偏振分离元件制造技术

技术编号:10528482 阅读:172 留言:0更新日期:2014-10-15 10:48
本申请提供一种偏振光分离元件、其制备方法、光照射装置、照射光的方法和制备有序光控取向膜的方法。所述偏振光分离元件相对于紫外线和热具有优异的耐久性,以及低间距依赖性的偏振特性,使得其易于制备。此外,该偏振光分离元件即使在短波长区内也可以实现高偏振度和消光比。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本申请提供一种偏振光分离元件、其制备方法、光照射装置、照射光的方法和制备有序光控取向膜的方法。所述偏振光分离元件相对于紫外线和热具有优异的耐久性,以及低间距依赖性的偏振特性,使得其易于制备。此外,该偏振光分离元件即使在短波长区内也可以实现高偏振度和消光比。【专利说明】偏振分离元件
本申请涉及偏振光分离元件、其制备方法、光照射装置、照射光的方法和制备有序 光控取向膜的方法。
技术介绍
使液晶分子在某一方向取向的液晶取向膜应用于多种领域。作为液晶取向膜,使 用用作经光照射处理的表面并能够使相邻液晶分子取向的光控取向膜。常规上,光控取向 膜可以通过向光敏材料层照射光例如线性偏振光来使光敏材料有序取向而制备。 为将线性偏振光照射至光控取向膜,可以使用多种偏振光分离元件。 例如,作为偏振光分离元件,使用铝的偏振光分离元件在韩国专利申请公布 No. 2002-0035587(参考文件1)中公开。 另外,一般来讲,用于使紫外区的光偏振的偏振光分离元件可以具有间距为120nm 以下的线性栅格图案。
技术实现思路
技术问题 本申请涉及提本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外偏振光分离元件,包括:基板;和凹凸结构,所述凹凸结构具有包含吸光材料的凸出部和包含介电材料的凹入部,所述吸光材料相对于波长为300nm的光的折射率为1至10,消光系数为0.5至10,所述凹凸结构形成于所述基板上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:金台洙朴正岵辛富建金在镇李钟炳郑镇美
申请(专利权)人:LG化学株式会社
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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