像素阵列基板与面板制造技术

一种像素阵列基板，包括一基板、多个像素单元以及一无机绝缘层。基板具有一有源区以及位于有源区周围的一周边区。有源区包括多个像素单元区以及位于像素单元区的至少一侧的一可弯折区。每一像素单元包括一有源组件以及与有源组件电性连接的一像素电极。像素电极对应设置在像素单元区内。无机绝缘层包括一第一无机绝缘图案以及一第二无机绝缘图案，分别配置于像素单元区以及可弯折区中。第一无机绝缘图案的厚度大于第二无机绝缘图案的厚度。本发明专利技术的像素阵列基板具有较佳的可挠曲特性。

【技术实现步骤摘要】
像素阵列基板与面板
本专利技术是有关于一种像素阵列基板与面板，且特别是有关于一种具有可挠曲特性的像素阵列基板与面板。
技术介绍
有鉴于有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，OLED)的技术开发，对应发展的显示器无须采用背光模块，不仅可以使显示器达到轻薄的功效，更以「可挠曲」的特性作为未来显示器开发重点。无机材料，即硅的氮氧化合物，如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)及氮氧化硅(SiON)，其具有抗扩散性、绝热性及绝缘性佳的特性，因此广泛应用于制作薄膜晶体管阵列结构的制程中。然而，无机材料在对抗拉伸应变时的能力差，因此当弯折可挠式面板的曲率过小时，则亦造成无机材料断裂或脆裂，因此限制了有机发光二极管面板的显示区域甚至是金属走线区域的可挠曲程度。
技术实现思路
本专利技术提供一种像素阵列基板，其具有较佳的可挠曲特性。本专利技术另提供一种面板，其驱动电路区透过周边可弯折区而弯折至有源区的背面，除了可达成无边框显示的效果之外，亦可以避免弯折时周边的驱动线路产生碎裂或断裂的问题，可具有较佳的结构可靠度。本专利技术的像素阵列基板，其包括一基板、多个像素单元以及一无机绝缘层。基板具有一有源区以及位于有源区周围的一周边区，其中有源区包括多个像素单元区以及位于像素单元区的至少一侧的一可弯折区。每一像素单元包括一有源组件以及与有源组件电性连接的一像素电极，其中像素电极对应设置在像素单元区内。无机绝缘层包括一第一无机绝缘图案以及一第二无机绝缘图案，分别配置于像素单元区以及可弯折区中。第一无机绝缘图案的厚度大于第二无机绝缘图案的厚度。在本专利技术的一实施例中，上述的像素阵列基板更包括多条第一信号线以及多条第二信号线，配置于基板上。每一像素单元与其中一条第一信号线以及其中一条第二信号线电性连接，其中可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第一信号线之间，或可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第二信号线之间，或可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第一信号线之间以及所述像素电极与下一条第二信号线之间。在本专利技术的一实施例中，上述的第一信号线与第二信号线分别为扫描线、数据线与共享配线的其中二者。在本专利技术的一实施例中，上述的像素阵列基板更包括一缓冲层，设置于基板与无机绝缘层之间，且缓冲层覆盖像素单元区与可弯折区，其中缓冲层的厚度介于500埃至1000埃。在本专利技术的一实施例中，上述的第一无机绝缘图案的厚度介于4000埃至8000埃，而第二无机绝缘图案的厚度介于0埃至1000埃。在本专利技术的一实施例中，上述的基板的周边区包括一驱动电路区以及位于驱动电路区与有源区之间的一周边可弯折区。第一无机绝缘图案更配置于驱动电路区，而第二无机绝缘图案更配置于周边可弯折区中。在本专利技术的一实施例中，上述的像素阵列基板更包括一有机平坦层，覆盖无机绝缘层，以使得位于像素单元区的有机平坦层以及位于可弯折区内的有机平坦层共平面。本专利技术的面板，其包括一基板、多个像素单元、一驱动电路以及一无机绝缘层。基板具有一有源区以及位于有源区周围的一周边区。有源区包括多个像素单元区，而周边区包括一驱动电路区与位于驱动电路区与有源区之间的一周边可弯折区。驱动电路区透过周边可弯折区而弯折至有源区的背面。每一像素单元包括一有源组件以及与有源组件电性连接的一像素电极，其中像素电极对应设置在像素单元区内。驱动电路位于驱动电路区中，并位于像素单元的背面。无机绝缘层包括一第一无机绝缘图案以及一第二无机绝缘图案。第一无机绝缘图案配置于像素单元区，而第二无机绝缘图案位于周边可弯折区中，其中第一无机绝缘图案的厚度大于第二无机绝缘图案的厚度。在本专利技术的一实施例中，上述的第一无机绝缘图案的厚度介于4000埃至8000埃，而第二无机绝缘图案的厚度介于0埃至1000埃。在本专利技术的一实施例中，上述的第二无机绝缘层的厚度为零。在本专利技术的一实施例中，上述的有源区更包括位于像素单元区的至少一侧的一可弯折区，且第二无机绝缘图案位于可弯折区以及周边可弯折区中。在本专利技术的一实施例中，上述的面板更包括多条第一信号线以及多条第二信号线，配置于基板上。每一像素单元与其中一条第一信号线以及其中一条第二信号线电性连接，其中可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第一信号线之间，或可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第二信号线之间，或可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第一信号线之间以及所述像素电极与下一条第二信号线之间。在本专利技术的一实施例中，上述的第一信号线与第二信号线分别为扫描线、数据线与共享配线的其中二者。在本专利技术的一实施例中，上述的面板更包括一缓冲层，设置于基板与无机绝缘层之间，且缓冲层位于有源区以及周边区，其中缓冲层的厚度介于500埃至1000埃。在本专利技术的一实施例中，上述的第一无机绝缘层更包括配置于基板的驱动电路区。在本专利技术的一实施例中，上述的面板更包括一有机平坦层，覆盖无机绝缘层，其中有机平坦层具有一平坦的顶表面。基于上述，由于本专利技术的像素阵列基板具有不同厚度的无机绝缘图案，其中位于像素单元区内的无机绝缘图案的厚度大于位于可弯折区内的无机绝缘图案的厚度。也就是说，无机绝缘图案在可弯折区内较薄。如此一来，透过可弯折区而弯折像素阵列基板时，可避免采用无机材料的无机绝缘层产生碎裂或断裂的问题，进而使得本专利技术的像素阵列基板可具有较佳的结构可靠度。另一方面，本专利技术的面板，其驱动电路区可透过周边可弯折区而弯折至有源区的背面，而达成无边框显示的效果。再者，因为其无机绝缘图案在像素单元区的厚度大于在周边可弯折区的厚度，因此可以避免弯折时驱动电路产生碎裂或断裂的问题，可具有较佳的结构可靠度。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。附图说明图1A绘示为本专利技术的一实施例的一种像素阵列基板的俯视的示意图。图1B绘示为本专利技术的另一实施例的一种像素阵列基板的俯视的示意图。图1C绘示为本专利技术的另一实施例的一种像素阵列基板的俯视的示意图。图1D绘示为本专利技术的另一实施例的一种像素阵列基板的俯视的示意图。图2绘示为沿图1A的线I-I的剖面示意图。图3绘示为本专利技术的另一实施例的一种像素阵列基板的俯视的示意图。图4绘示为沿图3的线II-II的剖面示意图。图5A绘示为本专利技术的一实施例的一种面板的示意图。图5B绘示为弯折图5A的面板的示意图。图6绘示为图5A的面板的局部剖面示意图。图7绘示为本专利技术的一实施例的一种面板的局部剖面示意图。[主要组件附图标记说明]100a、100b：像素阵列基板110a、110b、210：基板112、212：有源区112a、212a：像素单元区112b、212b：可弯折区114、114’、214：周边区114a、214a：驱动电路区114b、214b：周边可弯折区120、220：像素单元122、222：有源组件124、224：像素电极130、130’、230：无机绝缘层132、232：第一无机绝缘图案134、234：第二无机绝缘图案140、240：第一信号线150、250：第二信号线160、260：缓冲层170、270：有机平坦层180、280：驱动电路200、200’：面板272：顶表面C：共享配线T、T1、T2、T3、T1’、T2’、T3’：厚度W、W’：水平宽度具体实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素阵列基板，包括：一基板，具有一有源区以及位于该有源区周围的一周边区，其中该有源区包括多个像素单元区以及位于该些像素单元区的至少一侧的一可弯折区；多个像素单元，每一像素单元包括一有源组件以及与该有源组件电性连接的一像素电极，其中该些像素电极对应设置在该些像素单元区内；以及一无机绝缘层，包括一第一无机绝缘图案以及一第二无机绝缘图案，分别配置于该些像素单元区以及该可弯折区中，其中该第一无机绝缘图案的厚度大于该第二无机绝缘图案的厚度。

【技术特征摘要】
2014.07.04 TW 1031231711.一种像素阵列基板，包括：一基板，具有一有源区以及位于该有源区周围的一周边区，其中该有源区包括多个像素单元区以及位于所述像素单元区中每个像素单元区的至少一侧的一可弯折区；多个像素单元，每一像素单元包括一有源组件以及与该有源组件电性连接的一像素电极，其中该些像素电极对应设置在该些像素单元区内；以及一无机绝缘层，包括一第一无机绝缘图案以及一第二无机绝缘图案，分别配置于该些像素单元区以及该可弯折区中，其中该第一无机绝缘图案的厚度大于该第二无机绝缘图案的厚度。2.如权利要求1所述的像素阵列基板，更包括：多条第一信号线以及多条第二信号线，配置于该基板上，其中每一像素单元与其中一条第一信号线以及其中一条第二信号线电性连接，其中该可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第一信号线之间，或该可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第二信号线之间，或该可弯折区位于其中一个像素电极与下一条第一信号线之间以及所述像素电极与下一条第二信号线之间。3.如权利要求2所述的像素阵列基板，其中该些第一信号线与该些第二信号线分别为扫描线、数据线与共享配线的其中二者。4.如权利要求1所述的像素阵列基板，更包括：一缓冲层，设置于该基板与该无机绝缘层之间，且该缓冲层覆盖该些像素单元区与该可弯折区，其中该缓冲层的厚度介于500埃至1000埃。5.如权利要求1所述的像素阵列基板，其中该第一无机绝缘图案的厚度介于4000埃至8000埃，该第二无机绝缘图案的厚度介于0埃至1000埃。6.如权利要求1所述的像素阵列基板，其中该基板的该周边区包括一驱动电路区以及位于该驱动电路区与该有源区之间的一周边可弯折区，该第一无机绝缘图案更配置于该驱动电路区，该第二无机绝缘图案更配置于该周边可弯折区中。7.如权利要求1所述的像素阵列基板，更包括：一有机平坦层，覆盖该无机绝缘层，以使得位于该些像素单元区的该有机平坦层以及位于该可弯折区内的该有机平坦层共平面。8.一种面板，包括：一基板，具有一有...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈奎岳，杜佳勋，林博扬，黄震铄，苏韦任，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71