一种机器视觉系统照明光源技术方案

本实用新型专利技术涉及机器视觉系统领域，具体涉及一种机器视觉系统照明光源，包括上透明基板、LED光源和下透明基板，所述LED光源摄于上透明基板和下透明基板内部，所述上透明基板和下透明基板的内表面均设有光学膜层和漫射体，所述漫射体是截面为三角形、倒梯形或圆形，通过改变上、下透明基板的光学结构，从而使LED光源射出的光线可以部分从上透明基板射出，另一部分可以从下透明基板射出，这样观察着可以在光源的上、下两面同时看到双面出光的效果，整体透明度高，在LED未点亮的状态下，保持照明物外部的美观度，可以通过改变基板上光学反光/漫射的结构，实现多彩的画面。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机器视觉系统领域，具体涉及一种机器视觉系统照明光源。
技术介绍
随着相关关键技术的不断发展和进步，机器视觉日益成为工业自动化技术中非常重要的的一个环节。传统的机器视觉图像识别及测量系统主要依靠环境光或常规光学系统附带的光源进行照明。照明质量对系统的识别程度和测量精度影响很大，测量中往往因照明质量不高，使视觉图像测量的准确性降低，给测量结果带来很大误差。LED技术发展迅速，随着亮度和效率的不断提高，LED已经成为一种关键的照明技术，比较广泛地应用于机器视觉系统。其次，在实际应用中，发光二极管随着PN结温度的变化，输出光线的波长会发生1nm以上的偏移。这一色移不仅会影响该颜色的色点，还会影响到整个系统的白点。因此，在传统的应用中为了从根本上解决色移的问题，LED必须以较低的功率运行，或保证照明装置极高的热稳定性，这一点也限制了最新的大功率、高能效、小体积的发光二极管在机器视觉系统高要求照明光源中的应用。再者，目前机器视觉测量系统中使用光源的光强及色度都是由测量人员根据对图像质量的主观判断来调节的，经常要根据工件材质的变化通过重复性试验来选择不同颜色的光源，这种传统方法不仅效率低，机器视觉系统特征模型的图像识别能力和测量精度受操作人员主观判断的影响程度大，而且在实时在线测量系统中无法使用。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种机器视觉系统照明光源。为解决上述技术问题，本技术提供以下技术方案:一种机器视觉系统照明光源，包括上透明基板、LED光源和下透明基板，所述LED光源摄于上透明基板和下透明基板内部，所述上透明基板和下透明基板的内表面均设有光学膜层和漫射体，所述漫射体是截面为三角形、倒梯形或圆形。在上述方案基础上优选，所述漫射体凹陷或凸出于基板表面。在上述方案基础上优选，所述光学膜层为反光膜、增光膜或扩散膜。在上述方案基础上优选，所述上、下透明基板是柔性透明基板或刚性透明基板。本技术与现有技术相比具有的有益效果是:通过改变上、下透明基板的光学结构，从而使LED光源射出的光线可以部分从上透明基板射出，另一部分可以从下透明基板射出。这样观察着可以在光源的上、下两面同时看到双面出光的效果，整体透明度高，在LED未点亮的状态下，保持照明物外部的美观度，可以通过改变基板上光学反光/漫射的结构，实现多彩的画面。【附图说明】图1为本技术整体结构示意图。 图中标号为:1-上透明基板，2-下透明基板，3-漫射体，4-LED光源，5_光学膜层。【具体实施方式】为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。参照图1可知，一种机器视觉系统照明光源，包括上透明基板1、LED光源4和下透明基板2，所述LED光源4设于上透明基板I和下透明基板2内部，所述上透明基板I和下透明基板2的内表面均设有光学膜层5和漫射体3，所述漫射体3是截面为三角形、倒梯形或圆形。值得注意的是，所述漫射体3凹陷或凸出于上透明I和下透明基板2表面，所述光学膜层5为反光膜、增光膜或扩散膜，所述上、下透明基板2是柔性透明基板或刚性透明基板。基于上述，通过改变上、下透明基板的光学结构，从而使LED光源4射出的光线可以部分从上透明基板I射出，另一部分可以从下透明基板2射出。这样观察着可以在光源的上、下两面同时看到双面出光的效果，整体透明度高，在LED未点亮的状态下，保持照明物外部的美观度，可以通过改变基板上光学反光/漫射的结构，实现多彩的画面。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。【主权项】1.一种机器视觉系统照明光源，其特征在于:包括上透明基板、LED光源和下透明基板，所述LED光源摄于上透明基板和下透明基板内部，所述上透明基板和下透明基板的内表面均设有光学膜层和漫射体，所述漫射体是截面为三角形、倒梯形或圆形。2.根据权利要求1所述的一种机器视觉系统照明光源，其特征在于:所述漫射体凹陷或凸出于基板表面。3.根据权利要求1所述的一种机器视觉系统照明光源，其特征在于:所述光学膜层为反光膜、增光膜或扩散膜。4.根据权利要求1所述的一种机器视觉系统照明光源，其特征在于:所述上、下透明基板是柔性透明基板或刚性透明基板。【专利摘要】本技术涉及机器视觉系统领域，具体涉及一种机器视觉系统照明光源，包括上透明基板、LED光源和下透明基板，所述LED光源摄于上透明基板和下透明基板内部，所述上透明基板和下透明基板的内表面均设有光学膜层和漫射体，所述漫射体是截面为三角形、倒梯形或圆形，通过改变上、下透明基板的光学结构，从而使LED光源射出的光线可以部分从上透明基板射出，另一部分可以从下透明基板射出，这样观察着可以在光源的上、下两面同时看到双面出光的效果，整体透明度高，在LED未点亮的状态下，保持照明物外部的美观度，可以通过改变基板上光学反光/漫射的结构，实现多彩的画面。【IPC分类】F21V13-00, F21S8-00, F21Y101-02【公开号】CN204513095【申请号】CN201520074933【专利技术人】蒋富强 【申请人】安徽西玛科光电科技有限公司【公开日】2015年7月29日【申请日】2015年2月3日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种机器视觉系统照明光源，其特征在于：包括上透明基板、LED光源和下透明基板，所述LED光源摄于上透明基板和下透明基板内部，所述上透明基板和下透明基板的内表面均设有光学膜层和漫射体，所述漫射体是截面为三角形、倒梯形或圆形。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋富强，
申请(专利权)人：安徽西玛科光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34