System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 具有镂空图案的电极结构及其装置制造方法及图纸_技高网

具有镂空图案的电极结构及其装置制造方法及图纸

技术编号:40605913 阅读:4 留言:0更新日期:2024-03-12 22:12
本发明专利技术涉及一种具有镂空图案的电极结构,该电极结构具有一透明电极层,该透明电极层形成有镂空图案,其中,该镂空图案包含有多个交叉图案,该等交叉图案由一第一镂空段以及一第二镂空段组成,该第一镂空段以及该第二镂空段的均不为直线段。一种装置包含上述的电极结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具有镂空图案的电极结构及其装置,尤其涉及一种肉眼不可见的电极结构及其装置。


技术介绍

1、近年来,透明导电膜应用于如平面显示器、电子纸显示器、oled显示器、触控显示器、太阳能电池板等光电产品中,因此透明导电膜已成为光电产品架构里的关键零组件。其中,具有可挠性、高光源穿透效果、高导电度透明导电膜应用多元,也能为新颖电子产品创造更多卖点。

2、现有技术中,透明导电膜通常需要进行电极图案化处理,以形成触控电极。图案化处理的方式可为激光(即干式蚀刻)或化学湿蚀刻,而通过上述蚀刻步骤所移除的部分即称为非电极区或蚀刻区,由于蚀刻区的光学性质,例如雾度、穿透率、色度等与电极区不同,造成人眼可明显识别的蚀刻痕,也就是当两个区域的光学性质差异过大,使用者就容易观察到两区域之间的界线(即蚀刻线/蚀刻痕,故也可以称作蚀刻线/蚀刻痕的可视性问题),从而影响触控式屏幕视觉效果。因此亟需降低上述光学差异,减少被使用者看到的风险。

3、中国台湾专利公开号tw201211866(以下简称tw866)公开一种在具有镂空部的触控电极,以提升整体透光率。tw866所公开的镂空部是重复设置完全相同的挖空图样在电极上,如其图1、图6、图8等等,然而对人眼来说,重复性的图案可能会形成光学的干涉效果,例如摩尔纹(moire)等,故tw866所公开的镂空触控电极虽然可以提高光线的穿透度,但也可能会造成使用者在观看屏幕时的质量受到影响。

4、因此,鉴于上述缺失,遂有本专利技术的产生。


技术实现思

1、本专利技术的目的提供一种具有镂空图案的电极结构,其中,电极结构据有镂空图案,其可以达到本专利技术的电极结构具有导电度和透明度的优异平衡,在不影响电性的情况下,可降低蚀刻痕的可视性。

2、本专利技术又一目的提供一种具有镂空图案的电极结构,电极结构的镂空图案由第一镂空段以及第二镂空段所组成,第一镂空段以及第二镂空段均具有一曲率半径,可避免直线型镂空图案可能产生的光学干涉现象

3、本专利技术的具有镂空图案的电极结构,包括:基板;以及透明电极层,设置于基板上,透明电极层形成有镂空图案;其中,镂空图案包含有多个交叉图案,每一交叉图案由一曲率不等于零的第一镂空段以及一曲率不等于零的第二镂空段组成,在相邻的交叉图案中,第一镂空段以及第二镂空段的其中之一实质相同,而第一镂空段以及第二镂空段的其中另一实质不相同。

4、较佳地,根据本专利技术的电极结构,其中,第一镂空段以及第二镂空段分别朝第一方向以及第二方向延伸,第一交叉图案与第二交叉图案沿第一方向相邻,第一交叉图案的第二镂空段与第二交叉图案该第二镂空段具有实质相同的宽度、曲率半径及曲率中心相对位置;第一交叉图案的第一镂空段与第二交叉图案的第一镂空段具有实质相同的宽度及曲率半径,第一交叉图案的第一镂空段与第二交叉图案的第一镂空段的曲率中心相对位置不同。

5、较佳地,根据本专利技术的电极结构,其中,第一镂空段以及第二镂空段分别朝第一方向以及第二方向延伸,第一交叉图案与第三交叉图案沿第二方向相邻,第一交叉图案的第一镂空段与第三交叉图案的第一镂空段具有实质相同的宽度、曲率半径及曲率中心相对位置;第一交叉图案的第二镂空段与第三交叉图案的第二镂空段具有实质相同的宽度及曲率半径,第一交叉图案的第二镂空段与第三交叉图案的第二镂空段的曲率中心相对位置不同。

6、较佳地,根据本专利技术的电极结构,其中,第一镂空段的曲率半径约为0.41mm,第二镂空段的曲率半径约为0.42mm。

7、较佳地,根据本专利技术的电极结构,其中,透明电极层至少包含一纳米银线层,镂空图案占该透明电极层的面积比例约为2%-5%之间。

8、较佳地,根据本专利技术的电极结构,其中,该透明电极层至少包含一纳米银线层,该镂空图案占该透明电极层的面积比例约小于7%。

9、较佳地,根据本专利技术的电极结构,其中,电极结构具有虚拟电极,虚拟电极形成有镂空图案,虚拟电极区上的镂空图案的多个第一镂空段以及多个第二镂空段的曲率皆不等于零。

10、又,本专利技术进一步提供一种装置,如一种显示装置,其包含有如上所述的电极结构。

11、综上所述,本专利技术所提供的电极结构,电极结构具有交叉图案,其实质上由非直线的第一镂空段以及非直线的第二镂空段所组成,且相邻的交叉图案中所对应的镂空段在宽度、曲率半径及曲率中心相对位置等的三个条件中至少有一个实质不同,也就是说,相邻的交叉图案不是实质上相同的图案可避免重复排列的镂空图案可能产生的光学干涉现象,例如相邻的交叉图案的第一镂空段的宽度不同;或者相邻的交叉图案的第一镂空段的曲率半径不同;或者相邻的交叉图案的第一镂空段的曲率中心相对位置。又或者相邻的交叉图案的第一镂空段的宽度与曲率中心相对位置均不同等的实施方法。据此,本专利技术可以达到解决或降低蚀刻线/蚀刻痕的可视性问题。

12、为使熟悉所属
中技术人员了解本专利技术的目的、特征及功效,兹通过下述具体实施例,并配合附图,对本专利技术详加说明。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种具有镂空图案的电极结构,包括:

2.根据权利要求1所述的电极结构,其中,所述第一镂空段以及所述第二镂空段分别朝第一方向以及第二方向延伸,第一交叉图案与第二交叉图案沿所述第一方向相邻,所述第一交叉图案的所述第二镂空段与所述第二交叉图案的所述第二镂空段具有实质相同的宽度、曲率半径及曲率中心相对位置;所述第一交叉图案的所述第一镂空段与所述第二交叉图案的所述第一镂空段具有实质相同的宽度及曲率半径,所述第一交叉图案的所述第一镂空段与所述第二交叉图案的所述第一镂空段的曲率中心相对位置不同。

3.根据权利要求2所述的电极结构,其中,所述第一镂空段以及所述第二镂空段分别朝第一方向以及第二方向延伸,所述第一交叉图案与第三交叉图案沿所述第二方向相邻,所述第一交叉图案的所述第一镂空段与所述第三交叉图案的所述第一镂空段具有实质相同的宽度、曲率半径及曲率中心相对位置;所述第一交叉图案的所述第二镂空段与所述第三交叉图案的所述第二镂空段具有实质相同的宽度及曲率半径,所述第一交叉图案的所述第二镂空段与所述第三交叉图案的所述第二镂空段的曲率中心相对位置不同。

4.根据权利要求1所述的电极结构,其中,所述第一镂空段的曲率半径约为0.41mm,所述第二镂空段的曲率半径约为0.42mm;所述第一镂空段与所述第二镂空段的宽度约为10um;相邻的所述多个交叉图案之间的间距约为100um。

5.根据权利要求1所述的电极结构,其中,所述透明电极层至少包含纳米银线层,所述镂空图案占所述透明电极层的面积比例约为2%-5%之间。

6.根据权利要求1所述的电极结构,其中,所述透明电极层至少包含纳米银线层,所述镂空图案占所述透明电极层的面积比例约小于7%。

7.根据权利要求1所述的电极结构,其中,所述电极结构有至少一虚拟电极,所述虚拟电极形成有镂空图案,所述虚拟电极区上的所述镂空图案的多个第一镂空段以及多个第二镂空段的曲率皆不等于零。

8.一种包含如权利要求1所述的电极结构的装置。

...

【技术特征摘要】

1.一种具有镂空图案的电极结构,包括:

2.根据权利要求1所述的电极结构,其中,所述第一镂空段以及所述第二镂空段分别朝第一方向以及第二方向延伸,第一交叉图案与第二交叉图案沿所述第一方向相邻,所述第一交叉图案的所述第二镂空段与所述第二交叉图案的所述第二镂空段具有实质相同的宽度、曲率半径及曲率中心相对位置;所述第一交叉图案的所述第一镂空段与所述第二交叉图案的所述第一镂空段具有实质相同的宽度及曲率半径,所述第一交叉图案的所述第一镂空段与所述第二交叉图案的所述第一镂空段的曲率中心相对位置不同。

3.根据权利要求2所述的电极结构,其中,所述第一镂空段以及所述第二镂空段分别朝第一方向以及第二方向延伸,所述第一交叉图案与第三交叉图案沿所述第二方向相邻,所述第一交叉图案的所述第一镂空段与所述第三交叉图案的所述第一镂空段具有实质相同的宽度、曲率半径及曲率中心相对位置;所述第一交叉图案的所述第二镂空段与所述第三交叉图案的所述第二镂空段具有实质相同的宽度及曲...

【专利技术属性】
技术研发人员:简伯任黄彦馀柯涌彬蔡利煌
申请(专利权)人:宸美厦门光电有限公司
类型:发明
国别省市:

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