一种显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:12194475 阅读:123 留言:0更新日期:2015-10-14 02:47
本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,包括该显示基板的显示装置能够有效改善漏光以及光色干扰问题,该显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。一种显示基板,包括:透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层;所述像素界定层包括:反射层,所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状,用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧;在所述像素界定层所在区域内,从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。用于显示基板以及包括该显示基板的显示装置的制作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置
技术介绍
OLED (Organic Light Emitting D1de,有机发光二极管)显示器具有反应速度快、对比度高、视角广等特点,被认为是下一代显示技术。OLED显示器包括封装基板和衬底基板,衬底基板包括阵列排布的像素单元,如图1所示,每个像素单元包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B,每个子像素均包括阳极10、发光层20、阴极30,通常在相邻子像素之间形成有像素界定层40以防止相邻子像素的发光层发出的光互相影响。然而,像素界定层40—般由透光材料形成,则发光层发出的侧向光会射入相邻的子像素中,例如图1所示红色子像素R的发光层发出的侧向光21会射入相邻的绿色子像素G,这会导致漏光以及光色干扰,造成OLED显示器件的出光率和色纯度下降。为解决上述问题,采用不透光材料形成像素界定层,然而,专利技术人发现不透光材料一般为具有低介电常数的材料,会造成元件的光电性质下降,同时,发光层发出的侧向光被该不透光的像素界定层吸收,仍造成OLED显示器件的出光率降低。因此现有技术中较少采用不透光材料形成像素界定层,那么,在采用透光材料形成像素界定层的情况下,解决漏光以及光色干扰,进而提高OLED显示器件的出光率和色纯度成了亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,包括该显示基板的显示装置能够有效改善漏光以及光色干扰问题,该显示装置的出光率和色纯度均得到有效提尚。为达到上述目的,本专利技术的实施例采用如下技术方案:一方面,提供了一种显示基板,该显示基板包括:透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层;所述像素界定层包括:反射层,所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状,用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧;在所述像素界定层所在区域内,从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。另一方面,提供了一种显示装置,该显示装置包括上述所述的显示基板。又一方面,提供了一种显示基板的制作方法,所述方法包括:在透明衬底上形成第一透明层,所述第一透明层在所述像素界定层所在区域形成凸起;在所述凸起上形成反射层;在所述透明衬底上对应所述凸起的位置处形成第一透明部,且所述第一透明部覆盖所述凸起以及所述反射层。再一方面,提供了另一种显示基板的制作方法,所述方法包括:在透明衬底上形成第二透明层,所述第二透明层在所述像素界定层所在区域形成凹槽;在所述凹槽上形成反射层;在所述透明衬底上对应所述凹槽的位置处形成第二透明部,所述第二透明部的底部填充所述凹槽。本专利技术的实施例提供了一种显示基板,该显示基板包括透明衬底、形成在透明衬底上的像素界定层、位于像素界定层所限定的子像素区域中的发光层。像素界定层包括反射层,反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状;在像素界定层所在区域内,从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。这样,反射层可以将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧,从而改变这部分光的传播路径。一方面避免这部分光对相邻子像素形成光色干扰,另一方面这部分光重新射向显示基板的出光侧,使得这部分光再次得到有效利用,极大改善了漏光问题。将上述显示基板应用到显示装置中,显示装置的出光率和色纯度均得到有效提尚。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中提供的一种OLED显示器的衬底基板的结构示意图;图2为本专利技术实施例提供的一种显不基板的结构不意图;图3为本专利技术实施例提供的另一种显不基板的结构不意图;图4为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图;图5为本专利技术实施例提供的另一种显示基板的制作方法的流程图。附图标记:10-阳极;20_发光层;201-发光层的下表面;202_发光层的上表面;21_侧向光;30-阴极;40_像素界定层;41_反射层;42_凸起;43_第一透明部;44_第二透明部;50_透明衬底;51_第一透明层;52_第二透明层。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。实施例一本专利技术实施例提供了一种显示基板,参考图2-3所示,该显示基板包括:透明衬底50、形成在透明衬底50上的像素界定层40、位于像素界定层40所限定的子像素区域中的发光层20 ;像素界定层40包括:反射层41,反射层41朝向显示基板的出光侧呈凸起状,用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧;在像素界定层所在区域内,从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。上述显示基板中,本专利技术实施例对于发光层的材料不作限定,例如发光层的材料可以是有机电致发光型材料,当然还可以是其他类型的发光材料。当发光层的材料为有机电致发光型材料时,上述显示基板可以形成OLED显示装置。本专利技术实施例以及附图均以显示基板能够形成OLED显示装置为例进行说明。上述显示基板中,本专利技术实施例对于显示基板的出光侧不作限定,具体的,参考图2所示,显示基板的出光侧可以是显示基板远离透明衬底50的表面,即显示基板的光从显示基板的上表面发出,该显示基板可以形成顶发射结构的OLED显示装置;当然,参考图3所示,显示基板的出光侧还可以是显示基板的下表面,即光从透明衬底50的下表面发出,该显示基板可以形成底发射结构的OLED显示装置。这里需要说明的是,本专利技术实施例以及附图中,显示基板的上表面指的是远离透明衬底的表面,若显示基板仅包含图2中的层结构,则显示基板的上表面是阴极30和像素界定层40所组成的表面。当然,图2所示的显示基板上还可以包含其他层,例如保护层,此时,显示基板的上表面为保护层的上表面;显示基板的下表面指的是透明衬底的下表面。另外,反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状。具体的,例如,参考图2所示,显示基板的出光侧为显示基板远离透明衬底的表面,则反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状即反射层可以是沿AA'方向呈凸起状;参考图3所示,显示基板的出光侧为显示基板的下表面,则反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状即反射层可以是沿BB'方向呈凸起状。上述显示基板中,反射层用于将发光层射向反射层的光当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板,包括:透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层;其特征在于,所述像素界定层包括:反射层,所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状,用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧;在所述像素界定层所在区域内,从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:崔颖胡春静
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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