亲水性的改性丙烯酸树脂膜制造技术

本发明专利技术的课题在于提供防雾性、防污性优异、透明性也优异的亲水性的改性丙烯酸树脂膜。本发明专利技术的改性丙烯酸树脂膜是由具有阴离子性亲水基团的丙烯酸树脂类膜得到的改性丙烯酸树脂膜，其是使用化合物(A)对表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜的该表面进行处理而得到的，所述化合物(A)在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】亲水性的改性丙烯酸树脂膜
本专利技术涉及防雾性优异、防污性优异、透明性也优异的亲水性的改性丙烯酸树脂膜及层叠该改性丙烯酸树脂膜而成的层叠体。
技术介绍
近年来，针对由塑料等有机材料、及玻璃等无机材料形成的基材的起雾、污垢的改善要求逐渐提高。作为解决起雾的问题的方法，提出了利用包含反应性表面活性剂、丙烯酸类低聚物的防雾涂料来提高亲水性、吸水性的方法(例如参照非专利文献1)。另外，作为解决污垢的问题的方法，提出了通过提高材料表面的亲水性，利用洒水或降雨使外壁等上附着的外界气体疏水性物质等污垢上浮，来将其除去的方法(例如，参照非专利文献2及3)。另外，提出了一种亲水性材料，所述亲水性材料是通过在基材的表面上涂布交联聚合性单体组合物并控制紫外线照射量，使其形成不完全聚合的交联聚合物，然后涂布亲水性单体并再次照射紫外线，使亲水单体嵌段聚合于或接枝聚合于交联聚合物的表面而形成的(专利文献1及专利文献2)。然而，关于上述的单纯的使亲水性单体嵌段聚合于或接枝聚合于基材表面的方法，由于亲水性基团仅存在于表面，所以存在耐久性低、不能耐受长期使用的问题。作为解决上述问题的手段，本专利技术人等此前提出了一种单层膜，所述单层膜中，特定的阴离子性亲水基团从膜内部至膜表面倾斜(偏析)，阴离子性亲水基团在表面附近以高浓度存在(专利文献3及专利文献4)。现有技术文献专利文献[专利文献1]日本特开2001－98007号公报[专利文献2]日本特开2011－229734号公报[专利文献3]国际公开第2007/064003号公报[专利文献4]国际公开第2012/014829号公报[非专利文献][非专利文献1]东亚合成研究年报，TREND，1999年2月号，39～44页[非专利文献2]高分子，44(5)，307页[非专利文献3]未来材料，2(1)，36－41页
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本申请的数位专利技术人的课题在于，通过在进一步提高此前的申请(专利文献3及专利文献4)的亲水性的同时也提高耐久性，从而提供即使长期使用也能耐受的具有高性能的防雾性、防污性、防结露性等的亲水膜，以及提供层叠该亲水膜而成的层叠体。用于解决课题的手段本专利技术人等为了解决上述课题而进行了反复研究，结果发现，若使用下述化合物(A)对具有阴离子性亲水基团的下述丙烯酸树脂类膜的表面进行处理，则在亲水性进一步提高的同时也能提高耐久性，从而完成了本专利技术，其中所述化合物(A)在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、或羟基组成的组中的任一种，所述丙烯酸树脂类膜的表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度。即，本专利技术是一种改性丙烯酸树脂膜，其是用在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团、和1个以上的选自包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基中的基团的化合物(A)对具有阴离子性亲水基团的下述丙烯酸树脂类膜的表面进行处理而得到的，所述丙烯酸树脂类膜的表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度。专利技术效果对于本专利技术的亲水膜而言，亲水性提高，并且耐久性也提高，具有即使长期使用也能耐受的高性能的防雾性、防污性、防结露性等。附图说明[图1]图1是用于说明实施例中的试样制备的图。具体实施方式本专利技术的改性丙烯酸树脂膜是由具有阴离子性亲水基团的丙烯酸树脂类膜得到的改性丙烯酸树脂膜，其是使用在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团的化合物(A)对表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜的该表面进行处理而得到的。[表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜]本专利技术中使用的丙烯酸树脂类膜，只要是表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜即可。本说明书中，有时将其称为“阴离子性的亲水基团倾斜的膜(倾斜膜)”。作为这些阴离子性亲水基团倾斜的膜，可举出利用溶剂的蒸发而使阴离子性亲水基团在表面上倾斜的高亲水性的膜(专利文献3及专利文献4)，其可优选作为本专利技术的处理膜使用。此处，阴离子性亲水基团表示选自磺酸基、羧基或磷酸基中的亲水性的官能团，这些之中，特别优选表面的亲水性变高的磺酸基。本专利技术中使用的表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜(阴离子性亲水基团倾斜的膜)的阴离子性亲水基团可利用TOF－SIMS分析。通常以如下方式表示表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度。即，使用阴离子浓度比(膜表面的阴离子浓度Sa相对于距表面的深度为1/2膜厚的位置的阴离子浓度Da的浓度比)Sa/Da，当Sa/Da大于1.0时，则为表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度。有时将上述Sa/Da称为阴离子性亲水基团的倾斜度。本专利技术中，对于用在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团的化合物(A)处理的丙烯酸树脂类膜而言，优选使用阴离子性亲水基团的倾斜度(Sa/Da)为1.1以上的丙烯酸树脂系的亲水性倾斜膜。而且，用化合物(A)处理的丙烯酸树脂系倾斜膜的表面的亲水性高的情况是优选的，若用水接触角表示，则优选为30°以下，更优选为20°以下，进一步优选为10°以下。本专利技术中使用的表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜可利用专利文献3或专利文献4中记载的方法得到。例如，可利用包括以下工序的制造方法来制造：制作混合物的工序，所述混合物包含具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的多元单体(II)，具有至少1个阴离子性亲水基团和至少1个选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团的化合物(A’)(其中不包括上述多元单体(II))，和含有例如溶解度参数σ(cal/cm3)为9.3以上、优选9.5以上的化合物的溶剂；将该混合物涂布到基材表面的至少一面上的工序；从涂布了的混合物中除去至少一部分溶剂的工序；及将经过了上述工序的混合物聚合的工序。对于本专利技术中使用的丙烯酸类膜而言，在表面及表面附近的内部，阴离子性亲水基团以高浓度存在，因而推想：当利用亲水性的化合物(A)处理时，容易与亲水性的化合物(A)亲和，可在表面不缺损的情况下进行处理，能接枝大量的阴离子性亲水基团，并且能容易渗透到表面附近的膜内部进行处理，阴离子性亲水基团能接枝到直到膜内部的位置。因此可认为，与用亲水性的化合物(A)处理其他材料而得到的膜相比，用化合物(A)处理阴离子性亲水基团倾斜的膜而得到的膜在表面及表面附近的阴离子性亲水基团的浓度容易提高，由此，亲水性进一步飞跃性地提高，并且即使表面发生一些劣化·分解，也会由于表面附近的内部的阴离子性亲水基团作为表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改性丙烯酸树脂膜，其是由具有阴离子性亲水基团的丙烯酸树脂类膜得到的改性丙烯酸树脂膜，其是使用化合物(A)对表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜的该表面进行处理而得到的，所述化合物(A)在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.12 JP 2012-1330741.一种改性丙烯酸树脂膜，其是由具有阴离子性亲水基团的丙烯酸树脂类膜得到的改性丙烯酸树脂膜，其是使用化合物(A)对表面处的阴离子性亲水基团的浓度高于距该丙烯酸树脂类膜的表面的深度为1/2膜厚处的阴离子性亲水基团的浓度的丙烯酸树脂类膜的该表面进行处理而得到的，所述化合物(A)在1分子内具有1个以上的阴离子性亲水基团和1个以上的选自由包含聚合性碳碳双键的基团、氨基、巯基、及羟基组成的组中的基团。2.如权利要求1所述的改性丙烯酸树脂膜，其中，所述处理是接枝处理。3.如权利要求1或2所述的改性丙烯酸树脂膜，其中，化合物(A)是选自通式(1)～(6)表示的化合物中的1种以上；通式(1)所述式(1)中，D1表示(甲基)丙烯酰基氧基、(甲基)丙烯酰基硫基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基、烯丙基、异丙烯基、苯乙烯基、巯基、氨基、甲基氨基、或乙基氨基，其中仅当q为1时，D1才能表示(甲基)丙烯酰基氧基、(甲基)丙烯酰基硫基或(甲基)丙烯酰胺基，Z表示氢离子、铵离子、碱金属离子、或1/2原子的碱土金属离子；R是碳原子数为1～600的2价的脂肪族烃基，且可以含有选自芳香环、脂肪族环状基、醚基、及酯基中的1种以上的基团；q表示0或1；通式(2)所述式(2)中，R5及R6表示氢原子或甲基，R7表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基；Z表示氢离子、铵离子、碱金属离子、或1/2原子的碱土金属离子；n1表示1～10的整数；通式(3)所述式(3)中，D1表示(甲基)丙烯酰基氧基、(甲基)丙烯酰基硫基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基、烯丙基、异丙烯基、苯乙烯基、巯基、氨基、甲基氨基、或乙基氨基，其中仅当q为1时，D1才能表示(甲基)丙烯酰基氧基、(甲基)丙烯酰基硫基或(甲基)丙烯酰胺基，Z表示氢离子、铵离子、碱金属离子、或1/2原子的碱土金属离子；R是碳原子数为1～600的2价的脂肪族烃基，且可以含有选自芳香环、脂肪族环状基、醚基、及酯基中的1种以上的基团；q表示0或1；通式(4)所述式(4)中，D2表示(甲基)丙烯酰基氧基、(甲基)丙烯酰基硫基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基、烯丙基、异丙烯基、苯乙烯基、巯基、氨基、甲基氨基、或乙基氨基，Z表示氢离子、铵离子、碱金属离子、或1/2原子的碱土金属离子；R是碳原子数为1～600的2价的脂肪族烃基，且可以含有选自芳香环、脂肪族环状基、醚基、及酯基中的1种以上的基团；a及b表示1或2的整数，满足a+b＝3；当a为2时，各D2彼此、各R彼此相互可以相同也可以不同；当b为2时，各Z彼此相互可以相同也可以不同；通式(5)所述式(5)中，D3、R3及SO3Z是与所述式中含有的环上的碳原子键合的基团，D3各自独立地表示乙烯基、烯丙基、异丙烯基、苯乙烯基、巯基、氨基、甲基氨基、乙基氨基、或羟基，Z表示氢离子、铵离子、碱金属离子、或1/2原子的...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈崎光树，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP