一种全硅结构的微机电系统真空传感器技术方案

技术编号:11004157 阅读:40 留言:0更新日期:2015-02-05 10:55
本实用新型专利技术涉及一种全硅结构的微机电系统真空传感器,载体(1)的中心设有通孔(2),载体(1)一侧的外侧设有芯片架Ⅰ(3),载体(1)另一侧的外侧设有芯片架Ⅱ(4),载体(1)一侧的内侧设有电极片Ⅰ(5),载体Ⅱ(2)另一侧的内侧设有电极片Ⅱ(6),芯片架Ⅰ(3)与芯片架Ⅱ(4)之间横向设有电极片Ⅲ(7),电极片Ⅲ(7)覆盖在电极片Ⅰ(5)、通孔(2)和电极片Ⅱ(6)的上部,电极片Ⅲ(7)与电极片Ⅰ(5)、通孔(2)和电极片Ⅱ(6)相对,电极片Ⅲ(7)与电极片Ⅰ(5)、通孔(2)和电极片Ⅱ(6)之间设有真空层(8),电极片Ⅲ(7)的上部设有感应片(9),感应片(9)的中心设有弹性元件(10)。

【技术实现步骤摘要】
一种全硅结构的微机电系统真空传感器
[0001 ] 本技术涉及一种全硅结构的微机电系统真空传感器。
技术介绍
目前的真空传感器的电极片采用普通的电极片,它不但耐热性能比较差,无法满足真空灭弧室产生的900°C的高温,,而且无法产生气体阻尼,从而真空度的测量范围比较小。
技术实现思路
本技术提供了一种全硅结构的微机电系统真空传感器,它不但可以使真空度的测控I昂范围大,而且可以耐高温,不放气,避免出现破坏真空度的现象。 本技术采用了以下技术方案:一种全硅结构的微机电系统真空传感器,它设有真空传感器的主体,所述的真空传感器的主体设有载体,在载体的中心设有通孔,在载体一侧的外侧设有芯片架I,在载体另一侧的外侧设有芯片架II,芯片架I与芯片架II对称设置,在载体一侧的内侧设有电极片I,在载体II另一侧的内侧设有电极片II,电极片I与电极片II对称设置在通孔的两侧与通孔相邻,在芯片架I与芯片架II之间横向设有电极片III,电极片III覆盖在电极片1、通孔和电极片II的上部,电极片III与电极片1、通孔和电极片II相对,在电极片III与电极片1、通孔和电极片II之间设有真空层,在电极片III的上部设有感应片,在感应片的中心设有弹性元件。 所述的电极片I为多晶硅。所述的电极片II为多晶硅。所述的电极片III为多晶硅。所述的弹性元件为上窄下宽的梯形,弹性元件为弹片。 本技术具有以下有益效果:采用了以上技术方案,本技术在电极片III与电极片和电极片II之间设有真空层,这样在电极片III与电极片I以及电极片III与电极片II设有气隙,气隙形成强烈的气体阻尼,利用气压与气体运动阻尼的关系,从气体阻尼的衰减特性既可以测量谐振腔的真空度,测量范围10—2— 12Pa,从而可以满足真空断路器10—2 — 1-1Pa真空测量范围的要求,而且电极片I为多晶硅,电极片II为多晶硅,电极片III为多晶硅,这样在测量时经受真空灭弧室制造的900°c的高温,不放气,直接埋入真空灭弧室,实现对真空灭弧室真空度的直接测量,信号采用电容耦合和无线传输,在埋入真空灭弧室时不会破坏真空度,满足埋入真空灭弧室的要求。本技术感应片的中心设有弹性元件,弹性元件为上窄下宽的梯形,弹性元件为弹片,这样弹片与真空断路器内设有的振荡器相对应进行真空度的检测,无需穿过绝缘外壳的直接的电极引线,采用无线传输,使用更加安全方便。 【附图说明】 图1为本技术的结构示意图。 【具体实施方式】 在图1中,本技术提供了一种全硅结构的微机电系统真空传感器,是它设有真空传感器的主体,所述的真空传感器的主体设有载体I,在载体I的中心设有通孔2,在载体I 一侧的外侧设有芯片架I 3,在载体I另一侧的外侧设有芯片架II 4,芯片架I 3与芯片架II 4对称设置,在载体I 一侧的内侧设有电极片I 5,电极片I 5为多晶娃,在载体II 2另一侧的内侧设有电极片II 6,电极片II 6为多晶娃,电极片I 5与电极片II 6对称设置在通孔2的两侧与通孔2相邻,在芯片架I 3与芯片架II 4之间横向设有电极片III 7,电极片III7为多晶硅,电极片III7覆盖在电极片I 5、通孔2和电极片II 6的上部,电极片III 7与电极片I 5、通孔2和电极片II 6相对,在电极片III 7与电极片I 5、通孔2和电极片II 6之间设有真空层8,在电极片III7的上部设有感应片9,在感应片9的中心设有弹性元件10,弹性元件10为上窄下宽的梯形,弹性元件10为弹片。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全硅结构的微机电系统真空传感器,其特征是它设有真空传感器的主体,所述的真空传感器的主体设有载体(1),在载体(1)的中心设有通孔(2),在载体(1)一侧的外侧设有芯片架Ⅰ(3),在载体(1)另一侧的外侧设有芯片架Ⅱ(4),芯片架Ⅰ(3)与芯片架Ⅱ(4)对称设置,在载体(1)一侧的内侧设有电极片Ⅰ(5),在载体Ⅱ(2)另一侧的内侧设有电极片Ⅱ(6),电极片Ⅰ(5)与电极片Ⅱ(6)对称设置在通孔(2)的两侧与通孔(2)相邻,在芯片架Ⅰ(3)与芯片架Ⅱ(4)之间横向设有电极片Ⅲ(7),电极片Ⅲ(7)覆盖在电极片Ⅰ(5)、通孔(2)和电极片Ⅱ(6)的上部,电极片Ⅲ(7)与电极片Ⅰ(5)、通孔(2)和电极片Ⅱ(6)相对,在电极片Ⅲ(7)与电极片Ⅰ(5)、通孔(2)和电极片Ⅱ(6)之间设有真空层(8),在电极片Ⅲ(7)的上部设有感应片(9),在感应片(9)的中心设有弹性元件(10)。

【技术特征摘要】
1.一种全硅结构的微机电系统真空传感器,其特征是它设有真空传感器的主体,所述的真空传感器的主体设有载体(1),在载体(I)的中心设有通孔(2),在载体(I) 一侧的外侧设有芯片架I (3),在载体(I)另一侧的外侧设有芯片架II (4),芯片架I (3)与芯片架II⑷对称设置,在载体⑴一侧的内侧设有电极片I (5),在载体II⑵另一侧的内侧设有电极片II (6),电极片I (5)与电极片II (6)对称设置在通孔(2)的两侧与通孔(2)相邻,在芯片架I (3)与芯片架II (4)之间横向设有电极片III (7),电极片III (7)覆盖在电极片I (5)、通孔⑵和电极片II (6)的上部,电极片III (7)与电极片I (...

【专利技术属性】
技术研发人员:戴永正陈厚源顾宇锋钱雨孟宪忠刘波
申请(专利权)人:国家电网公司江苏南瑞泰事达电气有限公司江苏省电力公司江苏省电力公司泰州供电公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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