感活化光线性或感放射线性树脂组合物、感活化光线性或感放射线性膜、具备感活化光线性或感放射线性膜的掩模坯、光掩模、图案形成方法、电子器件的制造方法、电子器件、化合物及化合物的制造方法技术

本发明专利技术提供一种在形成例如线宽为50nm以下的超微细图案时，可抑制依赖于PEB温度的图案的线宽变动且保存稳定性也优异的感活化光线性或感放射线性树脂组合物等。该组合物含有碱可溶性树脂及交联剂，所述交联剂由下述通式(I)表示。式中，R1及R6分别独立地表示氢原子或碳原子数为5以下的烃基。R2及R5分别独立地表示烷基、环烷基、芳基或酰基。R3及R4分别独立地表示氢原子或碳原子数为2以上的有机基团。R3及R4可相互键合而形成环。[化学式1]。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480070130

【技术保护点】
一种感活化光线性或感放射线性树脂组合物，其特征在于，含有：碱可溶性树脂；以及交联剂，所述交联剂由下述通式(I)表示，[化学式1]通式(I)中，R1及R6分别独立地表示氢原子或碳原子数为5以下的烃基；R2及R5分别独立地表示烷基、环烷基、芳基或酰基；R3及R4分别独立地表示氢原子或碳原子数为2以上的有机基团；R3及R4可相互键合而形成环。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：横川夏海，望月英宏，高桥孝太郎，山口修平，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP