本实用新型专利技术涉及一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)的设备，具有至少一个加热件(9、19)，其中，加热件(9、19)的部段或者不同的加热件(9、19)并排延伸并且借助支撑件(10、20)相对于支撑板被位置固定，其中，支撑件(10、20)分别具有形状接合地插入支撑板(29)的固定开口内的支脚(15、16、17；25、26、27)和与横向于支撑板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相连接的头部(11、12、13；21、22、23)，加热件(9、19)固定在头部(11、12、13；21、22、23)上。为了改进支撑件和连接件在加热设备上的固定，建议支脚(15、16、17；25、26、27)通过形状接合固定件(15、16、17；25、26、27)固定在支撑板(29)的固定开口(38)内，形状接合固定件(15、16、17；25、26、27)将支撑件(10、20)束缚在支撑板(29)上。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)的设备，具有至少一个加热件(9、19)，其中，加热件(9、19)的部段或者不同的加热件(9、19)并排延伸并且借助支撑件(10、20)相对于支撑板被位置固定，其中，支撑件(10、20)分别具有形状接合地插入支撑板(29)的固定开口内的支脚(15、16、17；25、26、27)和与横向于支撑板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相连接的头部(11、12、13；21、22、23)，加热件(9、19)固定在头部(11、12、13；21、22、23)上。为了改进支撑件和连接件在加热设备上的固定，建议支脚(15、16、17；25、26、27)通过形状接合固定件(15、16、17；25、26、27)固定在支撑板(29)的固定开口(38)内，形状接合固定件(15、16、17；25、26、27)将支撑件(10、20)束缚在支撑板(29)上。【专利说明】用于加热CVD反应器的基座的设备
本专利技术涉及一种用于加热尤其CVD (化学气相沉积)反应器的基座的设备，具有至少一个加热件，其中，所述加热件的部段或者不同的加热件并排延伸并且借助支撑件相对于支撑板被位置固定，其中，所述支撑件分别具有形状接合地、牢固地插入所述支撑板的固定开口内的支脚，并且其中与横向于所述支撑板的延伸面延伸的柄部相连接的头部固定在颈部件上。 本专利技术还涉及一种用于加热尤其CVD反应器的基座的设备，具有至少一个加热件，所述加热件与至少一个接触板相连接，所述接触板借助连接件相对于支撑板被位置固定。
技术介绍
CVD反应器具有反应器壳体，处理室处于反应器壳体内。反应器壳体将处理室气密地与周围环境相隔绝。进气机构处于在反应器壳体内，气体原料通过进气机构被导入处理室中。待涂覆的基板安置在基座上。基座构成处理室的底板，气体原料被输入到处理室内。为了在基板上沉淀层，基板表面必须被加热到处理温度，该处理温度在1000°c范围内。这通过安置在基座下面的加热设备实现。位于基座几厘米之上的进气机构常常例如通过冷却液被冷却。由此，在处理室内产出了变化剧烈的垂直温度差，其导致从基座到进气机构的加大的放热。因此为了达到处理温度，需要加热设备以较大的导热率进行输入。加热设备的加热件必须将温度加热到约2000°C。此外还需要大面积的加热。 US 7，645，342 B2描述了一种加热设备，具有围绕中心圆弧形布置的加热丝。加热丝借助支撑件与支撑板相连接。 在DE 26 30 466 Al或US 3，345，498中描述了一种沿螺旋线延伸的加热件。US7，573，004也示出一种在圆弧线上延伸的加热件。由US 3，567，906已知一种波纹形状延伸的加热件。 例如DE 10 2009 043 960 AU DE 10 2007 009 145 AU DE 103 29 107 Al、DE10 2005 056 536 AU DE 10 2006 018 515 Al 或 DE 10 2007 027 704 Al 示出一种用于加热CVD反应器的基座的设备。
技术实现思路
按照本专利技术的设备的加热件通过接通电流进行加热。各个加热机构的两个端部与接触板相连接。加热件安置在至少一个平面内。但是也可行的是，加热件在相互不同的平行平面内安置。加热件在相应的平面上沿圆弧形或螺旋形的线延伸。尤其规定，加热件螺旋形地安置。这使得彼此不同的加热器或同一个加热器的不同的部段并排地延伸。为了如此固定并排延伸的加热器的位置，使得即便在加热或冷却时加热设备的部件剧烈移动的情况下，它们也不会相接触，因此设置有支撑件，其将加热件在多个位置、尤其在相互均匀间隔的位置上与支撑板相连接。此外还设置有连接件，一个或多个接触板通过连接件与支撑板相连接。所述连接件还具有的作用是，避免不同的接触板在加热设备加热和冷却时彼此接触。 本专利技术所要解决的技术问题是，改进支撑件或连接件在加热设备上的固定。 所述技术问题通过按照本专利技术的用于加热尤其CVD反应器的基座的设备得以解决。 首先并且根本上建议，支撑件具有支脚，该支脚形状接合地、牢固地插入支撑板的固定开口中。支撑件具有柄部，所述柄部横向于支撑板的延伸平面延伸。在柄部的端部上具有头部，加热件固定在所述头部上。设置有形状接合固定件，支脚借助该形状接合固定件固定在支撑板上。所述形状接合固定件将支撑件沿柄部的延伸方向束缚在支撑板上。支撑件由此沿柄部的延伸方向具有最小化的、优选减小到零的移动间隙。在此，设置有从上面夹持支撑板的形状接合固定件和从下面夹持支撑板的形状接合固定件。所述形状接合固定件可以由从柄部上横向于柄部的延伸方向突起的固持凸起或固定凸起构成。优选如此设计至少一个固持凸起，使得该固持凸起可穿过支撑板的固定开口。通过旋转和/或弯曲操作，至少一个固定凸起可以被置入束缚位置中。例如将支撑件在插入固定开口后旋转90°，由此可以实现上述操作。但还可行的是，仅弯曲至少一个固持凸起，使得固持凸起的部段可以支承在支撑板的底侧上。固定凸起安置在支撑板的上侧上。优选分别设置有两个固持凸起和两个固定凸起。两个凸起对可以设计为从柄部的侧面凸起的接片。在固持凸起和固定凸起之间延伸着颈部，该颈部在支撑件的固定状态下位于固定开口中。固定凸起和/或固持凸起也可以支承在插入件上。插入件可以是绝缘体。在这种情况下，支撑板可以由金属材料制造。支撑板能够尤其由钨或钥构成。但还可规定，支撑板由陶瓷材料制成。支撑板尤其是绝缘的。至少支撑件的支脚可以被设计为平板件。固定开口可以是长孔。该长孔可以具有窄孔段，该窄孔段的宽度等于支撑件或支脚的材料厚度。支撑件可以由例如钨或钥构成的金属平板件制成。在此能够是冲压件。此外，固定开口具有宽孔段，该宽孔段的宽度等于颈部的宽度，使得颈部可以在较宽的固定孔部段的内部旋转90 °，以便侧向突出的固定凸起可以从下面扣住支撑板的底侧。支撑件的头部可以具有至少一个弧形延伸的支承面。侧面的臂在侧面设置在该支承面的两侧。支承面可以被设计为弧形的凹穴(Mulde)。但也可规定，支承面由四周封闭的开口的边缘构成。开口可以具有圆形的横截面。支承面优选可以具有齿纹。加热件接触地贴靠在支承面上。加热件可以是一种螺旋盘绕的加热线。优选延伸有两条并排的、设计为双股螺旋线的加热线。通过固定线，设计为加热件的加热线被固定在支撑件上。为了将固定线固定，支撑件和尤其支撑件的头部具有至少一个凹槽。但也可以设置多个凹槽，在固定状态下固定线置于凹槽中。 此外，本专利技术还涉及对连接件的改进，一个或多个接触板通过连接件与支撑板相连接。接触板通过连接件被位置固定。通过连接件也可以将两个平行平面安置的接触板相互连接。由此，连接件也可以共同将在三个平行平面安置的板件、即支撑板和两个接触板相互连接。在此也设置有形状接合固定件，该形状接合固定件将连接件的部段分别固持在支撑件的开口或接触板的开口中。形状接合固定件也可以嵌接在插入开口中的绝缘体上。当支撑板由金属制成或者当两个接触板相互连接时，这尤其是有利的。形状接合固定件如此设计，使得该形状接合固定件将支撑板或至少一个接触板沿连接件的延伸方向、也就是沿横向于接触板或支撑板的延伸平本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)的设备，具有至少一个加热件(9、19)，其中，所述加热件(9、19)的部段或者不同的加热件(9、19)并排延伸并且借助支撑件(10、20)相对于支撑板被位置固定，其中，所述支撑件(10、20)分别具有形状接合地、牢固地插入所述支撑板(29)的固定开口内的支脚和与横向于所述支撑板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相连接的头部(11、12、13；21、22、23)，所述加热件(9、19)固定在所述头部(11、12、13；21、22、23)上，其特征在于，所述支脚通过形状接合固定件固定在所述支撑板(29)的固定开口(38)内，所述形状接合固定件将所述支撑件(10、20)沿所述柄部(14、24)的延伸方向束缚在所述支撑板(29)上。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：PA伯丁，ME奥彭，K艾伦，FMA克劳利，
申请(专利权)人：艾克斯特朗欧洲公司，
类型：新型
国别省市：德国;DE
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。