具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标制造技术

本申请案涉及具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标。本发明专利技术提供设计计量目标的方法。所述方法包括识别目标设计中的连续区域及将指定填充元件引入到所述所识别连续区域中。通过对比度要求与不准确性要求之间的折衷而确定所述所引入填充元件的参数，所述不准确性要求经由制作而与所述识别连续区域相关联。本发明专利技术揭示相应目标及目标设计文件。任选地，可以改善的准确性使用相同的计量设备及过程来测量所述目标。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标相关申请案的交叉参考本申请案主张2014年2月12日提出申请的美国临时专利申请案第61/939，129号的权益，所述美国临时专利申请案以其全文引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及计量目标的领域，且更明确地说，涉及用以减小特定类型的不准确性的计量目标设计。
技术介绍
计量目标用于检验制作步骤的准确性且经设计为光学上可测量的。常见类型的计量目标在目标元件与其背景区域之间提供光学对比度。
技术实现思路
本专利技术的一个方面提供一种计量目标，其包括引入到给定目标设计中的所识别连续区域中的指定填充元件，其中所述所引入填充元件的参数通过对比度要求与不准确性要求之间的折衷而确定，所述不准确性要求经由制作而与所识别连续区域相关联。本专利技术的这些、额外及/或其它方面及/或优点陈述于以下详细说明中，可从所述详细说明推断；及/或可通过本专利技术的实践获悉。【附图说明】为更好地理解本专利技术的实施例及展示可如何执行本专利技术，现在将仅以实例方式参考附图，其中通篇中相似编号指定对应元件或部分。在附图中:图1A及IB分别图解说明如由在目标元件之间留出空白背景区域的现有技术实践而产生的凹陷效应及旋转项效应。图2A及2D是根据本专利技术的一些实施例的具有引入到所识别空白背景区域中的填充元件的计量目标的高级示意性图解。图2B是根据本专利技术的一些实施例的如图2A中所图解说明的AM目标的图像的说明性实例。图2C是根据本专利技术的一些实施例的对比度要求与不准确性要求之间的折衷的高级示意性实例。图2E是根据本专利技术的一些实施例的具有不同目标元件分段以及填充元件的变化密度及频率的目标的示范性示意性图解。图3A及3B是根据本专利技术的一些实施例的目标及填充元件的制作方法的示范性示意性图解。图4是图解说明根据本专利技术的一些实施例的方法的高级示意性流程图。【具体实施方式】在陈述详细说明之前，陈述下文中将使用的某些术语的定义可是有帮助的。如本文中所使用，本申请案中的术语“计量目标”或“目标”定义为在出于计量目的而使用的晶片上所设计或制作的任何结构。计量目标的非限制性实例是:成像目标，例如盒中盒(BiB)目标；及散射测量目标，例如周期性结构(例如，光栅)。如本文中所使用，本申请案中的术语“计量目标”或“目标”可是指任何其它目标设计，例如，AIM(先进图像计量)、其变体及其替代物、AIMicUBlossom目标、其变体及其替代物、SCOL(散射测量覆盖)目标及其替代物、DBO(基于衍射的覆盖)目标及其变体等。如本文中所使用，本申请案中的术语“计量目标”或“目标”可是指一维或二维目标或者是指一维或二维目标元件。目标称为包括目标元件，每一 “目标元件”为将与其背景区分开的目标的特征，“背景”为在相同层或不同层(目标元件上方或下方)上的接近于目标元件的晶片区。如本文中所使用，本申请案中的术语“目标元件”定义为计量目标中的特征，例如个别目标区或盒、光栅条等。目标元件可被分段，即，可包括多个较小特征。如本申请案中所使用的术语“周期性结构”是指展现某一周期性的至少一个层中的任何种类的所设计或所制作结构。周期性由其间距(即，其空间频率)表征。举例来说，作为目标元件的条可制作为经间隔开平行线的群组，借此减小元件的最小特征大小及避免目标中的单调区域。术语“目标部分”用于指代图中所图解说明的目标的一部分，且不限制所揭示目标设计原理的范围。如本申请案中所使用的术语“先前层”及“当前层”是指计量目标的依序(当前层在先前层上)制作的任何两个层。举例来说，先前层可为氧化物层，且当前层可为多晶硅层，或反之亦然。先前层可包括外目标元件，且当前层可包括内目标元件，或反之亦然。如本文中所使用，本申请案中的术语“连续区域”、“空白区域”或“完整条”定义为具有相对于典型装置特征较大且因为涉及制作不准确性的尺寸的连续目标元件，如下文所描述。虽然大部分说明将空白区域称为目标设计中的连续区域，但明显地注意到，类似设计原理适用于作为连续区域的完整条，且相应目标同样为所揭示本专利技术的部分。如本文中所使用，本申请案中的术语“填充元件”或“间隙元件”定义为分别小于空白区域及完整条且分别用于破坏空白区域及完整条的连续性的元件，如下文详细阐释及图解说明。明确地说，术语“填充元件”用于指代任何连续区域，即，既是指填充空白区域的元件又是指作为完整条中的间隙的填充元件。虽然大部分说明是指空白区域中的填充元件，但明显地注意到，类似设计原理适用于填充完整条的间隙元件，且分别设计的目标同样为所揭示本专利技术的部分。如本文中所使用，本申请案中的术语“计量测量”或“测量”定义为用于从计量目标提取信息的任何计量测量过程。举例来说，计量测量可为目标的成像或目标的散射测量。计量测量的非限制性实例包含覆盖测量(成像或散射测量)、临界尺寸(CD)测量、焦点及剂量测量等。如本申请案中所使用的术语“散射测量覆盖(SCOL) ”是指从衍射级(例如+1衍射级及-1衍射级)的相位导出计量信息的计量方法，所述衍射级从含有周期性结构(例如光栅)的目标反射。现在详细地具体参考图式，应强调，所展示的细节是以实例方式且仅是出于本专利技术的优选实施例的说明性论述的目的，且为提供据信是本专利技术的原理及概念方面的最有用且易懂的说明而呈现。为此，仅以本专利技术的基本理解所需的详细程度来展示本专利技术的结构细节，结合图式进行的说明可使所属领域的技术人员明了如何在实践中体现本专利技术的几种形式。在详细地阐释本专利技术的至少一个实施例之前，应理解，本专利技术在其应用上并不限于在以下说明中所陈述或在图式中所图解说明的构造的细节及组件的布置。本专利技术适用于其它实施例或适于以各种方式实践或执行。同样，应理解，本文中所用的措辞及术语是出于说明目的且不应视为具有限制性。专利技术人已发现，通过空白背景区域分离目标元件的常见实践产生不同种类的计量误差。专利技术人已进一步发现，这些计量误差可通过下文所呈现的不同且有利的目标设计及设计原理而至少部分地克服。注意，虽然所揭示的想法主要针对由空白背景区域分离的经分段目标元件而例示，但其同样可针对为晶片的不同层中的区域的任何大的无特征区域(例如最初未分段目标元件)实施。由于术语“空白”及“经分段”取决于相应尺度，因此进一步注意到，下文所提及的尺寸可根据层及目标设计以及制作过程的特定特性而调整，且适用于任何设计及制作技术。图1A及IB分别图解说明如由在目标元件之间留出空白背景区域的现有技术实践而产生的凹陷效应及旋转项效应。图1A示意性地图解说明包括由空白背景区域90B分离的经分段目标元件90A的当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设计计量目标的方法，其包括识别目标设计中的连续区域及将指定填充元件引入到所述所识别连续区域中，其中通过对比度要求与不准确性要求之间的折衷而确定所述所引入填充元件的参数，所述不准确性要求经由制作而与所述识别连续区域相关联，且其中由至少一个计算机处理器执行所述识别及所述引入中的至少一者。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：努里尔·阿米尔，拉维夫·约哈南，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US