一种硅异质结太阳能电池结构及其制造方法技术

技术编号:11480827 阅读:52 留言:0更新日期:2015-05-20 14:37
本发明专利技术提供一种硅异质结太阳能电池结构及其制造方法。该结构包括n型晶体硅,其正面和背面均使用氢化非晶硅进行钝化处理;p型氢化非晶硅层;n型氢化非晶硅层;第一TCO层,位于p型氢化非晶硅层的上方;第二TCO层,位于n型氢化非晶硅层的下方;非晶TCO层,形成于第二TCO层的一表面;银胶层,呈栅格状;以及缓冲薄膜层,溅镀形成于非晶TCO层的一表面。相比于现有技术,本发明专利技术在背面电极一侧于第二TCO层与缓冲薄膜层之间额外设置一非晶TCO层,利用该非晶TCO层与溅镀的Ag薄膜形成氧化银,从而使后溅镀上的Ag能够与非晶TCO层产生化学反应而生成氧-银键,进而提高模组串焊时的焊带拉力。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅异质结太阳能电池结构,其特征在于,所述硅异质结太阳能电池结构包括:一n型晶体硅,具有一正面和一背面,所述正面和所述背面均使用氢化非晶硅进行钝化处理;一p型氢化非晶硅层,位于所述n型晶体硅的正面之上,且与所述n型晶体硅进行异质结;一n型氢化非晶硅层,位于所述n型晶体硅的背面之下,且与所述n型晶体硅进行异质结;一第一透明导电氧化层,位于所述p型氢化非晶硅层的上方;一第二透明导电氧化层,位于所述n型氢化非晶硅层的下方;一非晶透明导电氧化层,形成于所述第二透明导电氧化层的远离所述n型晶体硅的一表面;一银胶层,呈栅格状,形成于所述第一透明导电氧化层的上方;以及一缓冲薄膜层,溅镀形成于所述非晶透明导电氧化层的远离所述n型晶体硅的一表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张傑
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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