流体调节器制造技术

一种流体调节器包括致动器、本体组件、和被设置在所述致动器组件和所述本体组件之间的平衡系统。所述致动器组件包括上部壳体、被紧固到所述上部壳体上的下部壳体，和被设置在所述上部与下部壳体之间的隔膜组件。所述本体组件包括被可操作地连接到所述隔膜组件上以随着所述隔膜组件移动的杆组件。所述平衡系统包括被可操作地连接到所述杆组件上以随着所述杆组件移动的隔膜。所述致动器组件的所述下部壳体包括限定了容纳所述平衡系统的平衡腔体的一部分的壁和在肩部处终止的且具有形成在其中的环形凹槽的内表面，当所述流体调节器从完全打开的位置移动到锁闭位置时，所述环形凹槽容纳所述隔膜的一部分。

【技术实现步骤摘要】

本技术一般涉及流体调节器，并且更特别地，涉及具有平衡隔膜的直接操作的流体调节器。
技术介绍
根据系统提出的需求、天气、供给源和/或其他因素，典型的流体分配系统供给流体的压力是不同的。然而，大多数装备有燃气用具，比如熔炉，烤炉等等的终端用户设备都需要根据预定压力，并且以或低于气体调节器的最大容量来输送气体。所以，为了确保所输送的气体满足终端用户设备的需求，在这些分配系统中配备流体调节器。直接操作的流体调节器主要被设计用于工业和商业用途，其将流体，比如天然气和丙烷，供给到熔炉、燃烧炉和其他设备上，并且一般在本领域中是公知的。流体调节器典型地被用于将流体的压力调节到大致不变的值。特别地，流体调节器具有入口，该入口典型地以相对高的压力接收供给流体，并且该流体调节器在出口处提供相对较低的且大致不变的压力。为了调节下游压力，流体调节器通常包括传感元件或隔膜，以检测与下游压力流体连通的出口压力。流体调节器还能够包括平衡系统，该平衡系统能够被用于抵消由较高压力的入口流体所施加在阀盘的顶部上的力，以及还可能抵消由绕着阀盘经过的排出流体所施加在阀盘的底部上的力。
技术实现思路
根据本技术的一个示范性的方面，流体调节器包括致动器组件、被紧固到所述致动器组件上的本体组件，和被设置在所述致动器组件和所述本体组件之间的平衡系统。所述致动器组件包括上部壳体、被紧固到所述上部壳体上的下部壳体和被设置在所述上部壳体与所述下部壳体之间的隔膜组件。所述本体组件包括被可操作地连接到所述隔膜组件上以随着所述隔膜组件移动的杆组件。所述平衡系统包括被可操作地连接到所述杆组件上以随着所述杆组件移动的隔膜。所述致动器组件的所述下部壳体包括限定了容纳所述平衡系统的平衡腔体的一部分的壁和在肩部处终止的内表面，并且所述壁具有形成在所述壁的内表面中的环形凹槽，当所述流体调节器从完全打开的位置移动到锁闭位置时，所述环形凹槽容纳所述平衡系统的所述隔膜的一部分。根据本技术的另一示范性的方面，流体调节器包括致动器组件、被紧固到所述致动器组件上的本体组件，和被设置在所述致动器组件和所述本体组件之间的平衡系统。致动器组件包括上部壳体、被紧固到所述上部壳体上的下部壳体，和被设置在所述上部壳体与所述下部壳体之间的隔膜组件。所述本体组件限定了用于运行流体的入口和用于所述运行流体的出口，并且包括被可操作地连接到所述隔膜组件上以随着所述隔膜组件移动的杆组件。所述平衡系统包括被可操作地连接到所述杆组件上以随着所述杆组件移动的隔膜，所述隔膜具有在所述本体组件的所述入口处由所述运行流体的入口压力所作用的横截面面积。所述流体调节器还包括当所述流体调节器接近锁闭位置时用于增加所述平衡组件的所述隔膜的所述横截面面积的装置。根据本技术的另一示范性的方面，流体调节器包括致动器组件、被紧固到所述致动器组件上的本体组件和被设置在所述致动器组件和所述本体组件之间的平衡系统。所述致动器组件包括上部壳体、被紧固到所述上部壳体上的下部壳体，和被设置在所述上部壳体与所述下部壳体之间的隔膜组件。所述本体组件限定了用于运行流体的入口和用于所述运行流体的出口，并且包括被可操作地连接到所述隔膜组件上以随着所述隔膜组件移动的杆组件。所述平衡系统包括被可操作地连接到所述杆组件上以随着所述杆组件移动的隔膜，所述隔膜具有在所述本体组件的所述入口处由所述运行流体的入口压力所作用的横截面面积。所述流体调节器还包括当所述流体调节器移动远离所述完全打开的位置时用于以第一速率增加所述平衡组件的所述隔膜的所述横截面面积的装置。另外根据本技术的任何一个或多个前述示范性的方面，流体调节器可以以任何组合的方式进一步地包括下列优选形式中的任何一个或多个。在一个优选形式中，所述环形凹槽从所述肩部偏移，以致当所述流体调节器接近所述锁闭位置时所述平衡系统的所述隔膜的所述一部分膨胀到所述环形凹槽中。在另一个优选形式中，在所述壁的所述内表面和所述平衡系统的隔膜板之间的径向距离在所述肩部和所述环形凹槽之间是不变的。在另一个优选形式中，所述环形凹槽包括壁，该壁以从所述内表面预定角度处从所述下部壳体的所述壁的所述内表面延伸。在另一个优选形式中，所述预定角度是在45度和70度之间。在另一个优选形式中，所述预定角度是在55度和65度之间。在另一个优选形式中，所述环形凹槽邻近所述肩部，以致当所述流体调节器从所述完全打开的位置朝着所述锁闭位置移动时所述平衡系统的所述隔膜的所述一部分膨胀到所述环形凹槽中。在另一个优选形式中，所述环形凹槽包括壁，所述壁以从所述内表面预定角度处从所述内表面的所述肩部延伸。在另一个优选形式中，在所述环形凹槽的所述壁和所述平衡系统的隔膜板之间的径向距离随着离所述肩部距离的增加而增加。在另一个优选形式中，所述预定角度是在5度和20度之间。在另一个优选形式中，所述环形凹槽包括第二壁，所述第二壁以从所述内表面第二预定角度处从所述环形凹槽的所述壁延伸。在另一个优选形式中，所述环形凹槽的所述第二壁从所述肩部偏移，以致当所述流体调节器接近所述锁闭位置时所述平衡系统的所述隔膜的所述一部分邻近所述第二壁。在另一个优选形式中，所述第二预定角度是在45度和70度之间。在另一个优选形式中，所述第二预定角度是在55度和65度之间。在另一个优选形式中，在所述本体组件的所述入口处由所述运行流体的所述入口压力所作用的所述隔膜的所述横截面面积在所述流体调节器处于完全打开的位置时是不变的，直到所述流体调节器接近所述锁闭位置为止。在另一个优选形式中，所述流体调节器进一步包括当所述流体调节器接近锁闭位置时用于以第二速率增加所述平衡组件的所述隔膜的所述横截面面积的装置。在另一个优选形式中，所述第二速率大于所述第一速率。【附图说明】图1A是已知的具有平衡系统的流体调节器的正面横截面图；图1B是图1A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于锁闭位置；图1C是图1A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于完全打开的位置；图2A是具有平衡系统的实例流体调节器的正面横截面图；图2B是图2A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于锁闭位置；图2C是图2A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于完全打开的位置；图3A是具有平衡系统的另一实例流体调节器的正面横截面图；图3B是图3A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于锁闭位置；图3C是图3A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于完全打开的位置；图4A是具有平衡系统的又一实例流体调节器的正面横截面图；图4B是图4A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于锁闭位置；和图4C是图4A中所示的平衡系统的一部分的放大局部视图，其中流体调节器处于完全打开的位置。【具体实施方式】参考图1A-1C，某种已知的流体调节器10 —般包括致动器组件100和本体组件200，该本体组件能够通过螺杆400和锁紧螺母405，或者通过任何其他公知的方式被紧固到致动器组件100上。此外，在所示的实例中，流体调节器10还包括，如在下面被更详细地描述的，设置在致动器组件100和本体组件200之间的平衡系统300本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体调节器，包括：致动器组件，包括上部壳体、被紧固到所述上部壳体上的下部壳体，和被设置在所述上部壳体与所述下部壳体之间的隔膜组件；本体组件，被紧固到所述致动器组件上，所述本体组件包括被可操作地连接到所述隔膜组件上以随着所述隔膜组件移动的杆组件；和平衡系统，被设置在所述致动器组件和所述本体组件之间，所述平衡系统包括被可操作地连接到所述杆组件上以随着所述杆组件移动的隔膜；其特征在于，所述致动器组件的所述下部壳体包括限定了容纳所述平衡系统的平衡腔体的一部分的壁和在肩部处终止的内表面，所述壁具有形成在所述壁的内表面中的环形凹槽，当所述流体调节器从完全打开的位置移动到锁闭位置时，所述环形凹槽容纳所述平衡系统的所述隔膜的一部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：C·林，A·加尔，H·P·特里彭，
申请(专利权)人：艾默生过程管理调节技术公司，
类型：新型
国别省市：美国;US