【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种高耐候性聚丙烯自发光材料由以下物料组成质量份数如下:聚丙烯 75‑85夜光粉 15‑25偶联剂 1‑5成核剂 1‑3抗紫外吸收剂 1‑8抗氧剂 1‑5光稳定剂 1‑5。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:闫光,郑长威,杨鑫,
申请(专利权)人:黑龙江鑫达企业集团有限公司,
类型:发明
国别省市:黑龙江;23
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