一种反射型薄膜透过率的测量装置制造方法及图纸

本技术公开了一种反射型薄膜透过率的测量装置。本技术通过添加反射面，只需要分别测出薄膜的光强反射率R和薄膜‑反射面的光强反射率R′，就能够通过公式直接算出薄膜的透过率，不需要建立精密光学模型和复杂拟合；薄膜的反射光和反射面反射回来的光不发生干涉，不涉及振幅的叠加，仅为光强的叠加，只需要得到光强就能够得到透过率，用两次测量反射率测出薄膜的透过率；用本技术采用反射型测量透过率的过程中，不需要提前知道薄膜的厚度和膜的光学性质，非常适合实时原位测量和监测薄膜的生长过程；所有的光学元件都在薄膜的一侧，入射光可取角度范围远大于椭偏仪角度范围，易于与其他制膜设备集成。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学薄膜测量技术，具体涉及一种反射型薄膜透过率的测量装置。

技术介绍

1、薄膜广泛应用于光伏、存储、芯片等现代光子学和光电子
，它可以用来制造各种光电子器件、芯片和仪器。薄膜的性质，如材料属性、厚度等以及均匀性，对光电子器件和芯片性能至关重要。材料的光学属性可通过测量透过率或吸光度来表征，不同材料的透过率会有区别。另外，实时原位测量光学薄膜的生长过程可研究制膜工艺的动力学过程，对于理解和优化器件功能至关重要。

2、光学测量方法具有无接触性、测量精度高和非破坏性的特点，被广泛应用于半导体、光学镀膜、新能源材料等领域中的薄膜性质的测量和检测。光学测量方法主要分为两种：反射型和透射型。基于反射型系统的膜厚仪和椭偏仪利用薄膜干涉原理，通过测量薄膜结构的反射光来研究薄膜的性质，如膜厚和材料的复折射率。通过膜厚和材料的复折射率可进一步算出薄膜结构的透过率或吸光度。这种反射型系统的仪器(椭偏仪和膜厚仪)的物理本质是利用不同材料交界面的许多反射光的振幅叠加干涉。用膜厚仪测量到薄膜反射后的干涉光谱，还必须知道膜厚和材料的复折射率其中一个参数，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种反射型薄膜透过率的测量装置，采用光纤系统，其特征在于，所述反射型薄膜透过率的测量装置包括：薄膜、衬底、光源、入射光纤、出射光纤、探测器或光谱仪、计算机和反射面；其中，薄膜设置在透光的衬底上，薄膜上为环境；衬底的透光率≥5％；在薄膜之上设置入射光纤和出射光纤；光源耦合至入射光纤，出射光纤的末端耦合至探测器或光谱仪，探测器或光谱仪连接至计算机；

2.一种反射型薄膜透过率的测量装置，采用自由空间光系统，其特征在于，所述反射型薄膜透过率的测量装置包括：薄膜、衬底、光源、分光元件、第一透镜、第二透镜、探测器或光谱仪、计算机和反射面；其中，薄膜设置在透光的衬底上，薄膜上为环境；衬...

【技术特征摘要】

1.一种反射型薄膜透过率的测量装置，采用光纤系统，其特征在于，所述反射型薄膜透过率的测量装置包括：薄膜、衬底、光源、入射光纤、出射光纤、探测器或光谱仪、计算机和反射面；其中，薄膜设置在透光的衬底上，薄膜上为环境；衬底的透光率≥5％；在薄膜之上设置入射光纤和出射光纤；光源耦合至入射光纤，出射光纤的末端耦合至探测器或光谱仪，探测器或光谱仪连接至计算机；

2.一种反射型薄膜透过率的测量装置，采用自由空间光系统，其特征在于，所述反射型薄膜透过率的测量装置包括：薄膜、衬底、光源、分光元件、第一透镜、第二透镜、探测器或光谱仪、计算机和反射面；其中，薄膜设置在透光的衬底上，薄膜上为环境；衬底的透光率≥5％；在薄膜之上设置分光元件、第一透镜和第二透镜；探测器或光谱仪连接至计算机；

3.如权利要求1或2所述的反射型薄膜透过率的测量装置，其特征在于，所述光源采用多波长光...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建军，
申请(专利权)人：北京师范大学，
类型：新型
国别省市：