粘结剂组合物、使用该粘结剂组合物的粘结膜和表面保护膜制造技术

技术编号:10807879 阅读:60 留言:0更新日期:2014-12-24 14:02
本发明专利技术提供一种具有优良的抗静电性能且与粘结剂的相溶性优良,因而改善了抗静电剂渗出、在剥离粘结膜时污染被粘附体等再加工性缺点的粘结剂组合物、粘结膜和表面保护膜。本发明专利技术的粘结剂组合物是具有抗静电性能的粘结剂组合物,其特征在于,作为抗静电剂含有熔点30~50℃的疏水性季鎓盐。本发明专利技术的粘结膜和表面保护膜的特征在于,使用本发明专利技术的粘结剂组合物来层叠粘结剂层。

【技术实现步骤摘要】
粘结剂组合物、使用该粘结剂组合物的粘结膜和表面保护膜
本专利技术涉及具有抗静电性能的粘结剂组合物、粘结膜和表面保护膜。更详细而言,涉及作为抗静电剂含有疏水性季鎓盐的粘结剂组合物。本专利技术涉及提供一种不损害粘结性能且抗静电性能优良的粘结剂组合物、以及使用了该粘结剂组合物的粘结膜和表面保护膜。
技术介绍
一直以来,在作为构成液晶显示器的部件的偏光板、相位差板、防反射膜等光学部件的制造工序中,粘贴用于暂时保护光学部件表面的表面保护膜。这种表面保护膜仅在制造光学部件的工序中使用,当将光学部件组装到液晶显示器时,将其从光学部件剥离而去除。由于这种用于保护光学部件表面的表面保护膜仅在制造工序中使用,因此,通常也被称作“工序膜”。对如此的制造光学部件的工序中使用的表面保护膜而言,在具有光学透明性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜的单面上形成有粘结剂层。对表面保护膜而言,在粘结剂层上贴合有用于保护该粘结剂层的、经过剥离处理的剥离膜,直至该表面保护膜贴合于光学部件上。另外,对偏光板、相位差板、防反射膜等光学部件而言,是在贴合了表面保护膜的状态下进行伴随液晶显示板的显示能力、色调、对比度、杂质混入等光学评价的产品检验。因此,作为对表面保护膜的性能要求,要求粘结剂层中不带有气泡、杂质。另外,近年来,从偏光板、相位差板、防反射膜等光学部件上剥离表面保护膜时,伴随着从被粘附体剥离粘结剂层时发生的静电所产生的剥离静电,有可能会影响到液晶显示器的电控制电路的故障,因此,要求粘结剂层具有优良的抗静电性能。另外,在偏光板、相位差板、防反射膜等光学部件上粘合表面保护膜时,由于各种原因,会存在暂时剥离表面保护膜而再次重新粘贴表面保护膜的情况。此时,要求表面保护膜具有容易从被粘附体的光学部件上剥离下来的特性(再加工性)。另外,此时,要求不污染被粘附体,即要求不发生所谓的粘结剂残留的现象。另外,从最终的偏光板、相位差板、防反射膜等光学部件剥离表面保护膜时,要求能够快速地剥离。即,要求粘结力因剥离速度的变化小,以便即使在高速剥离的情况下也能够快速地剥离。例如,对优良的抗静电性能而言,作为用于对表面保护膜赋予抗静电性的方法,提出了在基材膜中混入抗静电剂的方法等。作为抗静电剂,例如公开了(a)季铵盐、吡啶鎓盐、具有伯~叔氨基等阳离子基的各种阳离子抗静电剂;(b)具有磺酸碱基、硫酸酯碱基、磷酸酯碱基、膦酸碱基等的阴离子基的阴离子抗静电剂;(c)氨基酸类、氨基硫酸酯类等的两性抗静电剂;(d)氨基醇类、甘油类、聚乙二醇类等的非离子抗静电剂;(e)使如上所述的抗静电剂进行高分子量化而得到的高分子型抗静电剂等(专利文献1)。另外,近年来提出了将如此的抗静电剂直接包含于粘结剂层中,而不包含于基材膜或者涂布于基材膜表面的方案。另外,关于再加工性,例如,提出了一种粘结剂组合物,所述粘结剂组合物是:相对于100重量份丙烯酸类树脂,配合0.0001~10重量份的异氰酸酯类化合物的固化剂和特定的硅酸盐低聚物而获得(专利文献2)。在专利文献2中,记载有:以烷基的碳原子数为2~12左右的丙烯酸烷基酯、烷基的碳原子数为4~12左右的甲基丙烯酸烷基酯等作为主要单体成分,可含有例如含羧基的单体等含其它官能团的单体成分。通常而言,优选含有50重量%以上的上述主要单体,并希望含有官能团的单体成分的含量为0.001~50重量%,优选为0.001~25重量%,更优选为0.01~25重量%。这种专利文献2记载的粘结剂组合物,即使在高温下或者高温高湿下,其凝聚力和粘接力的经时变化也小,并对曲面的粘接力也显示出优良的效果,因此具有再加工性。通常,若粘结剂层为柔软性状,则容易产生粘结剂残留、再加工性也容易降低。即,在错误贴合后剥离困难,并且难以重新粘贴。从该观点出发,为了使其具有再加工性,需要将具有羧基等官能团的单体交联于主剂上以使粘结剂层具有一定的硬度。如上所述,在多数情况下要求作为粘结膜具有抗静电性能,并一直尝试着各种各样的抗静电剂。但是,特别是在光学膜用途方面,虽能够使粘结膜具有抗静电性能,但存在透明性差等缺点,并且,由于抗静电剂对粘结剂的相溶性不充分等的缘故,存在抗静电剂渗出、在剥离粘结膜时污染被粘附体等再加工性差等的缺点。即使它们能够满足上述性能,还存在成本高等问题,一直以来需要一种低成本且含有能够克服这些缺点的抗静电剂的粘结剂。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平11-070629号公报专利文献2:日本特开平8-199130号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术是鉴于上述情况而完成的,其课题在于,提供一种具有优良的抗静电性能且与粘结剂的相溶性优良因而改善了抗静电剂渗出、在剥离粘结膜时污染被粘附体等再加工性缺点的粘结剂组合物、粘结膜和表面保护膜。解决课题的方法为了解决上述课题,本专利技术提供一种粘结剂组合物,其是具有抗静电性能的粘结剂组合物,其中,作为抗静电剂含有熔点30~50℃的疏水性季鎓盐。优选前述季鎓盐在25℃的100g水中的溶解度为5g以下。优选粘结剂成分是由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种和(B)含有羟基和/或羧基的共聚合性乙烯基单体中的至少一种组成的共聚组合物,并且,相对于100重量份的所述共聚组合物,含有0.1~10重量份的(C)所述季鎓盐。优选粘结剂成分是由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种、和具有乙烯基的共聚合性乙烯基单体中的至少一种组成的共聚组合物,并且,相对于100重量份的所述共聚组合物,含有0.1~10重量份的(C)所述季鎓盐。优选粘结剂成分是由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少两种以上组成的共聚组合物,并且,相对于100重量份的所述共聚组合物,含有0.1~10重量份的(C)所述季鎓盐。优选粘结剂成分是由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种、和芳香族类单体中的至少一种组成的共聚组合物,并且,相对于100重量份的所述共聚组合物,含有0.1~10重量份的(C)所述季鎓盐。对于将所述粘结剂组合物层叠在基材单面上而成的粘结剂层而言,优选所述粘结剂层的表面电阻率为1.0×10+12Ω/□以下。另外,本专利技术提供一种粘结膜,其具有粘结剂层,所述粘结剂层是将前述粘结剂组合物在基材的单面上层叠而成。另外,本专利技术提供一种粘结膜,其特征在于,具有粘结剂层,所述粘结剂层是将前述粘结剂组合物层叠而成。此外,本专利技术提供一种表面保护膜,其使用了前述粘结膜。此外,本专利技术提供一种偏光板用表面保护膜,其使用了前述粘结膜。此外,本专利技术提供一种光学用表面保护膜,其使用了前述粘结膜。此外,本专利技术提供一种偏光板与显示面板贴合用膜,其使用了前述粘结膜。此外,本专利技术提供一种构成偏光板的材料贴合用膜,其使用了前述粘结膜。此外,本专利技术提供一种触摸面板用膜,其使用了前述粘结膜。此外,本专利技术提供一种电子纸用膜,其使用了前述粘结膜。专利技术效果基于本专利技术,通过以熔点30~50℃的疏水性季鎓盐作为抗静电成分而与粘结剂并用,可使与粘结剂的相溶性优良,由此能够改善作为本专利技术课题的抗静电剂渗出、在剥离粘结膜时污染被粘附体等的再加工性缺点。具体实施方式下面,基于优选的实施本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种粘结剂组合物,是具有抗静电性能的粘结剂组合物,其中,作为抗静电剂含有熔点30~50℃的疏水性季鎓盐。

【技术特征摘要】
2013.06.07 JP 2013-1210741.一种粘结剂组合物,其由丙烯酸类共聚物、抗静电剂以及交联剂构成,其是具有抗静电性能的粘结剂组合物,其中,作为所述抗静电剂含有熔点30~50℃的疏水性季鎓盐,而且,所述季鎓盐在25℃的100g水中的溶解度为5g以下,且是选自由十二烷基二甲基苄基氯化铵、十二烷基二甲基苄基溴化铵、十四烷基二甲基苄基氯化铵、十四烷基二甲基苄基溴化铵、十六烷基二甲基苄基氯化铵、十六烷基二甲基苄基溴化铵、十八烷基二甲基苄基氯化铵、十八烷基二甲基苄基溴化铵、三辛基苄基氯化铵、三辛基苄基溴化铵、三辛基苄基氯化鏻、三辛基苄基溴化鏻、三癸基苄基氯化铵、三癸基苄基溴化铵、三癸基苄基氯化鏻、三癸基苄基溴化鏻、四辛基氯化鏻、四辛基溴化鏻、四壬基氯化鏻、四壬基溴化鏻、四癸基氯化鏻、四癸基溴化鏻所组成的组中的一种以上。2.如权利要求1所述的粘结剂组合物,其中,所述丙烯酸类共聚物是由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种和(B)含有羟基和/或羧基的共聚合性乙烯基单体中的至少一种共聚而成的共聚物,并且,相对于100重量份的所述共聚物,含有0.1~10重量份的(C)所述季鎓盐。3.如权利要求1所述的粘结剂组合物,其中,所述丙烯酸类共聚物是由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种、和具有乙烯基的共聚合性乙烯基单体中的至少一种共聚而成的共聚物,并且,相对于100重量份的所述共聚物,含有0...

【专利技术属性】
技术研发人员:长仓毅岛口龙介长谷川良
申请(专利权)人:藤森工业株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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