位移检测单元及检测方法、基板处理装置及处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种位移检测单元及检测方法、基板处理装置及处理方法，并且，在对定位对象物进行拍摄来对距基准位置的位移进行检测的技术中，提供一种能够从一个拍摄方向进行拍摄来对定位对象物的位移进行检测，并且拍摄单元的配置的自由度高的技术。为了检测在接近或远离照相机(72)的方向上移动的喷嘴的位移，将照相机的拍摄方向设为与喷嘴(53)的移动平面相交的斜方向。在所拍摄的图像(IM)上，喷嘴(53)的位移反映为上下方向上的移动，通过图案匹配处理在图像内检测喷嘴(53)的位置，由此能够检测出具有图像的深度方向的分量的喷嘴(53)的位移。

【技术实现步骤摘要】
位移检测单元及检测方法、基板处理装置及处理方法
本专利技术涉及一种对定位对象物进行拍摄来对距基准位置的位移进行检测的位移检测装置及位移检测方法和利用该技术的基板处理装置及基板处理方法。
技术介绍
日本特开2012-104732号公报上记载的技术为将涂敷液涂敷在基板上的技术，通过将喷嘴定位在与保持在旋转卡盘上进行旋转的基板的旋转中心相对的位置上，并从该喷嘴向基板的旋转中心喷出涂敷液，来将涂敷液涂敷在基板的表面上。在该技术中，CCD照相机从在水平面(XY面)内垂直的2个方向(X方向和Y方向)对在旋转卡盘的中心设置的吸引口和喷嘴进行拍摄，基于所得到的图像来检测喷嘴有无位移，调整喷嘴的X方向位置和Y方向位置。在上述现有技术中，通过光轴在水平方向上垂直的2台CCD照相机对作为定位动作的对象物的喷嘴进行拍摄。因此，喷嘴在X方向上的位移仅能仅由将Y方向设为拍摄方向的照相机来检测，另一方面，喷嘴在Y方向上的位移仅能仅由将X方向设为拍摄方向的照相机来检测。因此，必须有2台CCD照相机。而且，这些CCD照相机采用专用于喷嘴的定位的配置。但是，在这样的位移检测技术中，从节省空间和低成本化的观点来看，希望确立照相机(拍摄单元)的数量更少且在拍摄单元的配置方面自由度更高的技术。上述现有技术，尚未能满足这样的要求。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，在对定位对象物进行拍摄来对距基准位置的位移进行检测的技术中，提供一种能够从一个拍摄方向进行拍摄来对定位对象物的位移进行检测，并且拍摄单元的配置的自由度高的技术。本专利技术的一方式为对定位对象物相对于基准位置的位移进行检测的位移检测装置，为了实现上述目的，具有：拍摄单元，将所述定位对象物作为拍摄对象物，或将伴随所述定位对象物的位移而与所述定位对象物一体地进行位移的物体作为拍摄对象物，对该拍摄对象物进行拍摄，检测单元，基于所述拍摄单元对所述拍摄对象物进行拍摄得到的检测用图像，对所述定位对象物的位移进行检测；所述拍摄单元将包含与所述拍摄对象物的位移方向平行的分量和与所述位移方向不平行的分量的方向作为拍摄方向，对所述拍摄对象物进行拍摄，所述检测单元基于所述检测用图像与基准图像的图案匹配结果，对所述定位对象物相对于所述基准位置的位移中的与所述拍摄方向不平行的分量进行检测，所述基准图像为在所述定位对象物位于所述基准位置时，所述拍摄单元对所述拍摄对象物进行拍摄而得到的图像。而且，本专利技术的另一种方式为对定位对象物相对于基准位置的位移进行检测的位移检测方法，为了实现上述目的，包括：拍摄工序，将所述定位对象物作为拍摄对象物，或将伴随所述定位对象物的位移而与所述定位对象物一体地进行位移的物体作为拍摄对象物，并对该拍摄对象物进行拍摄来获取检测用图像，检测工序，基于所述检测用图像，对所述定位对象物的位移进行检测；在所述拍摄工序中，将包含与所述拍摄对象物的位移方向平行的分量及与所述位移方向不平行的分量的方向作为拍摄方向，并对所述拍摄对象物进行拍摄，在所述检测工序中，基于所述检测用图像与基准图像的图案匹配结果，对所述定位对象物相对于所述基准位置的位移中的与所述拍摄方向不平行的分量进行检测，所述基准图像为在所述定位对象物位于所述基准位置的状态下，对所述拍摄对象物进行拍摄而得到的图像。在这些专利技术中，将包括与拍摄对象物的位移方向平行的分量和与该位移方向不平行的分量作为拍摄方向(在包括光学成像系统的拍摄单元中，为光学成像系统的光轴方向)，对拍摄对象物进行拍摄。因此，拍摄对象物的位移中的与拍摄方向不平行的分量，表现为在所拍摄的图像中的拍摄对象物的位移。因此，通过在有可能包含伴随定位对象物相对于基准位置的位移而带来的拍摄对象物的位移的检测用图像，与在定位对象物位于基准位置上的状态下对拍摄对象物进行拍摄而得到的基准图像之间，进行图案匹配，由此能够检测到拍摄对象物的位移。这样，在本专利技术中，将包含与拍摄对象物的位移方向平行的分量和与该位移方向不平行的分量的方向作为拍摄方向进行拍摄，并且，在检测用图像和基准图像之间进行图案匹配，由此能够通过从一个拍摄方向进行拍摄而检测定位对象物的位移。另外，因为从包括与拍摄对象物的位移方向平行的分量和与该位移方向不平行的分量的各种拍摄方向进行拍摄，在执行拍摄的拍摄单元的配置方面可以确保很高的自由度。另外，在本专利技术的位移检测装置中，检测单元也可以例如基于基准图像和检测用图像之间的拍摄对象物的位置之差来检测定位对象物的位移，其中基准图像和检测用图像为使拍摄单元的配置相互相同而拍摄得到的图像。这样一来，能够容易地导出在图像内的拍摄对象物的位移。以同样的理由，本专利技术的位移检测方法也可以构成为，例如，在检测工序之前，在与检测用图像同一视野下，对定位在基准位置上的所述定位对象物进行拍摄，来获取基准图像，在检测工序中，基于检测用图像与基准图像之间的拍摄对象物的位置之差，对定位对象物的位移进行检测。在这种情况下，也可以构成为，例如，将从基准图像中裁剪出的包含拍摄对象物的部分图像作为基准图案来进行图案匹配，以求出检测用图像中的拍摄对象物的位置。如果这样构成，则通过图案匹配求出从基准图像裁剪出的与拍摄对象物对应的的图像内容在检测用图像中所占据的位置，另外，因为部分图像在基准图像占据的位置为已知的，因此，能够从与这些位置相关的信息求出检测用图像中的拍摄对象物的位移。以同样的理由，本专利技术的位移检测方法也可以构成为，例如，预先求出与拍摄对象物对应的部分图像在基准图像内所占据的位置的信息来作为基准信息；在检测工序中，确定与拍摄对象物对应的部分图像在检测用图像中所占据的位置，对该位置的信息与基准信息进行比较来检测定位对象物的位移。另外，本专利技术的另一方式为一种基板处理装置，具有：基板保持单元，保持基板，处理单元，在与所述基板相对配置的状态下，对所述基板实施规定的处理，定位单元，将所述处理单元定位于与所述基板相对的位置，位移检测单元，具有上述任一个位移检测装置相同的结构；所述定位对象物为所述处理单元，所述基准位置为对所述基板开始进行所述处理时的所述处理单元的位置。在这样构成的专利技术中，基于由具有上述特征的位移检测装置检测出处理单元有无位移，能够判断对基板实施处理的处理单元是否被定位在恰当的位置上；能够提前防止因在不恰当的定位状态下进行处理而引起的处理结果的不良。另外，为此所需的拍摄单元为一个即可，能够抑制装置的设置空间和成本的增大。进一步，本专利技术的另一个方式为一种基板处理方法，包括：基板保持工序，保持基板，处理单元配置工序，使对所述基板实施规定的处理的处理单元向预先设定的基准位置移动并与所述基板相对配置，处理工序，通过所述处理单元对所述基板实施所述处理；在所述处理工序之前，通过将所述处理单元作为所述定位对象物的上述任一个位移检测方法，判定所述处理单元是否定位在所述基准位置上。在这样构成的专利技术中，与上述基板处理装置相同，能够提前防止发生因处理单元在不恰当的定位状态下进行处理而引起的处理结果不良。在本专利技术的基板处理装置中，例如，定位单元能够使处理单元沿着包括基准位置的移动平面来移动；拍摄单元配置为光轴与移动平面相交。在这样的结构中，因为将与处理单元的移动平面相交的方向作为拍摄方向进行拍摄，所以能够确实地使处理单元在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种位移检测装置，对定位对象物相对于基准位置的位移进行检测，其特征在于，具有：拍摄单元，将所述定位对象物作为拍摄对象物，或将伴随所述定位对象物的位移而与所述定位对象物一体地进行位移的物体作为拍摄对象物，对该拍摄对象物进行拍摄，检测单元，基于所述拍摄单元对所述拍摄对象物进行拍摄得到的检测用图像，对所述定位对象物的位移进行检测；所述拍摄单元将包含与所述拍摄对象物的位移方向平行的分量和与所述位移方向不平行的分量的方向作为拍摄方向，对所述拍摄对象物进行拍摄，所述检测单元基于所述检测用图像与基准图像的图案匹配结果，对所述定位对象物相对于所述基准位置的位移中的与所述拍摄方向不平行的分量进行检测，所述基准图像为在所述定位对象物位于所述基准位置时，所述拍摄单元对所述拍摄对象物进行拍摄而得到的图像。

【技术特征摘要】
2014.02.17 JP 2014-0274561.一种位移检测装置，对定位对象物相对于基准位置的位移进行检测，其特征在于，具有：拍摄单元，将所述定位对象物作为拍摄对象物，或将伴随所述定位对象物的位移而与所述定位对象物一体地进行位移的物体作为拍摄对象物，对该拍摄对象物进行拍摄，检测单元，基于所述拍摄单元对所述拍摄对象物进行拍摄得到的检测用图像，对所述定位对象物的位移进行检测；所述拍摄单元将包含与所述拍摄对象物的位移方向平行的分量和与所述位移方向不平行的分量的方向作为拍摄方向，对所述拍摄对象物进行拍摄，所述检测单元基于所述检测用图像与基准图像的图案匹配结果，对所述定位对象物相对于所述基准位置的位移中的与所述拍摄方向不平行的分量进行检测，所述基准图像为在所述定位对象物位于所述基准位置时，所述拍摄单元对所述拍摄对象物进行拍摄而得到的图像。2.如权利要求1所述的位移检测装置，其特征在于，所述检测单元基于所述检测用图像和所述基准图像之间的所述拍摄对象物的位置之差，对所述定位对象物的位移进行检测，所述检测用图像和所述基准图像是使所述拍摄单元相对于所述基准位置的配置相互相同而拍摄得到的图像。3.如权利要求2所述的位移检测装置，其特征在于，所述检测单元将从所述基准图像裁剪出的包括所述拍摄对象物的部分图像作为基准图案来进行图案匹配，以求出所述拍摄对象物在所述检测用图像中的位置。4.一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，保持基板，处理单元，在与所述基板相对配置的状态下，对所述基板实施规定的处理，定位单元，将所述处理单元定位在与所述基板相对的位置上，位移检测单元，具有与权利要求1～3中任一项所述的位移检测装置相同的结构；所述定位对象物为所述处理单元，所述基准位置为对所述基板开始进行所述处理时的所述处理单元的位置。5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述定位单元能够使所述处理单元沿着包括所述基准位置的移动平面移动，所述拍摄单元配置为光轴与所述移动平面相交。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述定位单元使所述处理单元进行包含与投影在所述移动平面上的所述光轴的方向相平行的分量的移动。7.如权利要求4～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有被所述定位单元相互独立地移动的多个所述处理单元，通过一个拍摄单元对多个所述处理单元进行拍摄。8.如权利要求4～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板保持单元将所述基板保持为水平姿势，所述定位单元使所述处理单元水平移动。9.如权利要求4～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有定位判定单元，当所述处理单元相对于所述基准位置的位移的大小超过预先设定的阈值时，所述定位判定单元判定为所述处理单元的位置不恰当。10.如权利要求4～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述拍摄单元对所述基板保持单元所保持的所述基板的至少一部分进行拍摄，该基板处理装置具有保持状态判定单元，该保持状态判定单...

【专利技术属性】
技术研发人员：角间央章，
申请(专利权)人：斯克林集团公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP