一种连接结构及其制造方法技术

技术编号:10634741 阅读:137 留言:0更新日期:2014-11-12 10:38
本发明专利技术公开了一种用于磁共振成像系统超导磁体的连接结构及其制造方法。所述连接结构包括正极管和冷却块,所述冷却块设置有容纳所述正极管穿过的通孔,所述正极管的外壁和所述通孔内表面之间的空隙填充有绝缘导热胶体材料。本发明专利技术提出的连接结构相比现有的连接结构,结构更紧凑,节省空间;制作方法简单,制作成本也大为降低;力学性能优于现有的连接结构,能够减少由于受力导致结构损坏的情况,避免高额的维修费用,并且一旦损坏也易于更换。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种用于磁共振成像系统超导磁体的连接结构及其制造方法。所述连接结构包括正极管和冷却块,所述冷却块设置有容纳所述正极管穿过的通孔,所述正极管的外壁和所述通孔内表面之间的空隙填充有绝缘导热胶体材料。本专利技术提出的连接结构相比现有的连接结构,结构更紧凑,节省空间;制作方法简单,制作成本也大为降低;力学性能优于现有的连接结构,能够减少由于受力导致结构损坏的情况,避免高额的维修费用,并且一旦损坏也易于更换。【专利说明】 【
】 本专利技术涉及磁共振成像(MRI,Magnetic Resonance Imaging)
,尤其涉及 一种用于磁共振成像系统超导磁体的连接结构及其制造方法。 【
技术介绍
】 超导磁体是磁共振成像系统中的一个重要部件,图1示出了磁共振成像系统的超 导磁体的结构示意图,超导磁体为中间设有空腔的圆环体形状,包括低温保持器4和磁体 10,磁体10位于制冷剂容器5内,并被浸入液态制冷剂8中冷却至超导状态;真空腔9位于 所述低温保持器4与空气接触的两侧最外层,制冷剂容器5位于所述低温保持器4的中间 层;在制冷剂容器5和外部真空腔9之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连接结构,包括正极管和冷却块,所述冷却块设置有容纳所述正极管穿过的通孔,其特征在于,所述正极管的外壁和所述通孔之间的空隙填充有绝缘导热胶体材料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:钱津
申请(专利权)人:上海联影医疗科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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