本发明专利技术的课题在于提供一种经时稳定性优异、且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、具备该膜的空白掩模、光掩模及图案形成方法、以及电子器件的制造方法及电子器件。本发明专利技术的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法是关于含有树脂、酸产生剂、有机酸及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的有机酸的含有率是以该组合物中的所有固体成分为基准而言大于5质量％。(i)在实质上不含树脂及酸产生剂的溶液中溶解有机酸的工序，(ii)在含有酸产生剂、且实质上不含树脂的溶液中溶解有机酸的工序，及(iii)在含有树脂、且实质上不含酸产生剂的溶液中溶解有机酸的工序。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种在LSI(超大规模集成电路)或高容量微晶片的制造等的超威光刻制程或其他制造制程中适合使用，可使用电子束或极紫外线而形成高精细化的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜的空白掩模、光掩模、图案形成方法、电子器件的制造方法及电子器件。
技术介绍
在使用抗蚀剂组合物的显微加工中，随着集成电路的高集成化，开始要求形成超威细图案。因此，也发现曝光波长自g射线短波长化为i射线、进一步短波长化为准分子激光束的倾向，现今在进行例如使用电子束的光刻技术的开发。提供给准分子激光束或电子束的曝光的抗蚀膜通常由化学放大型抗蚀剂组合物而形成，关于作为化学放大型抗蚀剂组合物的主要构成成分的光酸产生剂，开发了各种化合物。例如已知有为了形成良好的图案，使用经氟取代的三苯基硫鎓盐作为光酸产生剂的技术(例如参照专利文献1)。并且，已知有提高从使用有机酸作为添加剂而制造抗蚀剂组合物直至使用为止的稳定性(以下称为“经时稳定性”)的技术(例如参照专利文献2)。然而，从作为抗蚀剂的综合性能的观点考虑，极其难以发现所使用的树脂、光酸产生剂、碱性化合物、添加剂、溶剂等的适合组合，特别是鉴于以高性能形成极微细(例如线宽为50nm以下)的图案的最近的要求，而寻求更进一步的改善。并且，利用抗蚀剂组合物的显微加工不仅仅可直接用于集成电路的制造中，在近年来也开始在所谓的压印用模具结构物的制作等中应用(例如参照专利文献3)。因此，为了充分应对这些用途，能够在同时满足高灵敏度及高解析性的状态下形成极微细(例如线宽50nm以下)的图案成为重要的课题。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-2359号公报专利文献2：日本特开2003-177516号公报专利文献3：日本特开2008-162101号公报专利技术的概要专利技术要解决的技术课题如专利文献2所公开，众所周知通过添加有机酸而可使抗蚀剂组合物的经时稳定性提高，本专利技术人等进行了伸入研究，结果可知：通过添加有机酸而使经时稳定性提高与各种因素相关，为了使满足经时稳定性的水准提高，并且使解析性也提高，无法仅仅通过添加有机酸的技术常识而达成。本专利技术的目的在于提供经时稳定性优异、且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本专利技术的目的在于提供经时稳定性优异且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用其的感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜的空白掩模、光掩模及图案形成方法、以及电子器件的制造方法及电子器件。用于解决技术课题的手段本专利技术的一种实施方式中如下所述。[1]一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其是含有(A)树脂、(B)酸产生剂、(C)有机酸及(D)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于：包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的(C)有机酸的含有率以该组合物中的所有固体成分为基准大于5质量％，(i)在实质上不含(A)树脂及(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，(ii)在含有(B)酸产生剂、且实质上不含(A)树脂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，及(iii)在含有(A)树脂、且实质上不含(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序。[2]根据[1]所述的制造方法，其中，(C)有机酸的pKa低于(A)树脂的pKa，且高于由(B)酸产生剂所产生的酸的pKa。[3]根据[1]或[2]所述的制造方法，其中，(C)有机酸是有机羧酸。[4]根据[3]所述的制造方法，其中，(C)有机酸是芳香族有机羧酸。[5]根据[1]～[4]中任一项所述的制造方法，其中，(A)树脂是包含具有由于酸的作用而分解从而使极性增大的基的重复单元的树脂。[6]根据[1]～[5]中任一项所述的制造方法，其中，(A)树脂是包含具有酚性羟基的重复单元的树脂。[7]根据[1]～[6]中任一项所述的制造方法，其中，(B)酸产生剂是包含选自锍阳离子及碘鎓阳离子的阳离子与有机阴离子的离子性化合物，上述阳离子是具有至少1个吸电子基团的阳离子。[8]根据[7]所述的制造方法，其中，上述有机阴离子是芳香族磺酸阴离子。[9]根据[1]～[8]中任一项所述的制造方法，其中，感光化射线性或感放射线性树脂组合物进一步含有碱性化合物。[10]根据[9]所述的制造方法，其中，上述碱性化合物是铵盐。[11]根据[1]～[10]中任一项所述的制造方法，其中，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的固体成分浓度是10质量％以下。[12]一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其通过[1]～[11]中任一项所述的制造方法而制造。[13]一种感光化射线性或感放射线性膜，其由[12]所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物而制造。[14]根据[13]所述的感光化射线性或感放射线性膜，其中，膜厚为200nm以下。[15]一种空白掩模，其具备如[13]或[14]所述的感光化射线性或感放射线性膜。[16]一种光掩模，其通过包含如下工序的方法而制造：对如[15]所述的空白掩模所具备的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的工序；对进行了曝光的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的工序。[17]一种图案形成方法，其包含：对如[13]或[14]所述的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的工序；及对进行了曝光的上述膜进行显影的工序。[18]根据[17]所述的图案形成方法，其中，曝光是利用电子束或EUV光的曝光。[19]一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其是含有(A)树脂、(B)酸产生剂及(C)有机酸的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其特征在于：(C)有机酸的含有率以该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的所有固体成分为基准大于5质量％。[20]根据[19]所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，(C)有机酸的pKa低于(A)树脂的pKa，且高于由(B)酸产生剂所产生的酸的pKa。[21]根据[19]或[20]所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，(A)树脂是包含具有酚性羟基的重复单元的树脂，(B)酸产生剂是包含选自锍阳离子及碘鎓阳离子的阳离子与有机阴离子的离子性化合物，上述阳离子具有至少1个吸电子基团。[22]根据[19]～[21]中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，(B)酸产生剂是通过照射光化射线或放射线而产生体积为以上的酸的化合物。[23]一种电子器件的制造方法，其包含如[17]或[18]所述的图案形成方法。[24]一种电子器件，其通过如[23]所述的电子器件的制造方法而制造。专利技术效果通过本专利技术可提供经时稳定性优异、且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，通过本专利技术可提供经时稳定性优异且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用其的感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜的空白掩模、光掩模及图案形成方法、以及电子器件的制造方法及电子器件。具体实施方式以下，关于本专利技术的具体实施方式进行详细说明。另外，本说明书中的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其是含有(A)树脂、(B)酸产生剂、(C)有机酸及(D)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于，包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的(C)有机酸的含有率以该组合物中的所有固体成分为基准大于5质量％，所述工序为：(i)在实质上不含(A)树脂及(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，(ii)在含有(B)酸产生剂、且实质上不含(A)树脂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，及(iii)在含有(A)树脂、且实质上不含(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.31 JP 2014-0739651.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其是含有(A)树脂、(B)酸产生剂、(C)有机酸及(D)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于，包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的(C)有机酸的含有率以该组合物中的所有固体成分为基准大于5质量％，所述工序为：(i)在实质上不含(A)树脂及(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，(ii)在含有(B)酸产生剂、且实质上不含(A)树脂的溶液中溶解(C)有机酸的工序，及(iii)在含有(A)树脂、且实质上不含(B)酸产生剂的溶液中溶解(C)有机酸的工序。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，(C)有机酸的pKa低于(A)树脂的pKa，且高于由(B)酸产生剂所产生的酸的pKa。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，(C)有机酸是有机羧酸。4.根据权利要求3所述的制造方法，其中，(C)有机酸是芳香族有机羧酸。5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其中，(A)树脂是包含具有由于酸的作用而分解从而使极性增大的基的重复单元的树脂。6.根据权利要求1～5中任一项所述的制造方法，其中，(A)树脂是包含具有酚性羟基的重复单元的树脂。7.根据权利要求1～6中任一项所述的制造方法，其中，(B)酸产生剂是包含选自锍阳离子及碘鎓阳离子的阳离子与有机阴离子的离子性化合物，所述阳离子是具有至少1个吸电子基团的阳离子。8.根据权利要求7所述的制造方法，其中，所述有机阴离子是芳香族磺酸阴离子。9.根据权利要求1～8中任一项所述的制造方法，其中，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物进一步含有碱性化合物。10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述碱性化合物是铵盐。11.根据权利要求1～10中任一项所述的制造方法，其中，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的固体成...
【专利技术属性】
技术研发人员：望月英宏，高桥孝太郎，土村智孝，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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