一种双栅线阵列基板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:11381842 阅读:64 留言:0更新日期:2015-05-01 04:48
本发明专利技术的实施例提供一种双栅线阵列基板和显示装置,涉及显示技术领域,可增大显示装置的存储电容,从而降低跳变电压,改善显示品质。所述双栅线阵列基板包括横纵交错的多个栅线组和多条数据线,以及阵列排布的多个像素单元;所述栅线组包括第一栅线和第二栅线;所述阵列基板还包括:位于像素单元内部的第一公共电极线,以及与第一栅线和第二栅线之间的间隙对应的第二公共电极线;位于像素单元内部的像素电极,以及与像素电极电连接的辅助电极;其中,所述第一公共电极线与所述像素电极之间具有交叠区域,所述第二公共电极线与所述辅助电极之间具有交叠区域。用于显示装置的制造。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种双栅线阵列基板,包括横纵交错的多个栅线组和多条数据线,以及阵列排布的多个像素单元;所述栅线组包括第一栅线和第二栅线;其特征在于,所述阵列基板还包括:位于所述像素单元内部的第一公共电极线,以及与所述第一栅线和所述第二栅线之间的间隙对应的第二公共电极线;位于所述像素单元内部的像素电极,以及与所述像素电极电连接的辅助电极;其中,所述第一公共电极线与所述像素电极之间具有交叠区域,所述第二公共电极线与所述辅助电极之间具有交叠区域。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:冯博马禹
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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