【技术实现步骤摘要】
用于金属基片的电化学抛光装置
本技术涉及化学抛光的
,更具体地说,本技术涉及一种用于金属基片的电化学抛光装置。
技术介绍
为了提供高金属物件表面的平整度,就需要去除金属物件表面的毛边、刮痕、焊缝以及氧化等缺陷,而这通常通过磨光或抛光的工序来完成。磨光一般要分多次进行,以逐渐降低物件表面的粗糙度,磨光后的金属表面可以达到0.1微米级别的粗糙度,但是对于磨光工艺而言,耗费工时长,效率较为低下。因此,在现有技术中通常采用抛光工艺来提高金属物件表面的平整度。抛光通常是采用机械和/或化学(包括电化学)的方式进行,经过抛光后的金属物件表面光滑、光泽度较高,而且还利于改善和提高金属物件的各种物理化学性能,例如有利于改善耐蚀性、清洁度以及热传导等性能,有利于提高金属基片的综合性能,尤其是电化学抛光,其不仅能够使得金属物件表面平整,而且可以用于复杂形状以及薄片状金属物件的抛光,但是现有技术中金属物件的抛光通常是针对单一的基片进行,其抛光生广效率还有待进一步提尚。
技术实现思路
为了解决现有技术中的上述技术问题,本技术的目的在于提供一种用于金属基片的电化学抛光装置。 为了实现上述目的,本技术采用了以下技术方案: 一种用于金属基片的电化学抛光装置,包括基座组件、电解槽组件和活动组件;其特征在于:所述电解槽组件以及活动组件均设置在所述基座组件上;所述电解槽组件包括用于盛放电解液的玻璃容器,以及设置在玻璃容器内电解液中的阴极棒和阳极组件,所述阴极棒和阳极组件之间设置有直流电源;所述活动组件包括顶梁,以及设置在所述顶梁上端并能绕所述顶梁旋转的旋转 ...
【技术保护点】
一种用于金属基片的电化学抛光装置,包括基座组件、电解槽组件和活动组件;其特征在于:所述电解槽组件以及活动组件均设置在所述基座组件上;所述电解槽组件包括用于盛放电解液的玻璃容器,以及设置在玻璃容器内电解液中的阴极棒和阳极组件,所述阴极棒和阳极组件之间设置有直流电源;所述活动组件包括顶梁,以及设置在所述顶梁上端并能绕所述顶梁旋转的旋转臂;所述旋转臂的末端设置有竖直连接件;以及驱动所述竖直连接件升降的驱动器;所述竖直连接件的下端悬挂所述阳极组件。
【技术特征摘要】
1.一种用于金属基片的电化学抛光装置,包括基座组件、电解槽组件和活动组件;其特征在于:所述电解槽组件以及活动组件均设置在所述基座组件上;所述电解槽组件包括用于盛放电解液的玻璃容器,以及设置在玻璃容器内电解液中的阴极棒和阳极组件,所述阴极棒和阳极组件之间设置有直流电源;所述活动组件包括顶梁,以及设置在所述顶梁上端并能绕所述顶梁旋转的旋转臂;所述旋转臂的末端设置有竖直连接件;以及驱动所述竖直连接件升降的驱动器;所述竖直连接件的下端悬挂所述阳极组件。2.根据权利要求1所述的用于金属基片的电化学抛光装置,...
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