阵列基板及其制作方法、显示面板技术

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，涉及显示技术领域。所述阵列基板包括依次位于衬底基板上方的平坦层、第一电极层、绝缘层和第二电极层。所述第二电极层包括多个电极条，所述平坦层包括多个朝向所述第二电极层凸出的凸起，所述第一电极层的至少一部分形成在所述凸起上。较优地，所述平坦层在对应于相邻所述电极条之间的空隙位置有凸起设计。本发明专利技术通过在平坦层上设计凸起，以减小第一电极层与第二电极层中电极之间的垂直距离，达到增强水平电场强度，减弱垂直电场强度分布的效果，使显示面板能够在较低的驱动电压下达到较高的亮度。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、以及包括该阵 列基板的显不面板。
技术介绍
为了满足广大消费者对显示品质的追求，液晶显示面板的分辨率越来越高，从而 导致产品的开口率越来越低，且功耗日益增加。 图1是现有阵列基板的结构示意图，在衬底基板1(这里的衬底基板包括薄膜 晶体管阵列）上依次设置有平坦层2、第一电极层3、绝缘层4和第二电极层5。其中，第二 电极层5包括多个电极条50。 现有高PPI (Pixels Per Inch，每英寸像素数）产品中使用的液晶7-般是正性液 晶，正性液晶加电时趋于与电场线6平行排列，如图1中所示。目前，高PPI产品都希望液 晶分子平行于衬底基板1排列，以提高光透过率。然而，在电场线6垂直的位置，比如电极 条50中部以及相邻电极条50之间空隙的中部（图1中虚线框所示的位置），液晶分子垂直 于衬底排列，该区域透光性能受到影响产生暗线。为了满足客户亮度的需要通常的做法是 增加背光的亮度，因此导致了功耗的增加。 为了降低功耗并维持满意的亮度，一种方法是降低显示面板的驱动电压。模拟显 示通过降低绝缘层4的厚度，以增大第一电极层3和第二电极层5之间的电场强度，可以降 低驱动电压。但是绝缘层4的厚度每降低3000A，驱动电压仅可以降低0. 5V，对于高PPI 产品，绝缘层4的厚度本身已经非常小，通过降低绝缘层的厚度来实现降低驱动电压的范 围非常有限。 因此，如何实现低功耗高透过率显示成为本领域亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，以实现低功耗高 透过率显示。 为解决上述技术问题，作为本专利技术的第一个方面，提供一种阵列基板，包括依次位 于衬底基板上方的平坦层、第一电极层、绝缘层和第二电极层，所述第二电极层包括多个电 极条，所述平坦层包括多个朝向所述第二电极层凸出的凸起，所述第一电极层的至少一部 分形成在所述凸起上。 优选地，相邻的所述电极条之间具有空隙，所述凸起的位置对应于所述空隙的位 置。 优选地，所述凸起的高度小于或等于所述绝缘层与所述电极条的厚度之和。 优选地，所述凸起的宽度小于所述空隙的宽度。 优选地，所述凸起在垂直于所述衬底基板的方向上的截面为梯形、矩形、三角形和 圆弧形中的一种。 作为本专利技术的第二个方面，还提供一种显示面板，包括本专利技术所提供的上述阵列 基板。 优选地，所述显示面板还包括与所述阵列基板对盒设置的对盒基板，以及填充在 所述阵列基板和所述对盒基板之间的液晶，所述液晶为正性液晶或者负性液晶。 作为本专利技术的第三个方面，还提供一种阵列基板的制作方法，包括以下步骤： 形成包括多个凸起的平坦层； 在所述平坦层上形成第一电极层； 在所述第一电极层上形成绝缘层； 在所述绝缘层上形成包括多个电极条的第二电极层； 其中，所述凸起朝向所述第二电极层凸出，所述第一电极层的至少一部分形成在 所述凸起上。 优选地，相邻的所述电极条之间具有空隙，所述凸起的位置对应于所述空隙的位 置。 优选地，使用半阶色调掩膜板形成包括多个凸起的平坦层。 本专利技术通过在平坦层上设计凸起，以减小第一电极层与第二电极层中电极之间的 垂直距离，达到增强水平电场强度，减弱垂直电场强度分布的效果，使显示面板能够在较低 的驱动电压下达到较高的亮度。 【附图说明】 附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具 体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。 图1是现有技术中阵列基板的结构示意图； 图2是本专利技术实施例中提供的显示面板的结构示意图； 图3是驱动电压与光透光率的模拟曲线图； 图4a_图4d是本专利技术实施例中提供的阵列基板的制作过程示意图。 在附图中，1 :衬底基板；2、12 :平坦层；3、13 :第一电极层；4、14 :绝缘层；5、15 :第 二电极层；6、16 :电场线；7 :液晶；8 :对盒基板；9 :封框胶；20 :凸起；50 :电极条。 【具体实施方式】 以下结合附图对本专利技术的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描 述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。 本专利技术首先提供一种阵列基板，如图2中所示，所述阵列基板包括依次位于衬底 基板1 (这里的衬底基板包括薄膜晶体管阵列）上方的平坦层12、第一电极层13、绝缘 层14和第二电极层15。第二电极层15包括多个电极条50,平坦层12包括多个朝向第二 电极层15凸出的凸起20,第一电极层13的至少一部分形成在凸起20上。 本专利技术对阵列基板上的平坦层12进行了改进设计，在平坦层12上制作了多个凸 起20,那么在垂直于衬底基板1的方向上，位于凸起20上的第一电极层13的一部分与电 极条50之间的距离缩短了，因此增大了第一电极层13与第二电极层15之间的水平电场强 度，减弱了垂直电场影响的范围，在降低显示面板的驱动电压的同时，实现高亮度显示。 与现有技术相比，在相同的驱动电压下，本专利技术所提供的阵列基板中，位于凸起20 上的第一电极层13的一部分与电极条50之间的水平距离可以做得很小，增大了水平电场 强度，因此可以更好的驱动液晶分子翻转，即，在包括本专利技术所提供的阵列基板的显示面板 中，以较小的驱动电压即可使液晶分子达到所需的翻转程度，从而降低了显示面板的功耗。 这里的第一电极层13可以是像素电极层，第二电极层15可以是公共电极层，第一 电极层13与第二电极层15的位置可以互换，即第一电极层13也可以是公共电极层，第二 电极层15也可以是像素电极层。 在图2中，第二电极层15包括多个电极条50,相邻的电极条50之间具有空隙，凸 起20的位置对应于所述空隙的位置。本专利技术所提供的阵列基板适用于液晶为正性液晶的 显示面板，也适用于液晶为负性液晶的显示面板。 如上文所述，由于正性液晶加电时趋于与电场线平行排列，导致液晶分子在电极 条50的中部以及相邻电极条50之间空隙的中部垂直排列，使得相应位置的光线不能被透 过产生暗线。本专利技术中，凸起20的位置与所述空隙的位置相对应，相当于在所述空隙的位 置缩短了第一电极层13中的电极与电极条50之间的垂直距离，从而减弱了电场线16在垂 直方向的分布，降低了液晶分子垂直排列的可能性，提高了光线在相邻电极条50之间空隙 的中部的透过率，从而能够提升显示亮度，降低功耗。 另一方面，负性液晶是一种提高光透过率的有效手段，因为负性液晶在加电时趋 于与电场方向垂直排列，受到垂直电场的影响很小。尤其针对高分辨率的产品，可以提升 20?50%的光透过率。然而，在现有技术中，负性液晶显示面板达到最大亮度时需要很高 的驱动电压（通常在6-7V)，超出了常规驱动芯片的最大输出电压，即使在驱动芯片能承受 的范围内尽量增大驱动电压，也很容易导致信赖性过程中出现问题。而当负性液晶显示面 板与正性液晶显示面板的驱动电压相同时（约4. 5-5V)，其光透过率仅能提高5 %，甚至更 低。通常此时负性液晶显示面板的响本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括依次位于衬底基板上方的平坦层、第一电极层、绝缘层和第二电极层，所述第二电极层包括多个电极条，其特征在于，所述平坦层包括多个朝向所述第二电极层凸出的凸起，所述第一电极层的至少一部分形成在所述凸起上。

【技术特征摘要】
1. 一种阵列基板，包括依次位于衬底基板上方的平坦层、第一电极层、绝缘层和第二电 极层，所述第二电极层包括多个电极条，其特征在于，所述平坦层包括多个朝向所述第二电 极层凸出的凸起，所述第一电极层的至少一部分形成在所述凸起上。2. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，相邻的所述电极条之间具有空隙，所 述凸起的位置对应于所述空隙的位置。3. 根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起的高度小于或等于所述绝 缘层与所述电极条的厚度之和。4. 根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起的宽度小于所述空隙的宽 度。5. 根据权利要求1-4中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起在垂直于所 述衬底基板的方向上的截面为梯形、矩形、三角形和圆弧形中的一种。6. -种显示面板，其特征在于，包括权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：向西，姜妮，冯远明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11