【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种外延前抛光片清洗后的快速干燥方法，其特征在于，向硅片清洗机的干燥槽内加入超纯水，并向超纯水中加入少量氢氟酸，形成稀的氢氟酸溶液，将待干燥的硅片完全浸入在氢氟酸溶液中4～5min，使氢氟酸溶液从干燥槽底部缓慢泄下，使得硅片逐渐露出液面，同时将热氮气喷入该槽内，对露出液面的硅片进行干燥。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：盛方毓，闫志瑞，库黎明，冯泉林，葛钟，
申请(专利权)人：有研新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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