本发明专利技术根据实施形态，提供具备载物台、喷嘴、移动单元、气体供给部、洗净液供给部和喷嘴洗净部的螺旋涂敷装置。载物台具有载置涂敷对象物的载置面。喷嘴往载置在载物台上的涂敷对象物吐出液体。移动单元使喷嘴相对于载物台相对地移动。气体供给部提供气体。洗净液供给部提供洗净液。喷嘴洗净部具有气体供给口和洗净液供给口，从气体供给口向喷嘴喷射从气体供给部提供来的气体，从洗净液供给口向喷嘴吐出从洗净液供给部提供来的洗净液。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术根据实施形态，提供具备载物台、喷嘴、移动单元、气体供给部、洗净液供给部和喷嘴洗净部的螺旋涂敷装置。载物台具有载置涂敷对象物的载置面。喷嘴往载置在载物台上的涂敷对象物吐出液体。移动单元使喷嘴相对于载物台相对地移动。气体供给部提供气体。洗净液供给部提供洗净液。喷嘴洗净部具有气体供给口和洗净液供给口，从气体供给口向喷嘴喷射从气体供给部提供来的气体，从洗净液供给口向喷嘴吐出从洗净液供给部提供来的洗净液。【专利说明】螺旋涂敷装置本专利技术申请基于2013年9月18日提出的日本专利申请N0.2013-193286号并主张该申请的优先权，引用该申请的全部内容并入本专利技术中。
本专利技术的实施形态涉及螺旋涂敷装置。
技术介绍
在例如半导体等领域中，作为在基板上形成膜的装置有螺旋涂敷装置。螺旋涂敷装置使将圆盘状的基板固定的圆形旋转台旋转，边从涂敷喷嘴吐出材料边使涂敷喷嘴从基板中央向基板外周直线状地移动，描绘螺旋状(旋涡状)的涂敷轨迹，通过这样在整个基板面形成膜。此时，通过精度良好地将涂敷喷嘴顶端面(吐出面)与基板表面之间的距离控制在大致一定的值，能够形成厚度更均匀的膜。 如果涂敷喷嘴的顶端被污染了的话，则膜的厚度产生参差不齐，因此一般情况下，螺旋涂敷装置在形成膜后用例如有机溶剂等洗净液将附着在涂敷喷嘴上的附着物洗净。但是，如果在涂敷喷嘴的顶端残留有洗净液的话，则涂敷开始部的膜厚产生参差不齐。涂敷喷嘴的洗净工序复杂。因此，希望涂敷喷嘴的洗净工序简化。
技术实现思路
本专利技术想要解决的问题是提供一种能够简化涂敷喷嘴的洗净工序的螺旋涂敷装置。 本专利技术为一种螺旋涂敷装置，具备:载物台，具有载置涂敷对象物的载置面；喷嘴，往载置在上述载物台上的上述涂敷对象物吐出液体；移动单元，使上述喷嘴相对于上述载物台相对地移动，该移动单元具有使上述喷嘴沿与上述载物台的旋转轴平行的方向移动的第I移动机构部、以及使上述喷嘴沿与上述旋转轴交叉的方向沿着上述载置面移动的第2移动机构部；气体供给部，提供气体；洗净液供给部，提供洗净液；以及，喷嘴洗净部，具有气体供给口和洗净液供给口，从上述气体供给口向上述喷嘴喷射从上述气体供给部提供来的上述气体，从上述洗净液供给口向上述喷嘴吐出从上述洗净液供给部提供的上述洗净液。 利用上述结构，能够提供能够简化涂敷喷嘴的洗净工序的螺旋涂敷装置。 【专利附图】【附图说明】 图1为表示本专利技术实施形态的螺旋涂敷装置的示意俯视图； 图2A及图2B为表示本实施形态的喷嘴洗净部的示意图； 图3A?图3F为说明喷嘴洗净部的作用及喷嘴的洗净方法的示意俯视图； 图4A?图4F为说明比较例的喷嘴的洗净方法的示意俯视图； 图5A及图5B为举例说明本实施形态的喷嘴洗净部的变形例的示意俯视图； 图6A及图6B为举例说明本实施形态的擦去部的具体例的示意俯视图。 【具体实施方式】 根据实施形态，提供具备载物台、喷嘴、移动单元、气体供给部、洗净液供给部和喷嘴洗净部的螺旋涂敷装置。上述载物台具有载置涂敷对象物的载置面。上述喷嘴往载置在上述载物台上的上述涂敷对象物吐出液体。上述移动单元使上述喷嘴相对于上述载物台相对地移动。上述移动单元具有第I移动机构部和第2移动机构部。上述第I移动机构部使上述喷嘴沿与上述载物台的旋转轴平行的方向移动。上述第2移动机构部使上述喷嘴沿与上述旋转轴交叉的方向沿着上述载置面移动。上述气体供给部提供气体。上述洗净液供给部提供洗净液。上述喷嘴洗净部具有气体供给口和洗净液供给口，从上述气体供给口向上述喷嘴喷射从上述气体供给部提供来的上述气体、从上述洗净液供给口向上述喷嘴吐出从上述洗净液供给部提供来的上述洗净液。 下面参照附图对本专利技术的实施形态进行说明。另外，各附图中相同的构成要素附加相同的标记，适当省略详细的说明。 图1为表示本专利技术实施形态的螺旋涂敷装置的示意俯视图。 图1所示的螺旋涂敷装置100具备载物台101、喷嘴102、涂敷液供给部103、检测部104、移动单元105、喷嘴洗净部110、气体供给部14、洗净液供给部20和擦去部30。 在载物台101的载置面1la上载置有作为涂敷对象物的基板W。载物台101保持载置的基板W。载物台101被形成为例如圆形状，在驱动部107的驱动下能够在水平面内(沿着载置面1la的面内)旋转。基板W被例如使用了未图示的真空泵等的吸附机构保持在载物台101上。 驱动部107能够在水平面内旋转地支承载物台101，用例如电动机等使载物台101以载物台101的中心为旋转中心在水平面内旋转。由此，载置在载物台101上的基板W在水平面内旋转。 喷嘴102从顶端朝基板W的表面吐出涂敷液L。喷嘴102连续地吐出涂敷液L，将涂敷液L涂敷到基板W的表面上。例如，基板W为半导体晶片等。例如，涂敷液L为抗蚀剂液等。 涂敷液供给部103通过喷嘴102将涂敷液L提供给基板W的表面。例如，涂敷液供给部103具有储存容器、泵、供给阀和吐出阀。储存容器收容涂敷液L。泵向喷嘴102提供涂敷液L。供给阀和吐出阀根据从未图示的控制部发送来的信号开闭，控制涂敷液L向基板W表面的提供。 检测部104检测到基板W的表面或载物台101的载置面1la的距离。喷嘴102的顶端面(吐出面)102a与基板W的表面之间的距离由未图示的控制部根据检测到的到基板W表面的距离进行控制。或者，喷嘴102的顶端面102a与载物台101的载置面1la之间的距离由未图示的控制部根据检测到的到载物台101的载置面1la的距离进行控制。作为检测部104能够列举例如反射型激光传感器等。 移动单元105具有升降部(第I移动机构部)105a和移动部(第2移动机构部)105b，使喷嘴102相对于载物台101相对移动。升降部105a保持喷嘴102使喷嘴102升降。S卩，升降部105a使喷嘴102沿与载物台101的旋转轴平行的方向移动。移动部105b保持升降部105a，使喷嘴102沿与升降方向正交的方向移动。即，移动部105b使喷嘴102沿与载物台101的旋转轴垂直的方向沿着载置面1la移动。作为移动单元105，能够列举例如双轴控制的机械手等。 喷嘴洗净部110用从气体供给部14提供的气体202和从洗净液供给部20提供的洗净液201洗净喷嘴102的顶端部。有关喷嘴洗净部110的详细结构后述。 气体供给部14具有供给部14a、压力控制部14b和开闭阀14c，通过气体供给流路14d向喷嘴洗净部110提供气体202。供给部14a为例如收容有高压气体202的储存容器和工厂管线等。压力控制部14b使从供给部14a提供来的气体202的压力在规定范围内地进行控制。开闭阀14c控制气体202的供给和停止。 这种情况下，具有压力控制部14b和开闭阀14c的组也可以设置多组。在具有压力控制部14b和开闭阀14c的组设置有多组的情况下，能够与附着在喷嘴102上的附着物的粘度等相对应地切换喷射的气体202的流速。 例如，对于粘度低的附着物，能够通过降低压力设定的压力控制部14b而使气体202喷射。并且，对于粘度高的附着物，能够通过提高了压力设定的压力控制部14b而使气体202喷射。由此，能够容易地除去粘度高的附着物本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种螺旋涂敷装置，具备：载物台，具有载置涂敷对象物的载置面；喷嘴，往载置在上述载物台上的上述涂敷对象物吐出液体；移动单元，使上述喷嘴相对于上述载物台相对地移动，该移动单元具有使上述喷嘴沿与上述载物台的旋转轴平行的方向移动的第1移动机构部、以及使上述喷嘴沿与上述旋转轴交叉的方向沿着上述载置面移动的第2移动机构部；气体供给部，提供气体；洗净液供给部，提供洗净液；以及喷嘴洗净部，具有气体供给口和洗净液供给口，从上述气体供给口向上述喷嘴喷射从上述气体供给部提供来的上述气体，从上述洗净液供给口向上述喷嘴吐出从上述洗净液供给部提供来的上述洗净液。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：贵志寿之，渊上安彦，大城健一，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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