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本实用新型涉及一种用于金属基片的电化学抛光装置，包括基座组件、电解槽组件和活动组件；所述电解槽组件以及活动组件均设置在所述基座组件上；所述电解槽组件包括用于盛放电解液的玻璃容器，以及设置在玻璃容器内电解液中的阴极棒和阳极组件，所述阴极棒和阳...
该专利属于朱晓飞所有，仅供学习研究参考，未经过朱晓飞授权不得商用。

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