本实用新型专利技术涉及一种四边光路分布型干涉仪，由光源(1)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)、第一平面反射镜(4)、第二平面反射镜(5)、第二半反半透镜(6)和第二透镜(7)构成，其中，依照光线方向依次设置光源(1)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)和第二平面反射镜(5)，所述第二平面反射镜(5)与第一半反半透镜(3)对应设置，第二半反半透镜(6)与第二平面反射镜(5)对应设置。本实用新型专利技术提供的四边光路分布型干涉仪特点是两光束分得很开，光束只经过被测介质一次，特别适合用于研究气体密度迅速变化的状态，如检测风洞中试验飞机模型产生的空气漩涡和气体密度分布，是流场显示和定量测量的优良工具。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种呈四边形光路分布的干涉仪，尤其涉及一种四边光路分布型干涉仪，属于干涉仪领域。
技术介绍
干涉现象是光的波动性的最严格、最有效的证明，这个现象是由于两束或多束光的重叠，使能量体密度在空间上规则分布的结果。光干涉测量方法作为检测高精密光学元件和系统的最传统、有效手段之一，已大量的应用于科学研究与工业生产之中。在实际使用过程中，现阶段干涉仪大多采用激光器作为照明光源，而激光器具有极强的时间和空间相干性，因此，在干涉检测过程中，并不需要考虑干涉腔长的限制，就可以使干涉条纹具有良好的对比度，并且随着电子与计算机技术的发展，产生的位相干涉检测技术，使测量极限由传统的λ/10提高了一个数量级以上，且具有很高的重复性。然而，正是由于激光具有的高度相干性，它虽然降低了干涉仪的使用难度，但由于光学干涉的极端灵敏性，在光学元件加工过程中产生的微观坑点等缺陷与元件表面污染所产生的散射光会发生相干叠加，在干涉图中会出现许多牛眼环或靶心等相干噪声，它们在一定程度上改变了干涉图的空间结构，从而引起了被测面面型或波前形状的测量误差。传统的Michelson干涉仪或Twyman干涉仪中的光束是来回两次通过被测介质，对于一些气体密度迅速变化的状态不能够有效地测试。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，解决好现有技术的问题，弥补现有目前市场上现有产品的不足。本技术提供了一种四边光路分布型干涉仪，由光源、第一透镜、第一半反半透镜、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第二半反半透镜和第二透镜构成，其中，依照光线方向依次设置光源、第一透镜、第一半反半透镜和第二平面反射镜，所述第二平面反射镜与第一半反半透镜对应设置，第二半反半透镜与第二平面反射镜对应设置。优选的，上述光源位于第一透镜的焦平面上。优选的，上述光源发出的光线经过第一透镜准直后在第一半反半透镜上被分为两束，被第一平面反射镜和第二平面反射镜反射后，又重新聚合在第二半反半透镜分别透射和反射构成重合的相干光束。优选的，上述第二透镜设置在第二半反半透镜后侧。优选的，上述第一半反半透镜和第二半反半透镜上均贴设有半反半透膜。本技术提供的四边光路分布型干涉仪特点是两光束分得很开，光束只经过被测介质一次，特别适合用于研究气体密度迅速变化的状态，如检测风洞中试验飞机模型产生的空气漩涡和气体密度分布，是流场显示和定量测量的优良工具。【附图说明】图1为本技术结构示意图。附图标记:1_光源；2_第一透镜；3_第一半反半透镜；4_第一平面反射镜；5-第二平面反射镜；6_第二半反半透镜；7_第二透镜。【具体实施方式】为了便于本领域普通技术人员理解和实施本技术，下面结合附图及【具体实施方式】对本技术作进一步的详细描述。如图1所示，本技术提供的四边光路分布型干涉仪，由光源1、第一透镜2、第一半反半透镜3、第一平面反射镜4、第二平面反射镜5、第二半反半透镜6和第二透镜7构成，其中，依照光线方向依次设置光源1、第一透镜2、第一半反半透镜3和第二平面反射镜5，第二平面反射镜5与第一半反半透镜3对应设置，第二半反半透镜6与第二平面反射镜5对应设置。光源I位于第一透镜2的焦平面上。光源I发出的光线经过第一透镜2准直后在第一半反半透镜3上被分为两束，被第一平面反射镜4和第二平面反射镜5反射后，又重新聚合在第二半反半透镜6分别透射和反射构成重合的相干光束。第二透镜7设置在第二半反半透镜6后侧。第一半反半透镜3和第二半反半透镜6上均贴设有半反半透膜。其工作原理是:本技术提供的四边光路分布型干涉仪，设计了一种呈四边形光路分布的干涉仪，如图1所示。光源I位于第一透镜2的焦平面上，经第一透镜2准直的光束在第一半反半透镜3上分成两束，被第一平面反射镜4和第二平面反射镜5反射后，又重新聚合在第二半反半透镜6分别透射和反射构成重合的相干光束。光路A的平面波前与光路A在光路B中的虚平面波前形成等厚干涉，在第二透镜后的交点P观察到明暗相间的干涉条纹图。本技术提供的四边光路分布型干涉仪，特点是两光束分得很开，光束只经过被测介质一次，而传统干涉仪中的光束是来回两次通过被测介质，因此特别适合用于研究气体密度迅速变化的状态，如检测风洞中试验飞机模型产生的空气漩涡和气体密度分布，是流场显示和定量测量的优良工具。以上所述之【具体实施方式】为本技术的较佳实施方式，并非以此限定本技术的具体实施范围，本技术的范围包括并不限于本【具体实施方式】，凡依照本技术之形状、结构所作的等效变化均在本技术的保护范围内。【主权项】1.一种四边光路分布型干涉仪，其特征在于:所述干涉仪由光源(I)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)、第一平面反射镜(4)、第二平面反射镜(5)、第二半反半透镜(6)和第二透镜(7)构成，其中，依照光线方向依次设置光源(I)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)和第二平面反射镜(5)，所述第二平面反射镜(5)与第一半反半透镜(3)对应设置，第二半反半透镜(6)与第二平面反射镜(5)对应设置。2.根据权利要求1所述的四边光路分布型干涉仪，其特征在于:光源(I)位于第一透镜⑵的焦平面上。3.根据权利要求2所述的四边光路分布型干涉仪，其特征在于:所述光源(I)发出的光线经过第一透镜(2)准直后在第一半反半透镜(3)上被分为两束，被第一平面反射镜(4)和第二平面反射镜(5)反射后，又重新聚合在第二半反半透镜(6)分别透射和反射构成重合的相干光束。4.根据权利要求1所述的四边光路分布型干涉仪，其特征在于:所述第二透镜(7)设置在第二半反半透镜(6)后侧。5.根据权利要求1所述的四边光路分布型干涉仪，其特征在于:所述第一半反半透镜(3)和第二半反半透镜(6)上均贴设有半反半透膜。【专利摘要】本技术涉及一种四边光路分布型干涉仪，由光源(1)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)、第一平面反射镜(4)、第二平面反射镜(5)、第二半反半透镜(6)和第二透镜(7)构成，其中，依照光线方向依次设置光源(1)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)和第二平面反射镜(5)，所述第二平面反射镜(5)与第一半反半透镜(3)对应设置，第二半反半透镜(6)与第二平面反射镜(5)对应设置。本技术提供的四边光路分布型干涉仪特点是两光束分得很开，光束只经过被测介质一次，特别适合用于研究气体密度迅速变化的状态，如检测风洞中试验飞机模型产生的空气漩涡和气体密度分布，是流场显示和定量测量的优良工具。【IPC分类】G02B17/08【公开号】CN204903853【申请号】CN201520276428【专利技术人】林永东 【申请人】林永东【公开日】2015年12月23日【申请日】2015年4月28日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种四边光路分布型干涉仪，其特征在于：所述干涉仪由光源(1)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)、第一平面反射镜(4)、第二平面反射镜(5)、第二半反半透镜(6)和第二透镜(7)构成，其中，依照光线方向依次设置光源(1)、第一透镜(2)、第一半反半透镜(3)和第二平面反射镜(5)，所述第二平面反射镜(5)与第一半反半透镜(3)对应设置，第二半反半透镜(6)与第二平面反射镜(5)对应设置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林永东，
申请(专利权)人：林永东，
类型：新型
国别省市：福建;35
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