本发明专利技术提供保存稳定性良好且能够形成耐溶剂性也优异的固化膜的放射线敏感性组合物。其含有(A)聚合物、(B)聚合性化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂，上述(A)聚合物选自下述聚合物(A1)、聚合物(A2)和聚合物(A3)且是聚合物(A1)或者是聚合物(A2)和聚合物(A3)的组合，聚合物(A1)：具有环氧乙基和氧杂环丁基的聚合物，聚合物(A2)：具有环氧乙基的聚合物(其中，不包括上述聚合物(A1))，聚合物(A3)：具有氧杂环丁基的聚合物(其中，不包括上述聚合物(A1))，上述(A)聚合物中的环氧乙基(oxi)与氧杂环丁基(oxe)的比例以摩尔比(oxi/oxe)计为3/97～50/50。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及放射线敏感性组合物、固化膜和显示元件，更详细而言，涉及用于形成 在透射式或反射型的彩色液晶显示元件、固体摄像元件、有机EL显示元件、电子纸等中使 用的固化膜的放射线敏感性组合物，使用该放射线敏感性组合物形成的固化膜，以及具备 该固化膜的显示元件。
技术介绍
使用着色放射线敏感性组合物制造滤色器时，已知有如下方法：通过在基板上涂 布颜料分散型的着色放射线敏感性组合物并进行干燥后，对干燥涂膜以所希望的图案形状 照射放射线（以下称为"曝光")，进行显影，从而得到各色的像素（例如，参照专利文献1~ 2)。另外，也已知有利用分散有炭黑的光聚合性组合物形成黑矩阵的方法（例如，参照专利 文献3)。此外，还已知有使用颜料分散型的着色树脂组合物并利用喷墨方式得到各色的像 素的方法（例如，参照专利文献4)。 而且，在近年的滤色器的
中，对形成的固化膜和用于形成该固化膜的组 合物的性能要求越来越严格，例如从耐溶剂性的方面考虑，提出了含有具有环氧乙基、氧杂 环丁基的聚合物的组合物作为能够形成耐溶剂性良好的固化膜的材料（例如，参照专利文 献5~8)。 专利文献 专利文献1 :日本特开平2 - 144502号公报 专利文献2 :日本特开平3 - 53201号公报 专利文献3 :日本特开平6 - 35188号公报 专利文献4 :日本特开2000 - 310706号公报 专利文献5 :日本特开2007 - 052147号公报 专利文献6 :日本特开2007 - 333847号公报 专利文献7 :日本特开2010 - 009033号公报 专利文献8 :日本特开2010 - 262259号公报
技术实现思路
然而，专利文献5~8中记载的放射线敏感性组合物在耐溶剂性方面未必能够满 足，另外还存在放射线敏感性组合物的保存稳定性差这样的问题。因此，本专利技术的课题在于 提供保存稳定性良好且能够形成耐溶剂性也优异的固化膜的放射线敏感性组合物。 鉴于上述实际情况，本专利技术人等进行了深入研宄，结果发现通过使用含有将环氧 乙基和氧杂环丁基控制在特定比例而成的聚合物的放射线敏感性组合物，固化膜的耐溶剂 性惊人地极大提高，另外保存稳定性也优异，从而完成了本专利技术。 即，本专利技术提供一种放射线敏感性组合物，其含有（A)聚合物、（B)聚合性化合物 和（C)放射线敏感性聚合引发剂， 上述（A)聚合物选自下述的聚合物（A1)、聚合物（A2)和聚合物（A3)中，是聚合物 (A1)、或者是聚合物（A2)和聚合物（A3)的组合， 聚合物（A1):具有环氧乙基和氧杂环丁基的聚合物 聚合物（A2):具有环氧乙基的聚合物（其中，不包括上述聚合物（A1)) 聚合物（A3):具有氧杂环丁基的聚合物（其中，不包括上述聚合物（A1))， 上述（A)聚合物中的环氧乙基（oxi)与氧杂环丁基（oxe)的比例以摩尔比（oxi/ oxe)计为 3/97 ~50/50。 另外，本专利技术提供使用上述放射线敏感性组合物形成的固化膜以及具备该固化膜 的显示元件。在此，"固化膜"是指在显示元件、固体摄像元件中使用的各色像素、保护膜、黑 矩阵、隔离件、绝缘膜等。 本专利技术的组合物保存稳定性良好且能够形成耐溶剂性也优异的固化膜。 因此，本专利技术的放射线敏感性组合物极其适合用于制作以彩色液晶显示元件、固 体摄像元件的分色用滤色器、有机EL显示元件用滤色器、电子纸用滤色器为代表的各种滤 色器。另外，作为保护膜材料、隔离件材料、绝缘膜材料也极其有用。【具体实施方式】 以下，对本专利技术进行详细说明。 放射线敏感件组合物 以下，对本专利技术的放射线敏感性组合物的构成成分进行详细说明。 -⑷聚合物一 本专利技术中的（A)成分是在曝光和/或后烘工序时发生交联反应而提高涂膜的固化 性的成分。 本专利技术的放射线敏感性组合物必须含有下述的聚合物（A1)、聚合物（A2)和聚合 物（A3)中的聚合物（A1)、或者聚合物（A2)和聚合物（A3)的组合作为（A)成分。作为（A) 成分，只要含有聚合物（A1)、或者含有聚合物（A2)和聚合物（A3)的组合即可，可以从聚合 物（A1)、聚合物（A2)和聚合物（A3)中适当地选择含有其以外的聚合物。例如，作为⑷成 分，使用聚合物（A1)时，除聚合物（A1)以外，还可以含有选自聚合物（A2)和聚合物（A3) 中的至少1种。作为（A)成分，从耐溶剂性的观点考虑，优选至少含有聚合物（A1)。 聚合物（A1):具有环氧乙基和氧杂环丁基的聚合物。 聚合物（A2):具有环氧乙基的聚合物（其中，不包括聚合物（A1))。 聚合物（A3):具有氧杂环丁基的聚合物（其中，不包括聚合物（A1))。 而且，本专利技术人等进行了深入研宄，结果发现通过将（A)聚合物中的环氧乙基与 氧杂环丁基的比例控制在规定的范围内，保存稳定性令人惊讶地优异，且能够形成耐溶剂 性极其优异的固化膜。 即，（A)聚合物中的环氧乙基（oxi)与氧杂环丁基（oxe)的比例以摩尔比（oxi/ oxe)计为3/97~50/50,从进一步提高耐溶剂性的观点考虑，优选为4/96~30/70,更优选 为5/95~23/77,进一步优选为6/94~20/80,特别优选为7/93~16/84。 作为上述聚合物（A1)，例如，可以是包含具有环氧乙基的烯属不饱和单体（al)和 具有氧杂环丁基的烯属不饱和单体（a2)的单体的共聚物，作为上述聚合物（A2)，例如，可 以是包含具有环氧乙基的烯属不饱和单体（al)的单体的聚合物（其中，不包括上述聚合物 (A1))，作为上述聚合物（A3)，例如，可以是包含具有氧杂环丁基的烯属不饱和单体（a2)的 单体的聚合物（其中，不包括上述聚合物（A1))。 此时，⑷聚合物中的具有环氧乙基的烯属不饱和单体（al)的含量具有氧 杂环丁基的稀属不饱和单体（a2)的含量￥_的质量比（w Mi/wMe)优选为3/97~50/50,从 进一步提高耐溶剂性的观点考虑，优选为4/96~40/60,更优选为5/95~28/72,进一步优 选为6/94~21/79,特别优选为7/93~16/84。 在此，摩尔比（oxi/oxe)是构成（A)成分的全部聚合物中的环氧乙基的总摩尔数 与氧杂环丁基的总摩尔数的比例，另外质量比（w Mi/wM6)是具有环氧乙基的烯属不饱和单 体（al)在构成（A)聚合物的全部单体中所占的总质量《@与具有氧杂环丁基的烯属不饱 和单体（a2)在构成（A)聚合物的全部单体中所占的总质量的比例。例如，作为（A)成 分，除聚合物（A1)以外，还含有选自聚合物（A2)和聚合物（A3)中的至少1种聚合物时，摩 尔比（oxi/oxe)是聚合物（A1)和选自聚合物（A2)和聚合物（A3)中的至少1种聚合物具 有的环氧乙基（oxi)的总摩尔数与氧杂环丁基（oxe)的总摩尔数的比例，质量比（w Mi/wM6) 是在构成聚合物（A1)和选自聚合物（A2)和聚合物（A3)中的至少1种聚合物的全部单体 中占有的具有环氧乙基的烯属不饱和单体（al)的总质量 Wrai与具有氧杂环丁基的烯属不 饱和单体（a2)的总质量《_的比例。 作为具有环氧乙基的烯属不饱和单体（al)，例如可举出：(甲基）丙烯酸缩水甘油醋、（甲基）丙烯酸0 _甲基缩水甘油本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种放射线敏感性组合物，含有(A)聚合物、(B)聚合性化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂，所述(A)聚合物选自下述聚合物A1、聚合物A2和聚合物A3中，是聚合物A1、或者是聚合物A2和聚合物A3的组合，聚合物A1：具有环氧乙基和氧杂环丁基的聚合物，聚合物A2：具有环氧乙基的聚合物，其中，不包括所述聚合物A1，聚合物A3：具有氧杂环丁基的聚合物，其中，不包括所述聚合物A1，所述(A)聚合物中的环氧乙基(oxi)与氧杂环丁基(oxe)的比例以摩尔比(oxi/oxe)计为3/97～50/50。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：成濑秀则，井本裕显，高见朋宏，川部泰典，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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