一种用于制备多元素改性铝化物涂层的化学气相沉积设备制造技术

一种用于制备多元素改性铝化物涂层的化学气相沉积设备，包括真空反应腔室、气体供给控制系统以及真空与尾气处理系统，其设备工艺参数灵活性提高，涂层成分灵活、可控，产品一致性良好，气体供给控制系统的每一路工艺气体管道上都依次设置有气体减压阀、体积流量计和质量流量控制器，实现化学气相沉积工艺的高精度控制。本实用新型专利技术结构简单，操作方便，无包埋工艺，无须涂后清洗，减少了工业废水多的排放，能够满足改性铝化物涂层工业生产和环保要求，特别是用于航空发动机膜冷涡轮叶片或地面发电用重型燃气轮机透平叶片内冷通道表面多元素改性铝化物涂层的生产，涂层厚度均匀、叶片内孔道表面涂层全覆盖，同时保证叶片外表面无有害厚度的涂层生成。

【技术实现步骤摘要】

:本技术涉及一种铝化物涂层制程中的设备，尤其涉及一种用于制备多元素改性铝化物涂层的化学气相沉积设备。
技术介绍
:化学气相沉积(Chemical Vapor Deposit1n，简称CVD)是一种非接触扩散技术。利用CVD技术时，一种确定成分的金属氯化物气体可以预先在炉外(约100?600°C反应温度)制取，然后被导入高温反应炉的腔体(约200?1200°C腔体温度)里，并与工件表面反应形成涂层。因此，利用CVD技术渗铝制备铝化物涂层具有极大地优越性，第一，CVD技术中反应气体被压缩通过工件表面，形成相对均匀的涂层，从而可以有效避免固体粉末包埋渗铝与料浆渗铝方法存在的涂后清洗引起的废水排放、涂层易烧结与渗层不均匀、以及带孔工件堵孔等缺点；第二，CVD技术的气体形成过程与工件和气体反应过程是完全分开的，从而气体化学成分易调整，特别是能够在工件表面共沉积Al、Si以及掺杂Hf、Zr、Y、Ce、La等多个反应元素，形成保护性铝扩散涂层。据报道，多元共渗形成改性的铝化物涂层，可以明显提高单渗铝涂层的抗高温腐蚀性能，包括降低氧化膜生长速度，提高氧化膜粘附性和延长涂层的防护寿命等。目前本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制备多元素改性铝化物涂层的化学气相沉积设备，其特征在于，包括用于形成真空的真空反应室(1)、气体供给控制系统(15)和真空与尾气处理系统；真空反应室(1)的周向及顶端由外至内依次为炉外保温材料层、外炉壳、耐火材料衬里(2)和加热器(3)，真空反应室(1)的底部设置有用于承载工件的升降式底端基座(10)，真空反应室(1)内设置有不锈钢内胆(4)，不锈钢内胆(4)通过底端基座(10)密封至真空反应室(1)内，不锈钢内胆(4)的腔室分为涂层反应室和尾气排放区，底端基座(10)上配置有与所述真空反应室(1)相通的惰性气体进气管道(5a)和工艺气体进气管道(5b)，惰性气体进气管道(5a)的周向...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：南晴，肖俊峰，唐文书，高斯峰，上官博，李永君，张炯，
申请(专利权)人：华能国际电力股份有限公司，西安热工研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11