过程调节器，涉及一种工业控制用SIPART DR19过程调节器结构的改进技术。包括矩形的壳体，壳体内安装调节器电路板，壳体前后表面设置有散热凸棱；壳体的左右端设置三角形的凸出体，凸出体上有安装用的调节器固定螺孔；壳体下侧面有地线接口、向下凸出的有圆形孔的磁场电流测量接线端和辅助接线端；壳体右端有向斜下方弯曲的支架体，支架体表面有绝缘层，支架体前面有凹槽，凹槽内设置有监测导线接入口、充电接口和辅助接口；支架体下端有向左侧弯曲的导电板，导电板与支架体垂直，导电板端部有圆环形的整流器接线端。本实用新型专利技术针对SIPART DR19过程调节器技术进行改进，解决了现有的过程调节器安装后，不方便接线的问题。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及工业控制电器
，具体涉及一种工业控制用SIPART DR19过程调节器结构的改进技术。
技术介绍
过程调节器是对测量信号与给定值相比较产生偏差e，对偏差e进行PID运算，并输出控制信号的执行器。SIPART DR系列过程调节器在各种过程工业控制，机械和系统工程领域以及其他各种工业领域中应用。该调节器结构紧凑，具有连续输出信号或阶跃信号触点输出功能，为盘装型，适用于空间狭小的仪表盘。SIPART DR19可用于机械和系统工程、热处理、钢铁工业和陶瓷业、涂料生产、水处理或制瓶设备。SIPART DR21用于所有标准任务的理想解决方案，具有各种显示功能、控制功能和状态信息。SIPART DR22作为单通道或双通道调节器，主要用于复杂闭环回路控制任务，再输入范围内附加有计算功能。当今电器控制器都向小型化方向发展，现有的SIPART DR19过程调节器安装后，存在不方便接线的问题。
技术实现思路
本技术提供过程调节器，本技术针对SIPART DR19过程调节器技术进行改进，解决了现有的过程调节器安装后，不方便接线的问题。为解决上述问题，本技术采用如下技术方案:过程调节器，包括矩形的壳体，壳体内安装调节器电路板，壳体前后表面设置有散热凸棱；壳体的左右端设置三角形的凸出体，凸出体上有安装用的调节器固定螺孔；壳体下侧面有地线接口、向下凸出的有圆形孔的磁场电流测量接线端和辅助接线端；壳体右端有向斜下方弯曲的支架体，支架体表面有绝缘层，支架体前面有凹槽，凹槽内设置有监测导线接入口、充电接口和辅助接口 ；支架体下端有向左侧弯曲的导电板，导电板与支架体垂直，导电板端部有圆环形的整流器接线端。本技术的优点:设置有辅助接口、监测导线接入口、充电接口、整流器接线端、辅助接线端、磁场电流测量接线端，方便接线，另外上述接线端均凸出于外面，因此方便接线和安装。【附图说明】图1是本技术结构示意图。图中符号说明:散热凸棱1，壳体2，调节器固定螺孔3，凹槽4，监测导线接入口 5，充电接口 6，辅助接口 7，绝缘层8，导电板9，整流器接线端10，辅助接线端11，磁场电流测量接线端12，地线接口 13。【具体实施方式】下面用最佳的实施例对本技术做详细的说明。如图1所示，过程调节器，包括矩形的壳体2，壳体2内安装调节器电路板，调节器电路板采用现在常规技术，本技术专利技术要点在于:壳体2前后表面设置有散热凸棱1 ;壳体2的左右端设置三角形的凸出体，凸出体上有安装用的调节器固定螺孔3 ;壳体2下侧面有地线接口 13、向下凸出的有圆形孔的磁场电流测量接线端12和辅助接线端11 ;壳体2右端有向斜下方弯曲的支架体，支架体与壳体2底面之间形成的夹角a为110-140度。支架体表面有绝缘层8，支架体前面有凹槽4，凹槽4内设置有监测导线接入口 5、充电接口 6和辅助接口 7 ;支架体下端有向左侧弯曲的导电板9，导电板9与支架体垂直，导电板9端部有圆环形的整流器接线端10。最后应说明的是:显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明本技术所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本技术的保护范围之中。【主权项】1.过程调节器，其特征在于，包括矩形的壳体，壳体内安装调节器电路板，壳体前后表面设置有散热凸棱；壳体的左右端设置三角形的凸出体，凸出体上有安装用的调节器固定螺孔；壳体下侧面有地线接口、向下凸出的有圆形孔的磁场电流测量接线端和辅助接线端；壳体右端有向斜下方弯曲的支架体，支架体表面有绝缘层，支架体前面有凹槽，凹槽内设置有监测导线接入口、充电接口和辅助接口 ；支架体下端有向左侧弯曲的导电板，导电板与支架体垂直，导电板端部有圆环形的整流器接线端。【专利摘要】过程调节器，涉及一种工业控制用SIPART？DR19过程调节器结构的改进技术。包括矩形的壳体，壳体内安装调节器电路板，壳体前后表面设置有散热凸棱；壳体的左右端设置三角形的凸出体，凸出体上有安装用的调节器固定螺孔；壳体下侧面有地线接口、向下凸出的有圆形孔的磁场电流测量接线端和辅助接线端；壳体右端有向斜下方弯曲的支架体，支架体表面有绝缘层，支架体前面有凹槽，凹槽内设置有监测导线接入口、充电接口和辅助接口；支架体下端有向左侧弯曲的导电板，导电板与支架体垂直，导电板端部有圆环形的整流器接线端。本技术针对SIPART？DR19过程调节器技术进行改进，解决了现有的过程调节器安装后，不方便接线的问题。【IPC分类】G05B19/04【公开号】CN204965064【申请号】CN201520745167【专利技术人】赵金晓 【申请人】哈尔滨宇龙自动化有限公司【公开日】2016年1月13日【申请日】2015年9月24日本文档来自技高网...
【技术保护点】
过程调节器，其特征在于，包括矩形的壳体，壳体内安装调节器电路板，壳体前后表面设置有散热凸棱；壳体的左右端设置三角形的凸出体，凸出体上有安装用的调节器固定螺孔；壳体下侧面有地线接口、向下凸出的有圆形孔的磁场电流测量接线端和辅助接线端；壳体右端有向斜下方弯曲的支架体，支架体表面有绝缘层，支架体前面有凹槽，凹槽内设置有监测导线接入口、充电接口和辅助接口；支架体下端有向左侧弯曲的导电板，导电板与支架体垂直，导电板端部有圆环形的整流器接线端。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵金晓，
申请(专利权)人：哈尔滨宇龙自动化有限公司，
类型：新型
国别省市：黑龙江;23
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