本实用新型专利技术涉及一种多光束共光路干涉仪，多光束共光路干涉仪由光源(1)、第一平板(2)和第二平板(3)构成，所述第一平板(2)和第二平板(3)平行放置，相对的内表面镀有反射膜(4)，光源(1)发出的光线从第一平板(2)或第二平板(3)的一侧斜向进入。反射膜(4)为高反射膜，反射系数为90％以上，平面度达1/20～1/50波长。本实用新型专利技术提供的多光束共光路干涉仪具有的独特共光路多次反射原理，可以广泛地应用于光谱精细结构和超精细结构的研究之中。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种呈四边形光路分布的干涉仪，尤其涉及一种多光束共光路干涉仪，属于干涉仪领域。
技术介绍
干涉现象是光的波动性的最严格、最有效的证明，这个现象是由于两束或多束光的重叠，使能量体密度在空间上规则分布的结果。光干涉测量方法作为检测高精密光学元件和系统的最传统、有效手段之一，已大量的应用于科学研究与工业生产之中。在实际使用过程中，现阶段干涉仪大多采用激光器作为照明光源，而激光器具有极强的时间和空间相干性，因此，在干涉检测过程中，并不需要考虑干涉腔长的限制，就可以使干涉条纹具有良好的对比度，并且随着电子与计算机技术的发展，产生的位相干涉检测技术，使测量极限由传统的λ/10提高了一个数量级以上，且具有很高的重复性。然而，正是由于激光具有的高度相干性，它虽然降低了干涉仪的使用难度，但由于光学干涉的极端灵敏性，在光学元件加工过程中产生的微观坑点等缺陷与元件表面污染所产生的散射光会发生相干叠加，在干涉图中会出现许多牛眼环或靶心等相干噪声，它们在一定程度上改变了干涉图的空间结构，从而引起了被测面面型或波前形状的测量误差。不管是Michelson干涉仪还是Mach-Zehnder干涉仪，都是双光束双通路干涉仪，干涉条纹的强度呈余弦调制分布，所以干涉条纹并不锐利，这在实际应用中有时不能满足测量要求。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，解决好现有技术的问题，弥补现有目前市场上现有产品的不足。本技术提供了一种多光束共光路干涉仪，多光束共光路干涉仪由光源、第一平板和第二平板构成，所述第一平板和第二平板平行放置，相对的内表面镀有反射膜，光源发出的光线从第一平板或第二平板的一侧斜向进入。优选的，上述光源为扩展光源。优选的，上述反射膜为高反射膜，反射系数为90%以上。优选的，上述反射膜的平面度达1/20?1/50波长。优选的，上述第一平板和第二平板的反射膜相对而设。本技术提供的多光束共光路干涉仪具有的独特共光路多次反射原理，可以广泛地应用于光谱精细结构和超精细结构的研究之中。【附图说明】图1为本技术结构示意图。附图标记:1_光源；2_第一平板；3_第二平板；4_反射膜。【具体实施方式】为了便于本领域普通技术人员理解和实施本技术，下面结合附图及【具体实施方式】对本技术作进一步的详细描述。如图1所示，本技术提供的多光束共光路干涉仪，多光束共光路干涉仪由光源1、第一平板2和第二平板3构成，第一平板2和第二平板3平行放置，相对的内表面镀有反射膜4，光源1发出的光线从第一平板2或第二平板3的一侧斜向进入。其中，光源1为扩展光源。反射膜4为高反射膜，反射系数为90%以上，平面度达1/20?1/50波长。第一平板2和第二平板3的反射膜4相对而设。本技术提供的多光束共光路干涉仪，利用多光束干涉的原理，构成干涉光束沿同一光路(或称共光路)的干涉仪，能使干涉条纹变细。本技术提供的多光束共光路干涉仪是由平行放置的两块平板组成的，在两块平板相对的内表面镀高反射膜(反射系数一般为90%以上)，并要求平面度达1/20?1/50波长。由于两镀膜平板平行且所用光源为扩展光源，所以产生等倾干涉，与Michelson干涉图相似为同心圆环，但与Michelson干涉显著不同的是，它们是振幅和强度近似相等的多光束干涉，仍可以看作是由多次分振幅的方法获得相干的多光束。本技术提供的多光束共光路干涉仪具有的独特共光路多次反射原理，可以广泛地应用于光谱精细结构和超精细结构的研究之中。以上所述之【具体实施方式】为本技术的较佳实施方式，并非以此限定本技术的具体实施范围，本技术的范围包括并不限于本【具体实施方式】，凡依照本技术之形状、结构所作的等效变化均在本技术的保护范围内。【主权项】1.一种多光束共光路干涉仪，其特征在于:所述多光束共光路干涉仪由光源(I)、第一平板(2)和第二平板(3)构成，所述第一平板(2)和第二平板(3)平行放置，相对的内表面镀有反射膜(4)，光源(I)发出的光线从第一平板(2)或第二平板(3)的一侧斜向进入。2.根据权利要求1所述的多光束共光路干涉仪，其特征在于:所述光源(I)为扩展光源。3.根据权利要求1所述的多光束共光路干涉仪，其特征在于:所述反射膜(4)为高反射膜，反射系数为90%以上。4.根据权利要求3所述的多光束共光路干涉仪，其特征在于:所述反射膜(4)的平面度达1/20?1/50波长。5.根据权利要求1所述的多光束共光路干涉仪，其特征在于:所述第一平板(2)和第二平板(3)的反射膜(4)相对而设。【专利摘要】本技术涉及一种多光束共光路干涉仪，多光束共光路干涉仪由光源(1)、第一平板(2)和第二平板(3)构成，所述第一平板(2)和第二平板(3)平行放置，相对的内表面镀有反射膜(4)，光源(1)发出的光线从第一平板(2)或第二平板(3)的一侧斜向进入。反射膜(4)为高反射膜，反射系数为90％以上，平面度达1/20～1/50波长。本技术提供的多光束共光路干涉仪具有的独特共光路多次反射原理，可以广泛地应用于光谱精细结构和超精细结构的研究之中。【IPC分类】G01B9/02【公开号】CN204988172【申请号】CN201520271481【专利技术人】林燕彬 【申请人】林燕彬【公开日】2016年1月20日【申请日】2015年4月27日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种多光束共光路干涉仪，其特征在于：所述多光束共光路干涉仪由光源(1)、第一平板(2)和第二平板(3)构成，所述第一平板(2)和第二平板(3)平行放置，相对的内表面镀有反射膜(4)，光源(1)发出的光线从第一平板(2)或第二平板(3)的一侧斜向进入。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林燕彬，
申请(专利权)人：林燕彬，
类型：新型
国别省市：福建;35
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