物品保管设备的检查装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供物品保管设备的检查装置，能高精度地测定向运送容器供给的惰性气体的流量。包括惰性气体供给部的物品保管设备所使用的检查装置，包括由于被载置支撑部支撑的检查装置的自重而与供给喷嘴接合的检查用给气口，被载置支撑部支撑的状态下的沿着水平面的方向的重心位置与运送容器被载置支撑部支撑的状态下的运送容器的沿着水平面的方向的重心位置一致，检查被载置支撑部支撑的状态下的惰性气体的供给状态，其中，惰性气体供给部具有供给喷嘴，供给喷嘴是配设在对运送容器进行载置支撑的载置支撑部的喷嘴，喷嘴由于被载置支撑部支撑的运送容器的自重而与给气口接合，向运送容器的内部注入惰性气体，运送容器在底部形成惰性气体的给气口并在密闭状态下容纳基板。

【技术实现步骤摘要】
物品保管设备的检查装置
本专利技术涉及具有对运送容器进行载置支撑的载置支撑部的物品保管设备所使用的检查装置，检查被载置支撑部支撑的状态下的惰性气体的供给状态，其中，所述运送容器在底部形成有惰性气体的给气口并在密闭状态下容纳基板。
技术介绍
半导体元件一般在净化了内部气氛的无尘室内制造。在保管成为半导体元件的材料的半导体晶片、半导体元件的制造工序间的运送时，需要保护半导体晶片免受尘埃等杂质的附着、化学反应所导致的污损。日本特开2008-159734号公报(专利文献I)公开了用于保管半导体晶片的这样的保管设备。该保管设备具有保管架而构成，该保管架包括多个收纳部，多个收纳部收纳对半导体晶片进行容纳的前开式标准容器(FOUP, Front OpeningUnified Pod)等气密性的运送容器。另外，该保管设备为了防止容纳在运送容器的半导体晶片的自然氧化等所导致的污损，具有将氮、氩等惰性气体供给至运送容器的换气功能而构成。 容纳半导体晶片的运送容器(收纳用前开式标准容器)包括成为壳体的盖和底面部，由这些形成密闭空间。在密闭空间，能沿着高度方向容纳多片多个半导体晶片本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种物品保管设备的检查装置，所述物品保管设备包括：多个收纳部，具有对运送容器进行载置支撑的载置支撑部，能将所述运送容器在被所述载置支撑部支撑的状态下收纳，所述运送容器在底部形成有惰性气体的给气口并在密闭状态下容纳预先规定的片数以内的基板；惰性气体供给部，具有供给喷嘴，所述供给喷嘴是配设在所述载置支撑部的喷嘴，所述喷嘴由于被所述载置支撑部支撑的所述运送容器的自重而与所述给气口接合，向该运送容器的内部注入所述惰性气体，所述物品保管设备的检查装置的特征在于，所述物品保管设备的检查装置是在被所述载置支撑部支撑的状态下检查由所述惰性气体供给部进行的所述惰性气体的供给状态的装置，包括由于被所述载置支撑部支...

【技术特征摘要】
2013.06.26 JP 2013-1342651.一种物品保管设备的检查装置， 所述物品保管设备包括: 多个收纳部，具有对运送容器进行载置支撑的载置支撑部，能将所述运送容器在被所述载置支撑部支撑的状态下收纳，所述运送容器在底部形成有惰性气体的给气口并在密闭状态下容纳预先规定的片数以内的基板； 惰性气体供给部，具有供给喷嘴，所述供给喷嘴是配设在所述载置支撑部的喷嘴，所述喷嘴由于被所述载置支撑部支撑的所述运送容器的自重而与所述给气口接合，向该运送容器的内部注入所述惰性气体， 所述物品保管设备的检查装置的特征在于， 所述物品保管设备的检查装置是在被所述载置支撑部支撑的状态下检查由所述惰性气体供给部进行的所述惰性气体的供给状态的装置， 包括由于被所述载置支撑部支撑的所述检查装置的自重而与所述供...

【专利技术属性】
技术研发人员：大塚洋，河村真辅，吉本忠浩，
申请(专利权)人：株式会社大福，
类型：发明
国别省市：日本;JP