X射线纳米成像设备及成像分析系统技术方案

本发明专利技术公开了一种X射线纳米成像设备及成像分析系统，该X射线纳米成像设备包括：X射线光源；毛细管X射线平行束透镜，其入口焦距处设置有X射线光源；单色器，与毛细管X射线平行束透镜出口方向成角度设置，用于将自毛细管X射线平行束透镜出来的平行X射线束变为单色平行X射线束；聚焦器，设置在单色平行X射线束的光线方向上，用于会聚单色平行X射线束形成微焦斑，并投射至样品处；聚焦器的入口端或出口端设置有调节器，用于挡住中间部分的X射线；放大器，设置于样品之后的光路上，用于会聚并放大样品的成像信号；探测器，设置在放大器之后，用于探测并收集样品的成像信号。因此，实施本发明专利技术能够实现高效纳米成像的同时降低成本。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种X射线纳米成像设备及成像分析系统，该X射线纳米成像设备包括：X射线光源；毛细管X射线平行束透镜，其入口焦距处设置有X射线光源；单色器，与毛细管X射线平行束透镜出口方向成角度设置，用于将自毛细管X射线平行束透镜出来的平行X射线束变为单色平行X射线束；聚焦器，设置在单色平行X射线束的光线方向上，用于会聚单色平行X射线束形成微焦斑，并投射至样品处；聚焦器的入口端或出口端设置有调节器，用于挡住中间部分的X射线；放大器，设置于样品之后的光路上，用于会聚并放大样品的成像信号；探测器，设置在放大器之后，用于探测并收集样品的成像信号。因此，实施本专利技术能够实现高效纳米成像的同时降低成本。【专利说明】X射线纳米成像设备及成像分析系统
本专利技术涉及光学成像
，特别涉及一种X射线纳米成像设备及成像分析系统。
技术介绍
目前，为符合高空间分辨纳米成像的技术要求，现有的纳米成像设备大都采用同步辐射光源，因为同步辐射光源的强度高，可以通过单色器将同步辐射光单色化。 但是，本申请的专利技术人发现:同步辐射装置体积庞大，造价昂贵，且数量有限，不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线纳米成像设备，其特征在于，包括：X射线光源(1)；毛细管X射线平行束透镜(3)，其入口焦距处设置有所述X射线光源(1)；单色器(5)，与所述毛细管X射线平行束透镜(3)出口方向成角度设置，用于将自所述毛细管X射线平行束透镜(3)出来的平行X射线束(4)变为单色平行X射线束(6)；聚焦器(8)，设置在所述单色平行X射线束(6)的光线方向上，用于会聚所述单色平行X射线束(6)形成微焦斑，并投射至所述样品(9)处；其中，所述聚焦器(8)的入口端或出口端设置有调节器(7)，用于挡住入射至或出射于所述聚焦器(8)的中间部分X射线；放大器(10)，设置于所述样品(9)之后的光路上，用于会聚并放大...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙天希，孙学鹏，刘志国，须颖，董友，
申请(专利权)人：北京师范大学，天津三英精密仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11