承载座一侧设有气体分流器，每个凹腔单体通过第一...

本实用新型涉及一种消磁装置。消磁机设置于底板上，在消磁机一侧的底板上设有立板，在立板上部设有驱动电机，驱动电机的输出轴朝上设置，驱动电机的输出轴通过连接块与滑轨块固连，在滑轨块上设有滑轨，在滑轨块上设有与其滑轨滑动配合的滑杆，滑杆底面的...

本实用新型提供一种晶片清洗治具，桁架一可以相对于支柱一和支柱二上下滑动，桁架二可以相对于支柱三、支柱四上下滑动。支架组件一与支架组件二之间设有至少一根水管，水管分别与所述桁架一和所述桁架二垂直连接，桁架一、桁架二和水管始终保持在同一水平...

本实用新型涉及一种吸笔。它包括笔体，在笔体内设有吸气管路，在笔体的下端设有吸气管，吸气管内的吸气腔与吸气管路相连通，在吸气管的吸气口处设有吸嘴，在笔体外侧壁上设有与吸气管路相连通的通气孔，在笔体的下端设有挑针，挑针与吸气管背向弯曲设置。...

本实用新型涉及一种掩膜提篮。在盒体内中部设有垂直于盒体后侧板的立板，立板从上到下间隔设有若干个向左凹的左凹槽，立板从上到下间隔设有若干个向右凹的右凹槽，左凹槽和右凹槽交错设置，在与每个左凹槽的开口正对应的盒体右侧板内侧面上设有右凸台，在...

本实用新型涉及一种螺丝盒。它包括一框形架体，在框形架体内设有一与其固连的网板，在网板上均布有若干个网孔，在框形架体底部相对应的两侧设有两个对称设置的L形支架，L形支架包括竖板和底板，两L形支架的竖板的顶端与框形架体底部固连，一集灰盒插入...

本实用新型涉及一种掩膜盛放盒。它包括盒体，盒体的左右两端开口设置，在盒体内设有板体，在板体上设有一组第一网孔，在板体上设有存放盒，在存放盒底部设有一组第二网孔，板体的第一网孔与存放盒的第二网孔相对应设置，在板体下方的盒体内设有集灰盒，集...

一种晶片清洗方法，包括以下步骤：采用酸性清洗剂进行清洗；采用碱性清洗剂进行清洗；采用纯水进行清洗；采用无水乙醇进行清洗；对清洗后的晶片进行烘烤；对清洗后的晶片进行除静电处理。本发明先通过化学反应去除晶片表面的大部分污物及氧化层，再通过流...