一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管技术方案

技术编号:11048641 阅读:138 留言:0更新日期:2015-02-18 14:02
本发明专利技术公开了一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,属于冶金技术领域。本发明专利技术采用如下技术方案:一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,其特征在于,包括导气管内腔和导气管管壁,所述导气管管壁上开有多个加料插管孔,所述加料插管孔与所述导气管内腔相通,所述导气管管壁上端设置有导气孔,所述导气管管壁的底端两侧开有清理孔,所述清理孔与所述导气管内腔相通,所述导气孔的半径大于所述加料插管孔的半径。本发明专利技术实现了可以高效方便的对回转窑蒸硒系统需要的原料以及产生的气体分道送到硒吸收装置,保证回转窑蒸硒系统的运行畅通的有益效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,属于冶金
 
技术介绍
硒是稀散非金属之一,粗硒是铜冶炼过程中的副产品,硒产量增长一直较为缓慢,年供应量有限。而硒的用途非常广泛,可应用于冶金、玻璃、陶瓷、电子、太阳能、饲料等众多领域,且随着世界经济的发展和新的应用领域的出现,硒的下游需求不断增长,在一定程度上导致硒的价格不断上涨。 
技术实现思路
本专利技术目的是提供一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,实现对回转窑的加料以及向硒吸收装置排放气体的功能。 本专利技术采用如下技术方案:一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,其特征在于,包括导气管内腔和导气管管壁,所述导气管管壁上开有多个加料插管孔,所述加料插管孔与所述导气管内腔相通,所述导气管管壁上端设置有导气孔,所述导气管管壁的底端两侧开有清理孔,所述清理孔与所述导气管内腔相通,所述导气孔的半径大于所述加料插管孔的半径。 本专利技术所达到的有益效果:可以高效方便的对回转窑蒸硒系统需要的原料以及产生的气体分道送到硒吸收装置,保证回转窑蒸硒系统的运行畅通。 附图说明图1是本专利技术的主视图的结构示意图。 图2是本专利技术的左视图的结构示意图。 图3是本专利技术的俯视图的结构示意图。 图中标记的含义:1-导气孔,2-加料插管孔,3-清理孔。 具体实施方式下面结合附图对本专利技术作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案,而不能以此来限制本专利技术的保护范围。 图1所示的是本专利技术的主视图的结构示意图,图2所示的是本专利技术的左视图的结构示意图,图3所示的是本专利技术的俯视图的结构示意图,本专利技术包括导气管内腔和导气管管壁,导气管管壁上开有多个加料插管孔2,加料插管孔2与导气管内腔相通,导气管管壁的上端设置有导气孔1,导气管管壁的底端两侧开有清理孔3,清理孔3与导气管内腔相通。 优选地,导气管的半径大于加料插管孔的半径。 以上所述仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本专利技术的保护范围。 本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,其特征在于,包括导气管内腔和导气管管壁,所述导气管管壁上开有多个加料插管孔,所述加料插管孔与所述导气管内腔相通,所述导气管管壁上端设置有导气孔,所述导气管管壁的底端两侧开有清理孔,所述清理孔与所述导气管内腔相通,所述导气孔的半径大于所述加料插管孔的半径。

【技术特征摘要】
1.一种用于回转窑蒸硒系统的窑头导气管,其特征在于,包括导气管内腔和导气管管壁,所述导气管管壁上开有多个加料插管孔,所述加料插管孔与所述导气管内腔相通,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋正龙
申请(专利权)人:南京永亮炉业有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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