亲水嵌段共聚物和由其制备的膜制造技术
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】亲水嵌段共聚物和由其制备的膜[000。 专利技术背景 芳族聚合物，如聚讽、聚酸讽、聚（献嗦酸讽酬）、聚（对苯硫酸）、聚酸酷亚胺、聚 酷亚胺、聚氧化亚苯基（polyphenyleneoxide)、聚苯酸（polyphenyleneether)、聚酸酸 酬，由于它们的化学稳定性、可加工性、机械强度、柔初性和热稳定性，可用于制备多孔膜。 因为运些聚合物通常是疏水性的，由运些聚合物制备的膜是疏水性的，因此缺乏所需的表 面性质，如润湿性、低蛋白质吸附、抗血栓和受控表面化学反应。已经进行了尝试来改进由芳族聚合物制成的膜的一种或多种表面性质。例如，已 用高能福射或等离子体处理膜W赋予亲水性。在其他实例中，已将亲水性单体接枝到疏水 性膜的表面。也已经进行了尝试来用水溶性聚合物如聚乙二醇或聚乙締化咯烧酬涂覆疏水 性膜。然而，W上改进性质、特别是亲水性的尝试具有一个或多个缺点，如缺乏再现性、缺乏 改性稳定性和/或孔堵塞。上述表明，对于由芳族疏水性聚合物形成的亲水性膜W及对于赋予由芳族疏水性 聚合物形成的膜W亲水性的方法，存在未能满足的需要。[000引专利技术概述本专利技术提...
【技术保护点】
式A‑B‑A(I)或者A‑B(II)的嵌段共聚物，其中嵌段A是：(i)烯丙基缩水甘油醚的聚合物，所述聚合物具有烯丙基；或者(ii)烯丙基缩水甘油醚的聚合物，其中所述烯丙基中的一个或多个被1，2‑二羟基丙基或式‑(CH2)a‑S‑(CH2)b‑X的基团代替，其中a为3且b为1至3，并且X选自酸性基团、碱性基团、阳离子、阴离子、两性离子、卤素、羟基、酰基、酰氧基、烷基硫基、烷氧基、醛基、酰氨基、氨基甲酰基、脲基、氰基、硝基、环氧基、式‑C(H)(COOH)(NH2)的基团和式‑C(H)(COOH)(NHAc)的基团或其盐；和嵌段B是芳族疏水性聚合物链段。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：H·埃特哈多，F·O·奥涅茂瓦，
申请(专利权)人：帕尔公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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