本发明专利技术公开了一种摆动式盛装蚀刻液的设备，它包括机座（1）、油缸（2）和储罐（3），储罐（3）的两侧分别设置有转轴I（6）和转轴II（7），转轴I（6）和转轴II（7）分别旋转安装在立柱A（4）和立柱B（5）上，储罐（3）的顶部、底部分别设置有进液口（9）、出液口（10），进液口（9）和出液口（10）均与型腔（8）连通，储罐（3）的两个侧壁上均设置有多个与型腔（8）连通的进气口（11），机架（13）上设置有平台（14），平台（14）上固定安装有垂直于转轴I（6）的油缸（2），油缸（2）的活塞杆铰接在储罐（3）的后端部。本发明专利技术的有益效果是：结构紧凑、制造成本低、操作简单、能够有效避免蚀刻液产生沉淀。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防止蚀刻液产生沉淀的
，特别是一种摆动式盛装蚀刻液的设备。
技术介绍
目前，电路板在蚀刻过程中，蚀刻液腐蚀电路板上的铜条，随着铜材料的不断溶解，溶液的比重不断升高，当比重超过一定值后，自动补偿氯化铵和氨水体系的蚀刻液，调整比重到合适的范围。一般比重控制在18~240Be。溶液PH值的影响蚀刻液的PH值应保持在8.0~8.8之间。当蚀刻液的PH值降低到8.0以下时，一方面是对金属抗蚀层不利，另一方面，蚀刻液中的铜不能完全络合成铜氨络离子，溶液会出现沉淀，并在槽底形成泥状沉淀，这些沉淀能够在加热器上结成硬皮，可能损坏加热器，还会堵塞泵和喷嘴，给蚀刻造成困难。只有不断的搅拌蚀刻液使蚀刻液不断的运动，以防止溶液出现沉淀，当需要使用蚀刻液蚀刻电路板时，放出蚀刻液即可，目前，大多数采用搅拌器搅拌蚀刻液，然而该搅拌器结构复杂，其上的搅拌叶片溶液被蚀刻液腐蚀，不推广使用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种结构紧凑、制造成本低、操作简单、能够有效避免蚀刻液产生沉淀的摆动式盛装蚀刻液的设备。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现:一种摆动式盛装蚀刻液的设备，它包括机座、油缸和储罐，所述的机座上设置有垂直于机座的立柱A和立柱B，所述的储罐的两侧分别设置有转轴I和转轴II，转轴I和转轴II分别旋转安装在立柱A和立柱B上，所述的储罐内设置有用于盛装蚀刻液的型腔，储罐的顶部、底部分别设置有进液口、出液口，进液口和出液口均与型腔连通，所述的储罐的两个侧壁上均设置有多个与型腔连通的进气口，所述的机座上还设置有机架，机架上设置有平台，平台上固定安装有垂直于转轴I的油缸，油缸的活塞杆较接在储鍾的后端部。它还包括控制器，所述的控制器与油缸连接。所述的进液口和出液口处均连接有截至阀。所述的转轴I和转轴II对称设置。本专利技术具有以下优点:本专利技术的储罐的两个侧壁上均设置有多个与型腔连通的进气口，经进气口向储罐内通入洁净的高压空气，高压空气推动蚀刻液在型腔内做不规则的往复运动，并结合油缸推动储罐使储罐内的蚀刻液做摆动，从而蚀刻液始终处于运动状态，有效避免了蚀刻液产生沉淀。【附图说明】图1为本专利技术的结构示意图； 图2为图1的A-A剖视图； 图中，1-机座，2-油缸，3-储罐，4-立柱A，5-立柱B，6-转轴I，7-转轴II，8-型腔，9-进液口，10-出液口，11-进气P，12-截至阀，13-机架，14-平台。【具体实施方式】下面结合附图对本专利技术做进一步的描述，本专利技术的保护范围不局限于以下所述: 如图1和图2所示，一种摆动式盛装蚀刻液的设备，它包括机座1、油缸2和储罐3，所述的机座I上设置有垂直于机座I的立柱A4和立柱B5，所述的储罐3的两侧分别设置有转轴16和转轴117，转轴16和转轴117对称设置，转轴16和转轴117分别旋转安装在立柱A4和立柱B5上，所述的储罐3内设置有用于盛装蚀刻液的型腔8，储罐3的顶部、底部分别设置有进液口 9、出液口 10，进液口 9和出液口 10均与型腔8连通，所述的进液口 9和出液口10处均连接有截至阀12，所述的储罐3的两个侧壁上均设置有多个与型腔8连通的进气口Ilo如图2所示，机座I上还设置有机架13，机架13上设置有平台14，平台14上固定安装有垂直于转轴16的油缸2，油缸2的活塞杆铰接在储罐3的后端部。它还包括控制器，所述的控制器与油缸2连接，控制器能够控制油缸2的活塞杆往复的伸出或缩回。本专利技术的工作过程如下:先打开进液口 9处的截至阀12，往型腔8内注入一定量的蚀刻液随后关闭该截止阀2，再控制油缸2做往复的伸出或缩回的运动，油缸2带动储罐3以转轴I和转轴II为圆心做摆动，同时经进气口 11向储罐3内通入洁净的高压空气，高压空气推动蚀刻液在型腔8内做不规则的往复运动，并结合储罐的摆动，使蚀刻液始终处于运动状态，有效避免了蚀刻液产生沉淀。当要取用蚀刻液时，只需停止油缸2，打开出液口10处的截止阀12，将蚀刻液放出。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式，应当理解本专利技术并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本专利技术的精神和范围，则都应在本专利技术所附权利要求的保护范围内。【主权项】1.一种摆动式盛装蚀刻液的设备，其特征在于:它包括机座(1)、油缸(2)和储罐(3)，所述的机座(I)上设置有垂直于机座(I)的立柱A (4)和立柱B (5)，所述的储罐(3)的两侧分别设置有转轴I (6)和转轴II (7)，转轴I (6)和转轴II (7)分别旋转安装在立柱A (4)和立柱B (5)上，所述的储罐(3)内设置有用于盛装蚀刻液的型腔(8)，储罐(3)的顶部、底部分别设置有进液口(9)、出液口(10)，进液口(9)和出液口(10)均与型腔(8)连通，所述的储罐(3)的两个侧壁上均设置有多个与型腔(8)连通的进气口(11)，所述的机座(I)上还设置有机架(13)，机架(13)上设置有平台(14)，平台(14)上固定安装有垂直于转轴I(6)的油缸(2)，油缸(2)的活塞杆铰接在储罐(3)的后端部。2.根据权利要求1所述的一种摆动式盛装蚀刻液的设备，其特征在于:它还包括控制器，所述的控制器与油缸(2)连接。3.根据权利要求1所述的一种摆动式盛装蚀刻液的设备，其特征在于:所述的进液口(9 )和出液口( 10 )处均连接有截至阀(12 )。4.根据权利要求1所述的一种摆动式盛装蚀刻液的设备，其特征在于:所述的转轴I(6)和转轴II (7)对称设置。【专利摘要】本专利技术公开了一种摆动式盛装蚀刻液的设备，它包括机座（1）、油缸（2）和储罐（3），储罐（3）的两侧分别设置有转轴I（6）和转轴II（7），转轴I（6）和转轴II（7）分别旋转安装在立柱A（4）和立柱B（5）上，储罐（3）的顶部、底部分别设置有进液口（9）、出液口（10），进液口（9）和出液口（10）均与型腔（8）连通，储罐（3）的两个侧壁上均设置有多个与型腔（8）连通的进气口（11），机架（13）上设置有平台（14），平台（14）上固定安装有垂直于转轴I（6）的油缸（2），油缸（2）的活塞杆铰接在储罐（3）的后端部。本专利技术的有益效果是：结构紧凑、制造成本低、操作简单、能够有效避免蚀刻液产生沉淀。【IPC分类】C23F1-08【公开号】CN104878386【申请号】CN201510332189【专利技术人】韦建敏, 赵兴文, 张晓蓓, 张小波 【申请人】成都虹华环保科技股份有限公司【公开日】2015年9月2日【申请日】2015年6月16日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种摆动式盛装蚀刻液的设备，其特征在于：它包括机座（1）、油缸（2）和储罐（3），所述的机座（1）上设置有垂直于机座（1）的立柱A（4）和立柱B（5），所述的储罐（3）的两侧分别设置有转轴I（6）和转轴II（7），转轴I（6）和转轴II（7）分别旋转安装在立柱A（4）和立柱B（5）上，所述的储罐（3）内设置有用于盛装蚀刻液的型腔（8），储罐（3）的顶部、底部分别设置有进液口（9）、出液口（10），进液口（9）和出液口（10）均与型腔（8）连通，所述的储罐（3）的两个侧壁上均设置有多个与型腔（8）连通的进气口（11），所述的机座（1）上还设置有机架（13），机架（13）上设置有平台（14），平台（14）上固定安装有垂直于转轴I（6）的油缸（2），油缸（2）的活塞杆铰接在储罐（3）的后端部。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：韦建敏，赵兴文，张晓蓓，张小波，
申请(专利权)人：成都虹华环保科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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