纳米成像系统技术方案

本发明专利技术公开了一种纳米成像系统，该纳米成像系统包括：X射线光源；毛细管X光透镜，其入口焦距处设置X射线光源，用于收集并会聚X射线光源发出的X射线束，毛细管X光透镜的出口焦距处形成微焦斑；弯晶聚焦器，其入口焦斑与毛细管X光透镜的微焦斑位置重合形成共聚焦结构，并在出口焦斑形成单色微焦斑；弯晶聚焦器的出口焦斑处放置有样品；放大器，设置于样品之后的光路上，用于会聚并放大样品的成像信号；探测器，设置在放大器之后，用于探测并收集样品的成像信号。因此，实施本发明专利技术能够实现高效纳米成像的同时降低设备成本，并提升设备的功能和寿命。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种纳米成像系统，该纳米成像系统包括：X射线光源；毛细管X光透镜，其入口焦距处设置X射线光源，用于收集并会聚X射线光源发出的X射线束，毛细管X光透镜的出口焦距处形成微焦斑；弯晶聚焦器，其入口焦斑与毛细管X光透镜的微焦斑位置重合形成共聚焦结构，并在出口焦斑形成单色微焦斑；弯晶聚焦器的出口焦斑处放置有样品；放大器，设置于样品之后的光路上，用于会聚并放大样品的成像信号；探测器，设置在放大器之后，用于探测并收集样品的成像信号。因此，实施本专利技术能够实现高效纳米成像的同时降低设备成本，并提升设备的功能和寿命。【专利说明】纳米成像系统
本专利技术涉及光学成像
，特别涉及一种纳米成像系统。
技术介绍
目前，纳米成像技术应用广泛，受到人们的高度重视。为符合高空间分辨纳米成像的技术要求，现有的纳米成像设备大都采用同步辐射光源，因为同步辐射光源的强度高，可以通过单色器将同步辐射光单色化。 但是，本申请的专利技术人发现:同步辐射装置体积庞大，造价昂贵，且数量有限，不便广泛使用。另外，由于实验室普通微焦斑光源的功率低，直接通过实验室普通X射线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米成像系统，其特征在于，包括：X射线光源(1)；毛细管X光透镜(3)，其入口焦距处设置所述X射线光源(1)，用于收集并会聚所述X射线光源(1)发出的X射线束(2)，所述毛细管X光透镜(3)的出口焦距处形成微焦斑(4)；弯晶聚焦器(6)，其入口焦斑与所述毛细管X光透镜(3)的微焦斑(4)位置重合形成共聚焦结构，并在出口焦斑处形成单色微焦斑(7)；所述弯晶聚焦器(6)的出口焦斑处放置有样品；所述弯晶聚焦器(6)的入口端或出口端处配置有所述调节器(5)，用于挡住入射或出射于所述弯晶聚焦器(6)的中间部分X射线；放大器(8)，设置于所述样品之后的光路上，用于会聚并放大所述样品的成像信号；探测器(...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙天希，孙学鹏，刘志国，须颖，董友，
申请(专利权)人：北京师范大学，天津三英精密仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11