吸收性偏光片和制造该偏光片的方法技术

技术编号:10651017 阅读:117 留言:0更新日期:2014-11-19 14:12
本发明专利技术涉及一种吸收性偏光片及其制造方法。更具体地,本发明专利技术涉及一种吸收性偏光片,其包括在嵌段共聚物中的由第一嵌段和第二嵌段的分开排列而得到的用于吸收光的元件,并包括选择性地含有所述元件的复合物或该元件的氧化物的纳米颗粒的纳米复合层,因此,即使所述吸收性偏光片长时间暴露在高温和高湿的环境下仍是显著耐用的,并可以表现出相当于或高于拉伸工艺制造的吸收性偏光片表现出的偏振度和透射率,本发明专利技术还涉及一种能够容易地且以低成本地制造吸收性偏光片的生产方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及一种吸收性偏光片及其制造方法。更具体地,本专利技术涉及一种吸收性偏光片,其包括在嵌段共聚物中的由第一嵌段和第二嵌段的分开排列而得到的用于吸收光的元件,并包括选择性地含有所述元件的复合物或该元件的氧化物的纳米颗粒的纳米复合层,因此,即使所述吸收性偏光片长时间暴露在高温和高湿的环境下仍是显著耐用的,并可以表现出相当于或高于拉伸工艺制造的吸收性偏光片表现出的偏振度和透射率,本专利技术还涉及一种能够容易地且以低成本地制造吸收性偏光片的生产方法。【专利说明】
本专利技术涉及一种即使当其长时间暴露于热和潮湿的环境中时仍具有优异的耐久 性的吸收性偏光片,以及制造该偏光片的方法。
技术介绍
偏光片是指一种从非偏振光(例如自然光)中提取具有特定振动方向的直线偏振 光的光学器件。 通常,广泛使用具有足够高的透射率和偏振度的碘染色的基于聚乙烯醇膜的吸收 性偏光片。然而,这样的基于聚乙烯醇膜的吸收性偏光片伴随着碘的高升华性、低耐久性以 及由于通过膜拉伸来制造偏光片导致的高加工成本的缺点。 此外,对应于高性能、尺寸的增加且减少图像显示器的膜厚度的要求,偏光片也需 要高性能和光学性能的改进的多样性。另外,已经提出了满足上述需求的改进的偏光片和 制造该偏光片的不同方法。 例如,已经提出了一种在热塑性树脂中添加二色性染料后的热塑性树脂挤出方 法。然而,该方法具有由于二色性染料的低效排列而使偏振性能劣化的缺点。 可选择地,已经提出了通过用具有线性纳米结构的共聚物和二色性染料的 混合溶液涂布偏光片来使偏光片中的二色性染料排列的方法(参见韩国专利公开第 2010-0090921号)。然而,其难以确保二色性染料在平面内排列的均匀性,这从而可能导致 差的偏光性能。此外,如果偏光片长时间暴露在热和潮湿的环境中,其具有降低的耐久性, 因此,具有不能保持偏光性能的缺点。
技术实现思路
【本专利技术所要解决的技术问题】 因此,本专利技术的一个目的是提供一种即使当其长时间暴露于热和潮湿的环境下仍 具有优异的耐久性、能够保持偏光性能(例如偏振度、透射率等)的吸收性偏光片。 另外,本专利技术的另一目的是提供一种制造具有在平面内的纳米颗粒均匀性的吸收 性偏光片的方法,由此,所述吸收性偏光片具有等于或大于通常通过拉伸方法制备的任何 常规吸收性偏光片的偏光度和透射率。 【解决上述技术问题的手段】 本专利技术人已经发现,可以通过将特定的嵌段共聚物与包括光吸收元件或其氧化物 或复合物的纳米颗粒混合,并利用嵌段共聚物的自组装,而无需任何额外的拉伸处理,以提 供一种具有优异的偏光性能以及耐久性的改进的吸收性偏光片。 根据本专利技术的一个方面,提供一种吸收性偏光片,其包括:纳米复合层,其中,包括 光吸收元件或其氧化物或复合物的纳米颗粒选择性地包含在嵌段共聚物中,所述嵌段共聚 物具有分别地排列在其中的第一嵌段和第二嵌段。 所述纳米颗粒可以经过表面处理,从而具有对第一嵌段或第二嵌段的亲和力。 所述纳米颗粒可以具有1至lOOnm的平均直径。 所述光吸收元件或其氧化物或复合物可以是选自Ag、Au、Pt、Ti、Fe、Co、Cr、Cu、Ni、 Zn、Μη、Cd、W、Al、Pb、Ga、Si、As、Fe203、Fe30 4、Cr02、Si02、A1203、Ti0 2、PbS、FeS2、ZnS、GaP、 GaAs、InP、InAs、InSb 和(MSe 中的至少一种。 相对于100重量份的嵌段共聚物,所述纳米颗粒的含量可以为0. 01至30重量份。 所述嵌段共聚物可以是选自聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(苯乙 烯-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚(苯乙烯-嵌段-2-乙烯基吡啶)、聚(甲基丙烯酸甲酯-嵌 段-甲基丙烯酸三氟乙酯)、聚(甲基丙烯酸酯-嵌段-甲基丙烯酸2-吡喃氧乙酯)、聚 (丙烯酸正丁酯-嵌段-二甲基硅烷-共-二苯基硅烷)、聚(丙烯酸叔丁酯-嵌段-4-乙 烯基吡啶)、聚(甲基丙烯酸叔丁酯-嵌段-2-乙烯基吡啶)、聚(丙烯酸2-乙基己酯-嵌 段-4-乙烯基吡啶)、聚(丙烯酸2-羟基乙酯-嵌段-丙烯酸新戊酯)、聚(丙烯酸2-羟基 乙酯-嵌段-甲基丙烯酸正丁酯)、聚(甲基丙烯酸2-羟基乙酯-嵌段-甲基丙烯酸新戊 酯)、聚(甲基丙烯酸2-羟基乙酯-嵌段-甲基丙烯酸叔丁酯)、聚(丁二烯(1,2)-嵌段-丙 烯酸叔丁酯)、聚(丁二烯(1,4)-嵌段-丙烯酸叔丁酯)、聚(丁二烯(1,2)-嵌段-甲基丙 烯酸异丁酯)、聚(丁二烯(1,2)-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(丁二烯(1,4)-嵌段-甲 基丙烯酸甲酯)、聚(丁二烯(1,2)-嵌段-甲基丙烯酸仲丁酯)、聚(丁二烯(1,2)-嵌 段-甲基丙烯酸叔丁酯)、聚(丁二烯(1,4)-嵌段-二甲基硅烷)、聚(丁二烯(1,4)-嵌 段-ε-己内酯)、聚(丁二烯(1,2)_嵌段-丙交酯)、聚(丁二烯(1,4)_嵌段-丙交酯)、 聚(丁二烯(1,4)-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚(异丙烯(1,2)-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚 (异丙烯(1,4)-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚(异丙烯(1,4)-嵌段-2-乙烯基吡啶)、聚(异 丙烯(1,4)-嵌段-甲基丙烯酸甲酯(间规立构))、聚(异丁烯-嵌段-二甲基硅烷)、聚 (异丁烯-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(异丁烯-嵌段-甲基丙烯酸叔丁酯)、聚(异丙 烯-嵌段-ε -己内酯)、聚(异丙烯-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚(苯乙烯-嵌段-4-二吡啶 甲基丙烯酸酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸环己酯)、聚(苯乙烯-嵌段-分散1-丙 烯酸酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸乙酯)、聚(苯乙烯-嵌段-丙交酯)、聚(苯乙 烯-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸Ν,Ν-二甲氨基酯)、聚(苯 乙烯-嵌段-丙烯酸正丁酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸正丁酯)、聚(苯乙烯-嵌 段-甲基丙烯酸正丙酯)、聚(苯乙烯-嵌段-尼龙6)、聚(苯乙烯-嵌段-丙烯酸叔丁 酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸叔丁酯)、聚(苯乙烯-嵌段-ε-己内酯)、聚(苯乙 烯-嵌段-甲基丙烯酸2-胆留醇基氧羰基氧乙酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸2-羟 基乙酯)、聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸2-羟基丙酯)、聚(苯乙烯-嵌段-2-乙烯基批 啶)、聚(苯乙烯-嵌段-4-羟基苯乙烯)、聚(苯乙烯-嵌段-4-甲氧基苯乙烯)、聚(苯 乙烯-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚(α -甲基苯乙烯-嵌段-4-乙烯基吡啶)、聚(4-氨甲基 苯乙烯-嵌段-苯乙烯)、聚(4-甲氧基苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸乙酯)、聚(4-甲氧基苯 乙烯-嵌段-丙烯酸叔丁酯)、聚(对-氯甲基苯乙烯-嵌段-丙烯酸叔丁酯)、聚(2-乙烯 基萘-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(2-乙烯基萘-嵌段-丙烯酸正丁酯)、聚(2-乙烯基 萘-嵌段-丙烯酸叔丁酯)、聚(2-乙烯基吡啶-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(4-乙烯基吡 啶-嵌段-甲基丙烯酸甲酯)、聚(2-乙烯基吡啶-嵌段-甲基丙烯酸叔丁酯)、聚(2-乙 烯基吡啶-嵌段-甲基丙烯酸)、聚(2-乙烯基吡啶-嵌段-ε -己内酯)、聚(2-乙烯基 吡啶-嵌段-二甲基硅氧烷)、聚(二甲本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种吸收性偏光片,包括:纳米复合层,其中,包括光吸收元件或其氧化物或复合物的纳米颗粒选择性地包含在嵌段共聚物中,所述嵌段共聚物具有分别排列在其中的第一嵌段和第二嵌段。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵敏成
申请(专利权)人:东友精细化工有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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