【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于清洗MOCVD (金属有机化合物气相淀积)设备尾气处理系统的方法,属于MOCVD设备尾气处理
技术介绍
MOCVD技术是用于三五族化合物半导体外延材料的制造技术,广泛用于发光二管(LED)、激光二极管(LD)、高电子迀移率晶体管(HEMT)的外延材料生长。MOCVD工艺使用的反应气体和MO (金属有机化合物)源大多数是易自燃及有毒的,反应气体主要有磷化氢、砷化氢等,都属剧毒氢化物,其反应的副产物也有毒性或易自燃。MOCVD工艺过程中反应产生的尾气含有大量有毒和危险物质(气体和粉尘),不论是常压还是低压MOCVD设备,尾气在向大气排放前都要经过处理,过滤掉粉尘,并通过化学喷淋洗涤使有毒物质吸附、降解,浓度达到国家规定的排放标准以下。MOCVD设备的废气处理系统位于系统的排气端,负责吸附及处理系统排出的所有气体,以减少对环境的污染。MOCVD设备去除有毒有害气体方法,主要有利用物理吸附作用的活性碳过滤器吸附法,利用化学反应分解和吸收毒气的化学喷淋洗涤法,以及通过热分解或燃烧使毒气转化为粉尘再过滤的方法。采用上述处理方法的废气处 ...
【技术保护点】
一种MOCVD设备尾气处理系统在线化学清洗方法,其特征是:将待清洗的MOCVD设备的尾气系统由运行状态切换至待机状态,使尾气处理系统的进气口处于不通气状态,或者是通过非氧化性气体置换尾气处理系统的运行气体;然后将尾气处理系统切换至手动状态,加入酸类物质溶液,调节尾气处理系统中废水的pH值为1‑6,形成盐酸清洗液,使盐酸清洗液在尾气处理系统内循环喷淋,直至清洗干净尾气处理系统内拉西环上的白色沉积物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:刘永波,张新,任忠祥,
申请(专利权)人:山东华光光电子有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
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