4700nm长波通红外滤光敏感元件制造技术

本发明专利技术公开了一种4700nm长波通红外滤光敏感元件，包括以Si为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本发明专利技术所得到的一种4700nm长波通红外滤光敏感元件，其在温度测量过程中，可大大的提高信噪比，提高测试精准度，适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件5％Cut on=4700nm，6700～13500nm，Tavg≥70%，1500～4200nm，Tavg≤0.5%，T≤3.0%。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种4700nm长波通红外滤光敏感元件，包括以Si为原材料的基板（2），以Ge、ZnS为第一镀膜层（1）和以Ge、ZnS为第二镀膜层（3），且所述基板（2）设于第一镀膜层（1）与第二镀膜层（3）之间，其特征是所述第一镀膜层（1）由内向外依次排列包含有96nm厚度的Ge层、158nm厚度的ZnS层、139nm厚度的Ge层、147nm厚度的ZnS层、106nm厚度的Ge层、157nm厚度的ZnS层、89nm厚度的Ge层、220nm厚度的ZnS层、118nm厚度的Ge层、198nm厚度的ZnS层、99nm厚度的Ge层、156nm厚度的ZnS层、101nm厚度的Ge层、169nm厚度的ZnS层、134nm厚度的Ge层、163nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、232nm厚度的ZnS层、177nm厚度的Ge层、166nm厚度的ZnS层、135nm厚度的Ge层、261nm厚度的ZnS层、206nm厚度的Ge层、158nm厚度的ZnS层、110nm厚度的Ge层、143nm厚度的ZnS层、241nm厚度的Ge层、126nm厚度的ZnS层、215nm厚度的Ge层、209nm厚度的ZnS层、193nm厚度的Ge层、924nm厚度的ZnS层；所述的第二镀膜层（3）由内向外依次排列包含有109nm厚度的Ge层、152nm厚度的ZnS层、243nm厚度的Ge层、213nm厚度的ZnS层、203nm厚度的Ge层、248nm厚度的ZnS层、189nm厚度的Ge层、296nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、347nm厚度的ZnS层、163nm厚度的Ge层、364nm厚度的ZnS层、141nm厚度的Ge层、351nm厚度的ZnS层、184nm厚度的Ge层、358nm厚度的ZnS层、261nm厚度的Ge层、354nm厚度的ZnS层、267nm厚度的Ge层、470nm厚度的ZnS层、197nm厚度的Ge层、561nm厚度的ZnS层、231nm厚度的Ge层、367nm厚度的ZnS层、372nm厚度的Ge层、265nm厚度的ZnS层、260nm厚度的Ge层、1005nm厚度的ZnS层。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王继平，刘晶，吕晶，
申请(专利权)人：杭州麦乐克电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33