一种纳米级陶瓷粉体研磨装置，包括驱动部、通过传动部与驱动部相连的研磨部，其技术要点是：所述研磨部包括设有浆料出口的基体、贯穿基体底盖的输入轴、通过输入轴限位在机体内的分散轮、固定在基体内的与分散轮之间留有间隙的过滤器，过滤器与浆料出口相连通，基体底盖与输入轴之间固定有机械密封静环，输入轴与分散轮之间设有机械密封动环，分散轮为圆筒状，圆筒内设有隔板。从根本上解决了现有陶瓷粉体材料制备困难、所得陶瓷粉体材料质量差、生产过程易污染环境等问题。其结构设计巧妙，具有高效、陶瓷粉体纯净度高、环境污染小、操作方便快捷等优点，放大后，可直接连接到生产线。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种纳米级陶瓷粉体研磨装置，包括驱动部、通过传动部与驱动部相连的研磨部，其技术要点是：所述研磨部包括设有浆料出口的基体、贯穿基体底盖的输入轴、通过输入轴限位在机体内的分散轮、固定在基体内的与分散轮之间留有间隙的过滤器，过滤器与浆料出口相连通，基体底盖与输入轴之间固定有机械密封静环，输入轴与分散轮之间设有机械密封动环，分散轮为圆筒状，圆筒内设有隔板。从根本上解决了现有陶瓷粉体材料制备困难、所得陶瓷粉体材料质量差、生产过程易污染环境等问题。其结构设计巧妙，具有高效、陶瓷粉体纯净度高、环境污染小、操作方便快捷等优点，放大后，可直接连接到生产线。【专利说明】纳米级陶瓷粉体研磨装置
本技术属于粉体制备领域，特别涉及一种纳米级陶瓷粉体研磨装置，主要适用于纳米级陶瓷粉体制备。
技术介绍
纳米技术可以使许多传统产品技术发生根本性的改变，而其中的纳米陶瓷粉体是指粒径〈lOOnm陶瓷粉末，它是一类介于固体和分子间的、具有极小粒径的亚稳态中间物质，具有具备高纯、超细、良好的分散性，较高的反应活性，完整稳定的晶体结构，优越的声、光、电、磁等性能，是制备高技术新型陶瓷材料的基础，在精细陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷及精细化工材料等高新
得到了广泛的应用。纳米陶瓷技术已经成功广泛应用于计算机、航天、军事等领域。随着3D打印技术的到来，纳米级陶瓷粉的应用将是十分广阔的。传统工艺中纳米陶瓷粉体的制备是通过物理破碎法制备，但是由于陶瓷材料硬度极高，采用传统的办法通常做到超细粉体相对容易，若想获得纳米级粉体是几乎不可能的。为此，需要一种用于制备纳米陶瓷粉体的新型设备。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种纳米级陶瓷粉体研磨装置，从根本上解决了现有陶瓷粉体材料制备困难、所得陶瓷粉体材料质量差、生产过程易污染环境等问题。其结构设计巧妙，具有高效、陶瓷粉体纯净度高、环境污染小、操作方便快捷等优点，放大后，可直接连接到生产线。 本技术的目的是这样实现的:该纳米级陶瓷粉体研磨装置包括驱动部、通过传动部与驱动部相连的研磨部，其技术要点是:所述研磨部包括设有浆料出口的基体、贯穿基体底盖的输入轴、通过输入轴限位在机体内的分散轮、固定在基体内的与分散轮之间留有间隙的过滤器，过滤器与浆料出口相连通，基体底盖与输入轴之间固定有机械密封静环，输入轴与分散轮之间设有机械密封动环，分散轮为圆筒状，圆筒内设有隔板。 作为优选的，所述分散轮的筒壁上和/或隔板上布有若干通孔。 作为优选的，所述分散轮的筒壁上沿中轴周向均布有若干凸棱。 作为优选的，所述基体上设有位于过滤器外缘的研磨冷却腔。 作为优选的，所述基体底盖与输入轴之间设有输入轴冷却腔。 本技术具有的优点及积极的技术效果是:采用高速湿式介质外循环搅拌磨的方式获得纳米级陶瓷粉体，可满足实验室对纳米级陶瓷粉体的研磨需要。研磨部包括基体、输入轴、分散轮、固定在基体内的过滤器，分散轮与过滤器之间留有间隙(研磨腔)，保证了研磨球颗粒在间隙(研磨腔)内蠕动，从而对浆料不断摩擦粉碎。基体底盖与输入轴之间固定有机械密封静环，输入轴与分散轮之间设有机械密封动环，保证了输入轴限位在基体底盖上，并在驱动部(驱动电机)的作用下旋转，从而带动分散轮旋转，作为研磨与过滤的动力输出。分散轮为圆筒状，圆筒内设有隔板，隔板底部用于限位机械密封动环，机械密封动环延伸到隔板下部的研磨腔内，隔板顶部安装固定件，以便将分散轮固定在机械密封动环上。采用该设计，不但简化了结构，避免了浆料和研磨球颗粒对装置零部件造成的摩擦损伤，不但使设备正常运行，而且避免了由零部件磨损导致的浆料污染。 若在分散轮的筒壁上设置若干凸棱，不但可充分引导浆料的流动，充分搅动浆料，避免浆料沉降；还可以提高分散轮对研磨球颗粒的驱动力，保证了研磨球颗粒的蠕动循环速度。若在分散轮的筒壁和隔板上设置通孔，即可明显提高浆料的流动性。还可随着不同的浆料，替换机械密封摩擦副和研磨组件的材质，以适应不同的陶瓷原材料(如油墨行业中更换为耐磨不锈钢材质)，从而避免研磨过程中，由于装置磨损导致的陶瓷粉体材料污染。分散轮优选陶瓷材质，避免在研磨陶瓷浆料时，分散轮磨损后对陶瓷浆料造成污染。综上所述，本技术具有高效、陶瓷粉体纯净度高、环境污染小、操作方便快捷等优点。 【专利附图】【附图说明】 以下结合附图对本技术作进一步描述。 图1为本技术外观结构示意图； 图2为本技术研磨腔内部结构示意图； 图3为本技术工作过程的结构示意图； 图4为本技术分散轮的外观剖视结构示意图。 附图标记说明:1驱动部、2传动部、3研磨部、4输入轴、5油封、6输入轴冷却水出口、7机械密封动环、8基体、9研磨冷却水出口、10浆料出口、11浆料输送管、12注料口、13循环料仓、14研磨冷却腔、15过滤器、16固定件、17研磨腔、18端盖、19研磨冷却水入口、20分散轮、21异形件、22机械密封静环、23输入轴冷却水入口、24输入轴冷却腔、25研磨球颗粒。 【具体实施方式】 根据图f 4详细说明本技术的具体结构。该纳米级陶瓷粉体研磨装置包括驱动部1、通过传动部2与驱动部I相连的研磨部3。研磨部包括设有浆料出口 10的基体8、贯穿基体8底盖的输入轴4、通过输入轴4限位在机体内的分散轮20、固定在基体8内的与分散轮20之间留有间隙的过滤器15，过滤器15与浆料出口 10相连通。输入轴4与传动部2之间设有油封5，并通过机械密封结构限位在基体8底盖上，基体8顶盖底部固定有端盖18，端盖18上设有与基体8顶盖开口相配合的通孔。机械密封结构由机械密封静环22、机械密封动环7以及油封5等部件组成。机械密封静环位于基体8底盖与输入轴4之间，通过异形件21固定，机械密封动环7位于输入轴4与分散轮20之间。分散轮20为圆筒状，圆筒内设有隔板，筒壁上和隔板上布有若干通孔，筒壁上沿中轴周向均布有若干凸棱。隔板上部设有固定件16，固定件16贯穿隔板与机械密封动环7相连。为保证装置的运行稳定性，并延长装置的使用寿命，在基体8上设有位于过滤器15外缘的研磨冷却腔14，并在研磨冷却腔14上设置冷却水出口、入口 9、19。基体8底盖与输入轴4之间设有输入轴冷却腔，并在输入轴冷却腔上设置冷却水出口、入口 6、23。 工作过程:驱动部启动后，在输入轴4驱动分散轮20旋转，拨动分散轮20与过滤器15之间填充一定直径的研磨球颗粒25蠕动。此时，将特定配比的浆料由注料口 12加入研磨腔17中，随着转速的增加在分散轮20的作用下，研磨球颗粒25均匀的分布在过滤器15的内壁上且摩擦加剧。经过研磨球颗粒25碾碎的浆料在离心力的作用下，依次穿过研磨球颗粒25、过滤器15，渗透到外循环层，最后通过浆料出口 10，沿浆料输送管11由注料口12通入循环料仓13，而后返回研磨腔17。浆料不断循环往复研磨与过滤过程，从而得到所需的颗粒大小。【权利要求】1.一种纳米级陶瓷粉体研磨装置，包括驱动部、通过传动部与驱动部相连的研磨部，其特征在于:所述研磨部包括设有浆料出口的基体、贯穿基体底盖的输入轴、通过输入轴限位在机体内的分散轮、固定在基体内的与分散轮之间留有间隙的过滤器，过本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种纳米级陶瓷粉体研磨装置，包括驱动部、通过传动部与驱动部相连的研磨部，其特征在于：所述研磨部包括设有浆料出口的基体、贯穿基体底盖的输入轴、通过输入轴限位在机体内的分散轮、固定在基体内的与分散轮之间留有间隙的过滤器，过滤器与浆料出口相连通，基体底盖与输入轴之间固定有机械密封静环，输入轴与分散轮之间设有机械密封动环，分散轮为圆筒状，圆筒内设有隔板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘英秋，
申请(专利权)人：刘英秋，
类型：新型
国别省市：辽宁;21
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