感光化射线性或感放射线性树脂组合物、及图案形成方法技术

感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及具有至少一个氧原子的化合物(C)。其中，所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用其的图案形成方法。更详细而言，本专利技术涉及在集成电路(IntegratedCircuit，IC)等半导体制造步骤、液晶、热能头(thermalhead)等电路基板的制造、以及其他的感光蚀刻加工(photofabrication)步骤、平版印刷版、酸硬化性组合物中使用的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用其的图案形成方法。
技术介绍
化学增幅型抗蚀剂组合物是通过远紫外光等放射线的照射而在曝光部中产生酸，通过以所述酸作为催化剂的反应，使活性放射线的照射部与非照射部对显影液的溶解性变化，从而使图案形成于基板上的图案形成材料。例如，专利文献1中揭示有：“一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其特征在于：含有(A)利用酸的作用而对碱显影液的溶解度增大的树脂以及(B)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，还含有(D)具有利用酸的作用而脱离的基团的低分子化合物，且以感光化射线性或感放射线性树脂组合物的全部固体成分作为基准而含有10质量％～30质量％的(B)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物；并且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的特征在于：(A)成分不具有芳香族基”(权利要求第1项)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开2013-210636号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题另一方面，近年来，要求各种电子机器的高功能化，随之要求微细加工中所使用的抗蚀剂图案的特性进一步提高。尤其要求进一步改善焦点深度(DepthOfFocus，DOF)或曝光宽容度(ExposureLatitude，EL)。其中，本专利技术人对专利文献1中记载的组合物进行研究，结果了解到，所述组合物的DOF或EL未必满足最近所要求的水平。因此，本专利技术鉴于所述实际情况，目的在于提供一种焦点深度(DOF)及曝光宽容度(EL)大的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用其的图案形成方法。解决问题的技术手段本专利技术人等人对所述课题进行了积极研究，结果发现，通过调配具有至少一个氧原子的化合物，则DOF及EL提高，从而达成本专利技术。即，本专利技术人等人发现可通过以下的构成来解决所述课题。(1)一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：树脂(A)；通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)；以及具有至少一个氧原子的化合物(C)；并且所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。(2)根据所述(1)所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中化合物(C)的重量平均分子量为150以上、3000以下。(3)根据所述(1)或(2)所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中化合物(C)为包含2个以上的选自由醚键、羟基、酯键及酮键所组成的组群中的基团或键的化合物。(4)根据所述(3)所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中化合物(C)为包含3个以上的选自由醚键、羟基、酯键及酮键所组成的组群中的基团或键的化合物。(5)根据所述(4)所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中化合物(C)为包含4个以上的选自由醚键、羟基、酯键及酮键所组成的组群中的基团或键的化合物。(6)根据所述(3)所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中化合物(C)为包含2个以上的醚键的化合物。(7)根据所述(1)～(6)中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中化合物(C)的沸点为200℃以上。(8)根据所述(1)～(7)中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中相对于所述树脂(A)100质量份，所述化合物(C)的含量为30质量份以下。(9)根据所述(1)～(8)中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中还含有酸扩散控制剂(D)。(10)根据所述(1)～(9)中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中所述化合物(C)具有后述通式(1)所表示的部分结构。(11)一种图案形成方法，其包括：[1]使用根据所述(1)～(10)中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，在基板上形成抗蚀剂膜的步骤；[2]对所述抗蚀剂膜进行曝光的步骤；以及[3]使用包含有机溶剂的显影液，对所述经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的步骤。专利技术的效果如以下所示，依据本专利技术，可提供一种焦点深度(DOF)及曝光宽容度(EL)大的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用其的图案形成方法。具体实施方式以下，对本专利技术的实施形态进行详细说明。本说明书中的基团(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述是指包含不具有取代基的，并且也包含具有取代基的。例如，所谓“烷基”，是指不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，并且也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。本说明书中的所谓“光化射线”或者“放射线”，是指例如水银灯的明线光谱、准分子激光所代表的远紫外线、极紫外线((ExtremeUltraviolet，EUV)光)、X射线、电子束(ElectronBeam，EB)等。另外，本专利技术中所谓光，是指光化射线或放射线。另外，本说明书中的所谓“曝光”，只要无特别说明，则不仅是指利用水银灯、准分子激光所代表的远紫外线、极紫外线、X射线、EUV光等的曝光，而且利用电子束、离子束等粒子束的描画也包含于曝光中。此外，本申请说明书中所谓“～”，是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义来使用。另外，本说明书中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸表示丙烯酸以及甲基丙烯酸。[感光化射线或感放射线性树脂组合物]本专利技术的感光化射线性或感放射线性树脂组合物(以下也简称为本专利技术的组合物)是指含有树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及具有至少一个氧原子的化合物(C)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。即，化合物(C)是与树脂(A)及化合物(B)不同的化合物，与这些树脂(A)以及化合物(B)有区别。认为本专利技术的组合物通过采取此种构成，而使DOF及EL变大。其原因并不明确，但大致推测如下。通常，若对由含有树脂(A)、以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)的组合物而形成的膜(抗蚀剂膜)进行曝光，则由所述化合物(B)产生酸，所产生的酸会使树本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：树脂(A)；通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)；以及具有至少一个氧原子的化合物(C)；所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.29 JP 2013-248158;2014.11.19 JP 2014-234271.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：
树脂(A)；
通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)；以及
具有至少一个氧原子的化合物(C)；
所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。
2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中所述化合物(C)
的分子量为150以上、3000以下。
3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中所述化合物
(C)为包含2个以上的选自由醚键、羟基、酯键及酮键所组成的组群中的基团或键的化合物。
4.根据权利要求3所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中所述化合物(C)
为包含3个以上的选自由醚键、羟基、酯键及酮键所组成的组群中的基团或键的化合物。
5.根据权利要求4所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中所述化合物(C)
为包含4个以上的选自由醚键、羟基、酯键及酮键所组成的组群中的基团或键的化合物。

【专利技术属性】
技术研发人员：王惠瑜，加藤启太，白川三千纮，后藤研由，上村聡，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP