涂布装置以及涂布方法制造方法及图纸

一种涂布装置，用以将一涂液涂布于一基材上，该涂布装置包括：一涂布头，具有一涂液出口，该涂布头与该基材适于沿一第一轴向相对移动，并能够通过该涂液出口将该涂液涂布于该基材；一调节件，连接于该涂布头，该调节件包含一设置于该涂液出口处的活动垫片，该活动垫片适于沿一第二轴向移动，调节该涂液出口的开口率；以及一驱动组件，与该调节件相接，用以控制该调节件沿该第二轴向进行移动。另外，一种涂布方法在此提出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关于一种涂布装置，特别是指一种可进行图形化涂布的涂布装置以及涂布方法。
技术介绍
溶剂型涂布利用液体具有粘度与流动的惯性力涂于一个固体载体表面上以产生一个均匀薄膜的精密技术，广泛的应用在半导体制程，面板加工技术与光学膜制作技术上。目前涂布技术例如有身计量式(self-metering)的含浸式涂布(dip coating)、滚筒式涂布(roller coating)、刮刀式涂布(blade coating)、喷涂式涂布(inkjet coating)及点胶式涂布(dispensing)。当光学涂液或是功能性涂液涂布在基材上之后一般需要通过后制程将涂布层图形化，例如先将光阻剂涂布在基材上烘焙成膜，再利用曝光显影技术将薄膜图形化。光学胶涂布亦然，先将可拨胶印刷在载板上，在光学胶涂布初固化后，再将可拨胶移除，得到图形化涂布层。后制程的增加不只是提高的生产成本外，也容易因外来污染物影响涂布层外观。传统的狭缝式涂布装置，所涂布的图形图案是具有一固定宽度的形状(例如矩形形状)，或是具有规则形状。但随着设计的不同需求，有些产品所需的图形图案是需要有变化性的(例如不规则形状)，因此传统设备不能满足这样的需求。
技术实现思路
为解决现有技术的问题，本专利技术主要目的在于提供一种通过活动垫片的调整而控制涂液在基材上的图形，以符合二维图形化涂布要求的涂布装置。本专利技术实施例提供一种涂布装置，用以将一涂液涂布于一基材上，以形成一涂布层，该涂布装置包括：一涂布头，具有一涂液出口，该涂布头与该基材适于沿一第一轴向相对移动，并通过该涂液出口用以将该涂液涂布于该基材；一调节件，连接于该涂布头，该调节件包含一设置于该涂液出口处的活动垫片，该活动垫片适于沿一第二轴向移动，以调节该涂液出口的开口率；以及一驱动组件，与该调节件相接，用以控制该调节件沿该第二轴向移动。本专利技术实施例还提供一种涂布方法，包括下列步骤。首先，准备一涂布装置，该涂布装置包含：一涂布头，具有一涂液出口；一调节件，连接于该涂布头，该调节件包含一设置于该涂液出口处的活动垫片；以及一驱动组件，连接于该调节件；将一基材设置于该涂布头下方；以及使该涂布头与该基材沿一第一轴向进行相对移动，且同时通过该驱动组件驱动该调节件，使该活动垫片沿一第二轴向进行移动，调整该涂液出口的开口率。本专利技术的有益效果在于，实施例所提供的涂布装置以及涂布方法，通过在涂布头移动的过程中，活动垫片与涂布头的相对位置可改变，以此，涂布头在移动的过程中经由调整涂液出口的开口率，而使涂布的图案具有不规则形状。为了能更进一步了解本专利技术为达成既定目的所采取的技术、方法及功效，请参阅以下有关本专利技术的详细说明、图式，相信本专利技术的目的、特征与特点，当可由此得以深入且具体的了解，然而所附图式与附件仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制者。附图说明图1A至图1C是本专利技术一实施例的涂布装置于使用状态中的立体示意图。图2是本专利技术一实施例的涂布装置的局部立体示意图。图3是图2的涂布装置的局部爆炸示意图。图4A至图4B是图2的涂布装置于使用状态中母模的局部剖面示意图。图5为本专利技术一实施例涂布装置沿第三轴向的上视图。图6A是另一实施例母模的局部剖面示意图。图6B为另一实施例涂布装置沿第三轴向的上视图。图7A是又一实施例母模的局部剖面示意图。图7B为又一实施例涂布装置沿第三轴向的上视图。图8是本专利技术一实施例的涂布装置的局部侧视示意图。图9是本专利技术一实施例的涂布方法的步骤流程图。【主要元件符号说明】涂布装置1涂布头110公模111母模112第一凹槽1011第二凹槽1012涂液出口101涂液流道102涂液入口103组装面P1、P2容置空间M1、M2涂液出口宽度d1、d2调节件120活动垫片121外接端122感应凸轮123连接架124凸杆1241弹性件1242驱动组件130图形模块131图形模块的侧边L承载平台140固定垫片150涂液存储器160涂液压力控制组件170控制阀171涂液输送组件180输送阀181输送管182基材2涂布层3步骤S1～S3X第一轴向Y第二轴向Z第三轴向具体实施方式为便于了解本专利技术涂布装置的涂布方式，请参考图1A至图1C，图1A至图1C绘示了本专利技术一实施例的涂布装置于使用状态中的立体示意图。如图1A所示，涂布装置1包含有三个主要部件：涂布头110、调节件120、驱动组件130，调节件120连接于涂布头110，驱动组件130连接于调节件120，各组件的具体构造后文将详述。在本实施例中，涂布装置1更包含承载平台140，用以承载被涂布的基材2。待涂布的基材2可通过真空吸附、静电吸附，或机械装置等方式固定在承载平台140上。基材2可为卷材等载体，例如为玻璃基材、或塑胶基材。同时，基材2亦可为复合叠层的载体，例如已形成有光学涂层的玻璃基材。进一步参考图1B和图1C，在涂布过程中，涂布头110具有涂液出口(后文详述)，且涂布头110能够与基材2沿一第一轴向X进行相对移动，并能够通过涂液出口将涂液涂布于基材2。于本实施例，涂布过程中，承载平台140是处于静置状态，而涂布头110进行移动。但不难理解，在另一实施例中，亦可使涂布头110处于静置状态，而承载平台140进行移动。在又一实施例中，亦可使涂布头110和承载平台140都进行移动。在涂布头110与基材2沿第一轴向X进行相对移动时，在第二轴向Y上，驱动组件130可驱动调节件120，进而调整经由涂布头110所涂布的涂液的尺寸，形成如图1C所示的涂布层3。以下将详述本专利技术涂布装置1的构造及作动原理。请参考图2至图5，图2是本专利技术一实施例的涂布装置的局部立体示意图，而图3是图2的涂布装置1的局部爆炸示意图，图4A和图4B为涂布装置于使用状态中母模的局部剖面示意图，图5为涂布装置沿第三轴向Z的上视图。如图2和图3所示，涂布头110包含公模111和母模112，公模111与母模112可对应结合。公模111和母模112分别具有一组装面P1和一组装面P2。公模111的组装面P1以及母模112的组装面P2两者形状、大小可大致相同。在本实施例中，公模11本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布装置，其特征在于，该涂布装置用以将一涂液涂布于一基材上，以形成一涂布层，该涂布装置包括：一涂布头，具有一涂液出口，该涂布头与该基材适于沿一第一轴向相对移动，并通过该涂液出口用以将该涂液涂布于该基材；一调节件，连接于该涂布头，该调节件包含一设置于该涂液出口处的活动垫片，该活动垫片适于沿一第二轴向移动，以调节该涂液出口的开口率；以及一驱动组件，与该调节件相接，用以控制该调节件沿该第二轴向移动。

【技术特征摘要】
1.一种涂布装置，其特征在于，该涂布装置用以将一涂液涂布于一基材
上，以形成一涂布层，该涂布装置包括：
一涂布头，具有一涂液出口，该涂布头与该基材适于沿一第一轴向相对
移动，并通过该涂液出口用以将该涂液涂布于该基材；
一调节件，连接于该涂布头，该调节件包含一设置于该涂液出口处的活
动垫片，该活动垫片适于沿一第二轴向移动，以调节该涂液出口的开口率；
以及
一驱动组件，与该调节件相接，用以控制该调节件沿该第二轴向移动。
2.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，更包括一承载平台，用
以承载被涂布的该基材。
3.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，该基材通过真空吸附、
静电吸附，或机械装置的方式固定在该承载平台上。
4.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，该涂布头包括一公模以
及一母模，该公模与该母模对应结合，该活动垫片配置于该公模与该母模之
间。
5.如权利要求4所述的涂布装置，其特征在于，该涂布装置还包括一固
定垫片，配置于该公模与该母模之间，且该活动垫片与该固定垫片沿一第三
轴向进行排布。
6.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，在该涂布头与该基材沿
该第一轴向进行相对移动时，该活动垫片沿该第二轴向移动，调整该涂液出
口的开口率。
7.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，该调节件还包括一感应
凸轮，该感应凸轮连接于该活动垫片。
8.如权利要求7所述的涂布装置，其特征在于，该驱动组件为一图形模
块，该图形模块具有一...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄俊尧，陈英哲，洪博斌，江益增，
申请(专利权)人：宸美厦门光电有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35