【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防止蚀刻液产生沉淀的
,特别是一种新型用于盛装蚀刻液的设备。
技术介绍
目前,电路板在蚀刻过程中,蚀刻液腐蚀电路板上的铜条,随着铜材料的不断溶解,溶液的比重不断升高,当比重超过一定值后,自动补偿氯化铵和氨水体系的蚀刻液,调整比重到合适的范围。一般比重控制在18~240Be。溶液PH值的影响蚀刻液的PH值应保持在8.0~8.8之间。当蚀刻液的PH值降低到8.0以下时,一方面是对金属抗蚀层不利,另一方面,蚀刻液中的铜不能完全络合成铜氨络离子,溶液会出现沉淀,并在槽底形成泥状沉淀,这些沉淀能够在加热器上结成硬皮,可能损坏加热器,还会堵塞泵和喷嘴,给蚀刻造成困难。只有不断的搅拌蚀刻液使蚀刻液不断的运动,以防止溶液出现沉淀,当需要使用蚀刻液蚀刻电路板时,放出蚀刻液即可,目前,大多数采用搅拌器搅拌蚀刻液,然而该搅拌器结构复杂,其上的搅拌叶片溶液被蚀刻液腐蚀,不推广使用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种结构紧凑、制造成本低、操作简单、能够有效避免蚀刻液产生沉淀的新型用于盛装蚀刻液的设备。本专利技术的目的通过以下技术方 ...
【技术保护点】
一种新型用于盛装蚀刻液的设备,其特征在于:它包括机座(1)、储罐(2)和控制器,机座(1)上设置有立柱(3)和油缸(4),立柱(3)和油缸(4)均垂直于机座(1)设置,立柱(3)的顶部设置有铰链座(5),储罐(2)设置在立柱(3)和油缸(4)之间,储罐(2)的两侧分别设置有转轴I(6)和转轴II(7),所述的转轴I(6)的另一端铰接在铰链座(5)上,所述的转轴II(7)的另一端铰接在油缸(4)的活塞杆的作用端,所述的储罐(2)内设置有用于盛装蚀刻液的型腔(8),储罐(2)的顶部、底部分别设置有进液口(9)、出液口(10),进液口(9)和出液口(10)均与型腔(8)连通,进液 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:韦建敏,赵兴文,张晓蓓,张小波,
申请(专利权)人:成都虹华环保科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:四川;51
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