【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于沉积有机层的方法和设备
[0001]本专利技术涉及一种用于在基底上沉积层的方法,其中,由承载气体输送的先前蒸发的具有大于300g/mol或400g/mol的摩尔质量的有机分子构成的气流被馈入气体混合装置的一个或多个输入端中,一个或多个气流的分子通过借助气体偏转元件的多次偏转均匀地混合在承载气体中,由此产生的混合物作为气流从气体混合装置的输出端引导至输送线路,通过输送线路输送到进气机构的气体分布体积中,通过气体分布体积的出气开口朝承受器的方向逸出,并且分子作为有机层沉积在由基底支架容纳的基底上。
[0002]本专利技术还涉及一种用于执行该方法的设备,该设备具有气体混合装置,该气体混合装置具有分别用于馈入由通过承载气体输送的先前蒸发的具有大于300g/mol或400g/mol的摩尔质量的有机分子构成的气流的一个或多个输入端、通过多次偏转使气流均匀地相互混合的气体偏转元件和输出端,从输出端逸出均匀的气体混合物;输送线路,该输送线路连接至输出端;和进气机构,该进气机构具有气体分布体积,输送线路通入该气体分布体积中,并且气体分布体积具有带有出气开口的出气表面,该出气表面与用于容纳基底的基底支架对置。
技术介绍
[0003]DE 102014106523 A1示出了一种用于在基底上沉积层的设备,其中,两种不同的气体在混合装置中混合,并且通过输送线路输送到呈喷头形式的进气机构。从DE 102014109196 A1中已知一种用于蒸发气溶胶的设备,该气溶胶与承载气体一起被运输到喷头的气体分布体积中。
[0004] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在基底上沉积层的方法,其中,由通过承载气体输送的、先前蒸发的、具有大于300g/mol或400g/mol的摩尔质量的有机分子构成的气流(F1、F2)分别馈入气体混合装置(1)的一个或多个输入端(2、2
’
)中,一个或多个气流(F1、F2)的分子通过借助气体偏转元件(7)的多次偏转均匀地在承载气体中混合,因此产生的混合物作为气流(F3)从气体混合装置(1)的输出端(8)引导至输送线路(9)中,通过所述输送线路(9)输送到进气机构(1)的气体分布体积(11)中,通过气体分布体积(11)的出气开口(12)朝承受器的方向逸出,并且所述分子作为有机层沉积在由基底支架(15)容纳的基底(16)上,其特征在于,输送线路(9)中的平均流动速度(v
m
)被这样选择,所述输送线路(9)具有这样设计的扩散影响装置(25)或者在输送线路(9)的面对进气机构(10)的端部上这样设置有压力壁垒(20),使得在输送线路(9)中,有机分子的指向输送线路(9)的横截面中的、导致横向的不均匀的层生长的、偏析的扩散至少被抑制、优选被阻止。2.一种用于在基底(16)上沉积有机层的设备,具有:气体混合装置(1),所述气体混合装置具有分别用于馈入由通过承载气体输送的先前蒸发的具有大于300g/mol或400g/mol的摩尔质量的有机分子构成的气流(F1、F2)的一个或多个输入端(2、2
’
)、通过多次偏转使有机分子在承载气体中均匀混合的气体偏转元件(7)和输出端(8),从所述输出端逸出均匀的气体混合物,输送线路(9),所述输送线路连接至输出端(8),和进气机构(10),所述进气机构具有气体分布体积(11),所述输送线路(9)通入所述气体分布体积中,并且所述气体分布体积具有带有出气开口(12)的出气表面(13
’
),所述出气表面与用于容纳基底(16)的基底支架(15)对置,其特征在于,所述输送线路(9)具有这样的横截面积、这样设计的扩散影响装置(25),或在其面对进气机构(1)的端部上设置有压力壁垒(20),从而因此,有机分子的指向输送线路(9)的横截面中的、导致横向的不均匀的层生长的、偏析的扩散至少被抑制、优选被阻止。3.根据权利要求1所述的方法或权利要求2所述的设备,其特征在于,所述压力壁垒(20)是气体分布体积(11)内的尤其环形的节流阀。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法或设备,其特征在于,所述压力壁垒(20)是设有气体通过开口(22)的尤其是在柱体周...
【专利技术属性】
技术研发人员:HA吉斯,A杰奥尔吉,JR宾德尔,DK苏布兰马尼安姆,T谢弗,D基珀,OM维尔辛格,
申请(专利权)人:艾克斯特朗欧洲公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。