一种智能抗菌多肽涂层的制备方法技术

本发明专利技术的一种智能抗菌多肽涂层的制备方法是一种对不同基底材料普遍适用的方法，包括以下步骤：首先，将基底材料置于低温等离子体发生器主体腔室中，抽真空后通入氩气并加载电压和电流进行等离子体处理。其次，将处理后的基底材料迅速置于一定量二硫醇的甲醇溶液中反应。然后，所得表面含有巯基的基底材料与含巯基抗菌多肽在氧化剂作用下反应，形成二硫键。该抗菌多肽涂层在与细菌细胞接触时，基底材料表面二硫键断裂，还原释放含巯基抗菌多肽，发挥杀菌作用。处于游离状态的抗菌多肽的抗菌活性高于共价固定在材料表面的同种抗菌多肽，可大大减少抗菌多肽的使用量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是，涉及一种可用于生物医药等方面的材料制备方法，属于生物医用材料领域。
技术介绍
微生物耐药性或抗药性增强等问题日渐突出，开发新的抗菌资源已成为研究者关注的焦点。抗菌多肽与传统抗生素、药物的作用机制不同，具有抗菌谱广、作用强时间短、不易产生耐药性等特点，受到越来越多的重视。多数抗菌多肽主要通过作用于细菌的细胞质膜，破坏其完整性并产生穿孔现象，造成细菌细胞内容物溢出胞外而死亡。细菌细胞质膜外的磷脂层带有负电荷，而动植物或者人体细胞质膜外不带负电荷，因此当带正电荷的抗菌多肽与不同细胞接触时，会选择性地吸附到细菌表面而不破坏人体细胞。由于抗菌多肽的特殊作用机制，一般能在接触微生物2-3分钟内将其杀死，无论微生物是否处于生长期，都能够发挥快速杀菌的作用。然而，一些研究表明，固定在材料表面的抗菌多肽的抗菌活性明显低于游离状态的抗菌多肽。(Bagheri，M.；Beyermann, M.；Dathe, Μ., Antimicrob Agents Chemother2009, 53, 1132-1141.Cho, ff.M.；Joshi, B.P.；Cho, H.；Lee, Κ本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种智能抗菌多肽涂层的制备方法，其特征在于：所述方法依次包括下列步骤：步骤1).将基底材料置于低温等离子体发生器主体腔室中，抽真空后通入氩气并加载电压和电流进行等离子体处理，处理功率为5‑100瓦，处理时间为30秒‑3分钟；步骤2).将步骤1)处理后的基底材料迅速置于二硫醇的甲醇溶液中反应，得到表面含有巯基的基底材料；步骤3).将步骤2)所得的表面含有巯基的基底材料与含巯基抗菌多肽在氧化剂作用下反应，形成二硫键；在基底材料上得到智能抗菌多肽涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姚琛，周宾，王怡红，温智理，
申请(专利权)人：东南大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32