【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种多点式金属化薄膜电阻测试支架，属于薄膜电容器生产制造
技术介绍
现有技术中已公知的，用于制造薄膜电容器的金属化薄膜具有梯度变化或渐进变化的镀层厚度，对于在以下这些方面具有进步意义：降低自愈能耗，减少引出线与电极的接触电阻，提高承载电流的能力，提高耐压能力；金属化薄膜镀层厚度的变化直接影响金属化薄膜电阻性能的变化，为了排除材料品质、加工工艺等细微变化对产品性能的影响，以金属化薄膜的电阻性能来限定或判定金属化薄膜各定义位置处镀层厚度更符合实际需要，也更具有实际操作性。此外，即便是常规的等镀层厚度的金属化薄膜，对于薄膜镀层厚度均匀性的监控也很有必要。为了检测金属化薄膜在不同方向和不同位置处的镀层电阻特性，通常需要对金属化薄膜的多个位置进行检测，通常的检测方法需要不断地改变金属化薄膜的夹持方式，容易造成金属化薄膜的破损，或者采用手持的方式检测不同位置之间的电阻特性则存在测试误差大、检测结果的平行性差的不足。针对上述问题有必要提出可行的技术方案加以克服。
技术实现思路
本技术正是针对现有技术存在的不足，提供一种多点式...
【技术保护点】
一种多点式金属化薄膜电阻测试支架，其特征是，包括：一用于平托金属化薄膜样品的支撑底座（1）；两个用于接触金属化薄膜样品的检测头（2），两个所述检测头（2）分别连接电阻检测设备的正负极检测线；两个固定设置于所述支撑底座（1）上用于夹持金属化薄膜样品的夹持片（3），两个所述夹持片（3）相互平行；一个或两个活动设置于所述支撑底座（1）上用于固定所述检测头（2）的固定片（4），所述固定片（4）位于两个所述夹持片（3）之间且平行于两个所述夹持片（3），所述固定片（4）在平行于所述夹持片（3）的方向上设置有镂空的检测滑槽（41），所述检测头（2）位于所述检测滑槽（41）内。
【技术特征摘要】
1.一种多点式金属化薄膜电阻测试支架，其特征是，包括：
一用于平托金属化薄膜样品的支撑底座（1）；
两个用于接触金属化薄膜样品的检测头（2），两个所述检测头（2）分别连接电阻检测设备的正负极检测线；
两个固定设置于所述支撑底座（1）上用于夹持金属化薄膜样品的夹持片（3），两个所述夹持片（3）相互平行；
一个或两个活动设置于所述支撑底座（1）上用于固定所述检测头（2）的固定片（4），所述固定片（4）位于两个所述夹持片（3）之间且平行于两个所述夹持片（3），所述固定片（4）在平行于所述夹持片（3）的方向上设置有镂空的检测滑槽（41），所述检测头（2）位于所述检测滑槽（41）内。
2.如权利要求1所述的一种金属化薄膜电阻测试支架，其特征是，所述夹持片（3）的两端通过安装螺栓（5）固定连接所述支撑底座（1）；所述支撑底座（1）上设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：张世铎，
申请(专利权)人：黄山申格电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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