抗辐照高速光电耦合器制造技术

技术编号:12840931 阅读:78 留言:0更新日期:2016-02-11 10:05
本实用新型专利技术提供了一种可靠性好的抗辐照高速光电耦合器,包括管座,位于管座上方的外盖板,所述管座内设有多个极片,伸出管座;所述管座外缘设有胶套,所述胶套将极片伸出管座部分包裹住;所述管座上设有凹槽,所述一个极片上设有另一凹槽,所述凹槽内设有光敏芯片,所述另一凹槽内设有发光芯片,所述光敏芯片和发光芯片分别通过金丝与极片相连。本实用新型专利技术的抗辐照高速光电耦合器,结构紧凑,封装效果好,性能可靠。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光电耦合器,尤其是一种抗辐照高速光电耦合器
技术介绍
随着中国航天事业的发展,航天用户对半导体器件抗辐照、高可靠的要求日益突出。以前此类器件抗辐照性能差、可靠性差,不能作为航天器件适用。因此对器件抗辐照性能、高可靠性的需求迫在眉睫。
技术实现思路
本技术提供了一种可靠性好的抗辐照高速光电耦合器。实现本技术目的的抗辐照高速光电耦合器,包括管座,位于管座上方的外盖板,所述管座内设有多个极片,伸出管座;所述管座外缘设有胶套,所述胶套将极片伸出管座部分包裹住;所述管座上设有凹槽,所述一个极片上设有另一凹槽,所述凹槽内设有光敏芯片,所述另一凹槽内设有发光芯片,所述光敏芯片和发光芯片分别通过金丝与极片相连。本技术的抗辐照高速光电耦合器的有益效果如下:本技术的抗辐照高速光电耦合器,结构紧凑,封装效果好,性能可靠。【附图说明】图1为本技术的抗辐照高速光电耦合器的结构示意图。图2为图1的俯视图。【具体实施方式】如图1、2所示,本技术的抗辐照高速光电耦合器,包括管座1,位于管座1上方的外盖板2,所述管座1内设有多个极片6,伸出管座1 ;所述管座1外缘设有胶套7,所述胶套7将极片6伸出管座1部分包裹住;所述管座1上设有凹槽,所述一个极片6上设有另一凹槽,所述凹槽内设有光敏芯片4,所述另一凹槽内设有发光芯片3,所述光敏芯片4和发光芯片3分别通过金丝5与极片6相连。上面所述的实施例仅仅是对本技术的优选实施方式进行描述,并非对本技术的范围进行限定,在不脱离本技术设计精神前提下,本领域普通工程技术人员对本技术技术方案做出的各种变形和改进,均应落入本技术的权利要求书确定的保护范围内。【主权项】1.抗辐照高速光电耦合器,其特征在于:包括管座,位于管座上方的外盖板,所述管座内设有多个极片,伸出管座;所述管座外缘设有胶套,所述胶套将极片伸出管座部分包裹住;所述管座上设有凹槽,所述一个极片上设有另一凹槽,所述凹槽内设有光敏芯片,所述另一凹槽内设有发光芯片,所述光敏芯片和发光芯片分别通过金丝与极片相连。【专利摘要】本技术提供了一种可靠性好的抗辐照高速光电耦合器,包括管座,位于管座上方的外盖板,所述管座内设有多个极片,伸出管座;所述管座外缘设有胶套,所述胶套将极片伸出管座部分包裹住;所述管座上设有凹槽,所述一个极片上设有另一凹槽,所述凹槽内设有光敏芯片,所述另一凹槽内设有发光芯片,所述光敏芯片和发光芯片分别通过金丝与极片相连。本技术的抗辐照高速光电耦合器,结构紧凑,封装效果好,性能可靠。【IPC分类】H01L25/16, H03K19/14【公开号】CN205028900【申请号】CN201520710779【专利技术人】王四新, 宋亚美, 殷伟伟 【申请人】北京瑞普北光电子有限公司【公开日】2016年2月10日【申请日】2015年9月15日本文档来自技高网...

【技术保护点】
抗辐照高速光电耦合器,其特征在于:包括管座,位于管座上方的外盖板,所述管座内设有多个极片,伸出管座;所述管座外缘设有胶套,所述胶套将极片伸出管座部分包裹住;所述管座上设有凹槽,所述一个极片上设有另一凹槽,所述凹槽内设有光敏芯片,所述另一凹槽内设有发光芯片,所述光敏芯片和发光芯片分别通过金丝与极片相连。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王四新宋亚美殷伟伟
申请(专利权)人:北京瑞普北光电子有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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