光学元件及其制造方法、显示元件及投射型图像显示装置制造方法及图纸

具有波长带特性及入射角度特性优异的防反射性能的光学元件，具备：基体；以及在基体的表面以光的波长以下的细微间距配置多个的、由凸部构成的构造体。各构造体为具有矩形状的底面的四角锥形状或四角锥台形状，形成矩形状的底面的四边向该底面的中心弯曲。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】具有波长带特性及入射角度特性优异的防反射性能的光学元件，具备：基体；以及在基体的表面以光的波长以下的细微间距配置多个的、由凸部构成的构造体。各构造体为具有矩形状的底面的四角锥形状或四角锥台形状，形成矩形状的底面的四边向该底面的中心弯曲。【专利说明】光学元件及其制造方法、显示元件及投射型图像显示装置
确切地说本技术涉及光学元件及其制造方法、具备该光学元件的显示元件以及投 射型图像显示装置。详细而言，涉及具有防反射功能的光学元件。
技术介绍
确切地说在专利文献1中，光学元件(透镜)的至少一个光学面为非球面。而且，构 成为在该非球面的光线有效部的至少一部分形成包含与光学元件的基体材料不同的成分 且具有平均间距为400nm以下的细微凹凸构造的防反射构造体。即，细微凹凸构造的间距 在使用波长的范围内，与折射率从空气向基体材料逐渐变化的膜等效，光学元件对波长带 特性及入射角度特性具有优异的防反射性能。 确切地说再者，在专利文献1中，细微凹凸构造由包含与光学元件不同的成分的、 化学耐久性优异的无机物(例如铝或氧化铝）构成。因此，具有细微凹凸构造的防反射构造 体不仅抑制光学元件的界面上的反射，而且还保护光学元件的基体材料，能够抑制烧伤、模 糊不清的发生。 确切地说此外，作为平均间距400nm以下的细微凹凸构造的形成方法，采用利用 溶胶一凝胶法将包含氧化铝的溶液涂敷到透镜表面而形成被膜，通过将该被膜浸渍于40°C 以上KKTC以下的温水而形成细微凹凸构造的方法。依据该方法，也能比较廉价地形成大面 积且曲率大的非球面等的光学元件表面。 现有技术文献 专利文献 确切地说专利文献1 :日本特开2010 - 191074号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题 确切地说如上所述，近年来，希望具有波长带特性及入射角度特性优异的防反射性能 的光学兀件。 确切地说因此，本技术的目的在于提供具有波长带特性及入射角度特性优异的防 反射功能的光学元件及其制造方法、具备该光学元件的显示元件以及投射型图像显示装 置。 用于解决课题的方案 确切地说为了解决上述课题，第1技术为一种具有防反射功能的光学元件，具备： 基体；和 在基体的表面以光的波长以下的细微间距配置多个的、由凸部构成的构造体， 构造体为具有矩形状的底面的四角锥形状或四角锥台形状， 形成矩形状的底面的四边，向该底面的中心弯曲。 确切地说第2技术为一种具有防反射功能的光学元件的制造方法，包括：将膜母 盘的形状转印到有机树脂材料，形成在基体的表面以光的波长以下的细微间距配置多个 的、由凸部构成的构造体， 构造体为具有矩形状的底面的四角锥形状或四角锥台形状， 形成矩形状的底面的四边，向该底面的中心弯曲。 确切地说本技术中，由于在基体的表面以光的波长以下的细微间距配置多个由凸 部构成的构造体，所以能够得到波长带特性及入射角度特性优异的防反射功能。 专利技术效果 确切地说如以上说明的那样，依据本技术，能够提供具有波长带特性及入射角度特性 优异的防反射功能的光学元件。 【专利附图】【附图说明】 确切地说图1中图IA是示出本技术的第1实施方式所涉及的光学元件的结构的 一个例子的平面图；图IB是放大表示图IA所示的光学元件的一部分的平面图；图IC是图 IB的径迹T1、T3、……上的截面图； 图2是示出光学元件的构造体的形状例的立体图； 图3中图3A是示出膜母盘的结构的一个例子的立体图；图3B是放大表示图3A所示的 膜母盘的一部分的平面图；图3C是图3A的径迹T1、T3、……上的截面图； 图4中图4A是示出滚筒母盘的结构的一个例子的立体图；图4B是放大表示图4A所示 的滚筒母盘的一部分的平面图；图4C是图4A的径迹T1、T3、……上的截面图； 图5是示出用于制作滚筒母盘的滚筒母盘曝光装置的结构的一个例子的概略图； 图6中图6A?图6D是用于说明本技术的第1实施方式所涉及的光学元件的制造工序 的工序图； 图7中图7A?图7C是用于说明本技术的第1实施方式所涉及的光学元件的制造工序 的工序图； 图8中图8A、图8B是用于说明本技术的第1实施方式所涉及的光学元件的制造工序的 工序图； 图9是示出第1变形例所涉及的光学元件的结构的一个例子的平面图； 图10中图IOA是示出第2变形例所涉及的光学元件的结构的一个例子的平面图；图 IOB是放大表示图IOA所示的光学元件的一部分的平面图；图IOC是图IOB的径迹T1、 T3、……上的截面图； 图11中图IlA是示出第3变形例所涉及的光学元件的结构的一个例子的平面图；图 IlB是放大表示图IlA所示的光学元件的一部分的平面图；图IlC是图IlB的径迹T1、 T3、……上的截面图； 图12是示出光学元件的构造体的形状例的立体图； 图13是示出本技术的第2实施方式所涉及的光学元件的折射率分布的一个例子的 图； 图14是示出构造体的形状的一个例子的截面图； 图15中图15A?图15C是用于说明变化点的定义的图； 图16是示出变形例所涉及的光学元件的构造体的形状的一个例子的截面图； 图17是示出本技术的第3实施方式所涉及的光学元件的折射率分布的一个例子的 图； 图18是示出构造体的形状的一个例子的放大截面图； 图19中图19A?图19C是用于说明变化点的定义的图； 图20是示出本技术的第4实施方式所涉及的投影仪装置的结构的概略图； 图21是放大表示图20所示的液晶面板112B及其附近的概略图； 图22是示出实施例1 一 1?1 一 3的光学元件的反射光谱的图； 图23是示出比较例1 一 1、1 一 2的光学元件的反射光谱的图； 图24是示出实施例2 - 1?2 - 5的光学元件的透射光谱的图。 【具体实施方式】 确切地说一边参照附图一边按照以下顺序说明本技术的实施方式。 1?第1实施方式(光学元件的第1例） 2. 第2实施方式(光学元件的第2例） 3. 第3实施方式(光学元件的第3例） 4. 第4实施方式(投影仪装置的例） 确切地说< 1.第1实施方式> 图IA是示出本技术的第1实施方式所涉及的光学元件的结构的一个例子的平面图。图 IB是放大表示图IA所示的光学元件的一部分的平面图。图IC是图IB的径迹T1、T3、…… 上的截面图。在此，将光学元件1的主面的面内互相正交的2个方向分别称为X轴方向及 Y轴方向，与该主面垂直的方向称为Z轴方向。 确切地说该光学元件1适合用于在电子设备、光通信(光纤)、太阳能电池、照明装 置等中使用的各种光学部件。作为电子设备，特别优选用于投影仪装置(投射型图像显示 装置)、更具体而言投影仪装置所具备的液晶显示元件。作为光学部件，可举出偏振元件、透 镜、导光板、窗材、显示元件等。作为偏振元件，可举出例如偏振镜、反射型偏振镜等。 确切地说光学元件1具备：具有主面的基体2 ;和配置在该基体2的主面的多个构 造体3。构造体3和基体2另行成形或一体成形。在构造体3和基体2另行成形的情况下， 也可以根据需要在构造体3与基体2之间还具备基底层4。基底层4是在构造体3的底面 侧与构造体3 -体成形的层，硬化与构造体3同样的能量线硬化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有防反射功能的光学元件，具备：基体；和在所述基体的表面以光的波长以下的细微间距配置多个的、由凸部构成的构造体，所述构造体为具有矩形状的底面的四角锥形状或四角锥台形状，形成所述矩形状的底面的四边向该底面的中心弯曲。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤惣铭，村上亮介，
申请(专利权)人：迪睿合电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP